Способ получения суспензии для полирования стеклянных пластин

, 1420933 1)5 С 09 ж ч АНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ ние време ас.3ветлен" ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРГ 10 ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЬГГИИ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВ(56) Авторское свидетельство СССРВ 1261276, кл, С 09 С 1/02, 1984(54) СПОСОБ ПОЛУЧВНИЯ СУСПЕНЗИИ ДЛЯПОЛИРОВАНИЯ СТЕЙЗЯННЫХ ПЛАСТИН(57) Изобретение относится к областимикроэлектроники и может быть использовано при приготовлении суспензийдля полирования стекляннык заготовокФотошаблонов. Изобретение позволяет улучшить качество поверкности стекляннык пластин за счет способа получения суспензии смешением порошка ок" сида церия ХЧ с водой, отделением частиц размером более 4 мкм, введением сернокислого цинка в количестве 0,005-0,01 мас.Х от массы отфильтрованной суспензии, отстаиванием в те 1 5-9че ни й- -гдес-со"сдержание сернокислого цинка, и числитель с, мас,Х, сливом ос ной части суспензии с последующим разведением до плотности 1,22 г/см .1 табл.Изобретеиие относится к областимикроэлектроиики и может быть использовано при приготовлении суспензицдля полирования стеклянных заготовокфотошаблонов,Цель изобретения - улучшение качества поверхности стеклянньгх пластин.Изобретение иллюстрируется примерами и таблицей.П р и м е р 1, В емкость наливают80 л деионизованной воды, добавляют20 кг полировального порошка оксидацерия, После интенсивного перемешнвания суспензию отФильтровывают черезкапроновый Фильтр с размеоом ячейки4 мки. После фильтрования масса ос"тавшейся суспензии составляет 97 кгЗатем в суспензии добавляют 4,85 г 20сульФата цинка (концентрация ХпО всуспензия 0,005 мас,Е) и отстаивают1 5в течение времени 1: = - - - . =- 300 с,0,005После отстаивания сливают осветленную 25часть суспензии, а оставшийся па днеемкости осадок разбавляют деиоггизованной водой до плотности 1,22 г/смэ .Приготовленную полировальную суспензию используют на стадии Финишного 30.полирования стеклянных заготовок Фотошаблонов размером 102 х 102 х 2,4 им,прошедших стадии грубой и тонкойшпиФовки и предварительной полировки.Финишное полирование проводят настанках двухсторонней полировки постандартной технологии,В качестве полировального материала используют замшу синтетическуютехнического назначения поливелкоторую. наклеивают на полировальныедиски с помощью шеллака, Диаметр полировальных дисков б 20 мм, число оборотов дисков 33 об/мин, количествоодновременно обрабатываеьих пластинна одном шпинделе 4 штуки, Давлениена верхний полировальный диск 75 кг,Времл Финишного полирования 20 мин.Во время процесса полирования абразивная суспензия постоянно йодается нагОполировальные диски через отверстиев верхнем диске,После Финишного полирования стеклянные пластины подвергают 15-ступенчатой отмывке с использованием ультразвука, высушивают в парах иэопропнло-55ного спирта и контролируют качествоповерхности в коллимированном пучкесвета,Затем пластины дополнительно отмывают в 10-ступенчатой УЗ-лцпии отмывки и наносят маскирующий слой хрома нли окиси железа. Количество проколов и маскированном слое и невьггравленных точек после стандартного процесса ФотолитограФии оценивают визуально и с помощью микроскопа г 1 ССОпри 50" увеличении.Результаты испытаний приведены втаблице,При содержании сульФата цинка менее 0,005 мас.7. время осаждения рабо чей Фракции значительно возрастает ивесь процесс приготовления суспензиизаметно замедляется. Это приводит ктому, что иэ суспензии осаждаютсл час.тицы разных размеров, что ведетк полидисперснссти гранулометрического состава.При содержании сульФата цинка бо-лее 001 иас,Е рабочая Фракция суспензии обогащается частицащг размеромменее 0,1 мкм, что приводит к ухудшению качества обрабатываемой поверхности з15При времени отстаиваниясчастицы рабочей Фракции (О, 1-4 мкм)не успевают полностью осадиться,.агравулометрический состав полученного осадка заметно ухудшается.9 0При вр ее гани отстаивания-ф-вместе с рабочей Фракцией и осадок попадает большое количество частиц ме"нее 0,1 мкм, наличие которых приводйтк возникновению деФектов в маскирующем слое.Отделение частиц размером более4 мкм можно производить двумя способами: методом Фильтрования через капроновый Фильтр с размером ячейкич мкм, если требуется приготовить абразивнуго суспенэию в небольших коли-,чествах, или методом гидрокпассиФикацни полировального порошка в седиментаторе, если требуются большие количества абразивной сусненэии,Анализ полученных результатов показал, что использование предлагаемого изобретения (см. примеры 1-5) посравнению с прототипом (см. поимер10) характеризуется следующими преимуществами,Повышается качество гюлируемойповерхности (в среднем снчжается коСоавра ние н мвс Л ефекты норованфа лести Дефекты вваскровааомслое,Х Ввводголнын3 еи нросув ка аб- разива рвс вы 4. 5 Э 3, 5Составитель И. Гинзбургнко Техред М,Дидык Корректор А.Обручар Редакт Тираж 419 ВНИИПИ Государственного по делам изобретений и 13035, Москва, Ж, Раув56 Подписноеомитета СССРоткрытийкая наб,д. 4 оизводственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектна Э 4209 личество пластин с растранами, натирами, присушкой, ласинами).Улучшается качество маскирующих слоев (снижается количество проколов, невытравленных точек), что увеличнваэ 5 ет процент выхода годных. Способ получения суспенэии для полирования стеклянных пластин смешением порошка оксида церия (17) с водой, отделением частиц размером бо 33лее 4 мкм, отличающийся тем, что, с целью улучшения качестна пЬверхности, в суспенэию после отделения частиц раэмером более 4 мкм вводят сернокислый цинк в количестве 0,005-0,01 мас,Х от массы отфильтрованной суспенэии, отстаивают в тече 1 5-9 0ние времени С- в где с - сос фдержание сернокислого цинка, мас.й, сливают осветленную часть суспенэии. с последующим разведением осадка водой до плотности 1,22 г/см .