Устройство для жидкофазной эпитаксии
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
СОЮЗ СОВЕТСНИХСОЦИАЛИСТИЧЕСНИХРЕСПУБЛИН А 1 51) С 30 В 19/06 ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ полнитель различны ком циклеет участки поршень иметипом рельедопол нител ьно го ей мере двум дип.ф-лы, 2 ил. фов. При этом диаметр поршня равен по.крайн аметрам подложки. 1 эОО Ю ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯМПРИ ГННТ СССР К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВ 1(56) Авторское свидетельство СССР У 890772, кл. С 30 В 19/06, 1980.(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЖИДКОФАЗНОЙ ЭПИТАКСИИ(57) Изобретение. относится к полупроводниковому приборостроению и обеспечивает получение рельефной структуры эпитаксиапьных слоев. Устройство соИзобретение относится к полупро водниковому приборостроению. Цель изобретения - получениерельефной структуры эпитаксиальныхслоев,На фиг. 1 представлено устройстводпя жидкофаэной эпитаксии, разрез;на фиг. 2 -устройство, дополнительный поршень которого на рабочей поверхности имеет участки с различнымтипом рельефов,Устройство содержит контейнер 1 семкостями 2 для исходных раствороврасплавов, Под контейнером 1 в корпусе 3 размещены поршневая камера 4,снабженная поршнем 5, и камера 6 роста, соединенная каналом 7 с поршневой камерой 4. Камера 6 роста снабжена дополнительным поршнем 8, имеющимрельефную рабочую поверхность 9.Под дополнителы ым поршнем 8 раэмеще,801638218 держит емкости для расплавов, поршневую камеру и соединенную с ней каналом камеру роста с подложкой. Отличиеизобретения состоит в том,что камера роста снабжена дополнительным поршнем, Поршень устаНовлен над подложкой и имеетрельефную рабочую поверхность. Дляполучения пленок с различной рельефной поверхностью в одном технологичес. 1на подложка 10, установленная на подвижной подставке 11.Устройство работает следуацим образом.Подложку 1 О размещают на подвижной подставке 11 и устанавливают необходимую величину зазора 12 между подложкой 10 и рабочей поверхностью 9 поршня 8. Величину зазора 12 получают перемещением подвижной подставки 11, в качестве которой используют, например, винт. Затем загружают емкости 2 исходными растворами-расплавами, Устройство нагревают до температуры гомогенизации расплава и после выдержки охлаждают до температуры начала эпитаксии. При этом поршень 8 при помощи штока 13 поднимают, заполняют раствором-расплавом камеру 6 роста через канал 7, поршень 8 опускают, На поверхности подложки 1 О создаютслой раствора-расплава переменной толщины в соответствии с рельефной поверхностью 9 поршня 8. Производят наращивание пленки.Для получения пленок с различным рельефом и различными электрическими свойствами импользуют поршень 8, имекщий участки с различным типом рельефов (фиг. 2). Например, дополни тельный поршень 8 имеет два участка, один из которых содержит углубления круглой формы, а второй - квадратной, Приэтом диаметр дополнительного поршня 8 равен по крайней мере двум диаметрам подложки.Пленки получают следующим образом.Поршень 8 поднимают, заполняют камеру 6 роста расплавом с примесью п-типа, поршень 8 опускают до упора 2 О и производят наращивание ппенки и-типа с рельефной поверхностью. Затем поршень 8 поднимают, камеру 6 роста промывают расплавом с примесью р-типа. Для этого из емкости 2 подают раст вор-расплав р-типа в поршневую камеру 4 и через канал 7 - в камеру 6 роста. Затем поршень 8 поворачивают вокруг оси так, чтобы над подложкой разместить второй участок рельефной поверхности 9 с квадратными углублениями, Поршень 8 опускают и производят наращивание пленок р-типа. Затем поршень 8 поднимают, расплав удаляют.Устройство позволяет уменьшить трудоемкость изготовления полупроводниковых приборов и увеличить выход годных,формула изобретения1Устройство для жидкофазной эпитаксии, содержащее контейнер с емкостью для раствора-расплава, снабженнойпоршнем и соединенной каналом с камерой роста, и подложку, установленнуюна подвижной подставке в камере роста,отличающеесятем, что, сцелью получения рельефной структурыэп итак сиальных слоев, к амер а ро ст аснабжена дополнительным поршнем, установленным над подложкой и имекицимрельефную рабочую поверхность.2. Устройство по и, 1 о т л и -ч а ю щ ее с я тем, что дополнитель -ный поршень имеет на рабочей поверхности участки с различным типомрельефов и диаметр дополнительногопоршня равен по крайней мере двум диаметрам подложки,б 38218 1б Фиг,2 Составитель Н.Давыдова Техред Л,Сердюкова Корректор М.Шароши Редактор А,Маковская Заказ 904 Тираж 257 ПодписноеВНИИПИ Государстве. ного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наг д. 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул. Гагарина, 101
СмотретьЗаявка
4482491, 16.09.1988
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ Г-4367
МАЛКИН ГЕРОЛЬД МИХАЙЛОВИЧ, ЛОЖКИН ВЛАДИМИР АЛЕКСАНДРОВИЧ, ТИМИНА НИНА ИВАНОВНА
МПК / Метки
МПК: C30B 19/06
Метки: жидкофазной, эпитаксии
Опубликовано: 30.03.1991
Код ссылки
<a href="https://patents.su/3-1638218-ustrojjstvo-dlya-zhidkofaznojj-ehpitaksii.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для жидкофазной эпитаксии</a>
Предыдущий патент: Способ получения дисперсных частиц
Следующий патент: Устройство для получения многослойных полупроводниковых структур
Случайный патент: Способ изготовления ленточных проводов