Устройство для дозирования жидкого металла

Номер патента: 1349872

Авторы: Гольдберг, Горн, Гридасов, Котенко, Полищук, Трефняк, Цин

ZIP архив

Текст

(5 ц 4 В 22 Р 39/О ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ АН УСС . П. Пол В. П. Гр(5 ВО ДЛЯ ДОЗИРОВАНИАЛЛА относится к области ли тва, в частности к дозиро 1 еталлов и сплавов с по намического насоса. Цел 4) УСТРОЙСТЖИДКОГО МЕТ(57) Изобретениегейного производсванию тяжелыхмощью магнитод СУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ К А ВТОРСКОМ,/ СВИДЕТЕЛЬСТ(71) Институт проблем литья, 0 288133, кл. В 22 О 39/00, 197 изооретен и я - иовы шеи не произ водительности за счет увеличения средней величины индукции и плотности тока в активной зоне. Для этого в виток металла в области активной зоны вводят вставку 5 из неэлектропроводного материала. Вставка обеспечивает смещение жидкометаллического витка вдоль внешнего электромагнитного поля, перпендикулярно направлению индукционного тока, в область большего по величине распределения индукции. Для повышения плотности тока в активной зоне толщину а вставки выбирают из соотношения 0,25 о ( а ( ( 0,45 о, где б - исходный размер сечения горизонтального участка канала в направлении магнитного поля. Вставка 5 может быть расположена в полости канала 2 либо у его стенки, либо вдоль горизон- И тальной осп. 2 з.п. ф-лы, 3 ил.Изобретение относится к области литейного производства, преимущественно к дозированию расплавов тяжелых металлов исплавов.Целью изобретения является повышениепроизводительности устройства.На фиг. 1 показано устройство для дозирования жидкого металла, общий вид; нафиг. 2 - разрез А - А на фиг. 1, вариант с расположением вставки по оси канала; на фиг. 3 - то же, вариант с 1 Орасположением вставки у стенки канала.Устройство для дозирования жидкого металла содержит тигель 1, сообщающийсяс тиглем плавильный Ш-образный канал 2со съемным днищем, индукторы 3, охватываюгцие боковые участки плавильного канала. Зона соединения центрального вертикального и горизонтального участков каналарасположена в зазоре между полюсными наконечниками электромагнита 4. В полостиканала 2 установлена вставка 5 из неэлектропроводного материала - синтетическогокалиевого фторфлогопита.Устройство работает следующим образом,В тигельи сообщающийся с ним канал 2 заливают расплавленный металл.Включают индукторы 3. В жидкометаллическом витке, замыкающемся по контурутигель - боковой - горизонтальный - боковой участки канала - тигель, индуктируется электрический ток.Для дозирования металла периодическивключают электромагнит 4. При взаимодействии внешнего магнитного поля с индукционным током возникает электромагнитнаясила, под действием которой металл движется по нагнетающему каналу.Неэлектропроводная вставка, изготовленная из синтетического калиевого фторфлогопита, расположена в полости плавильногоканала 2 в зазоре между полюсными наконечниками электромагнита 4. Вставка 5смешает виток жидкого металла вдоль магнитного поля, перпендикулярно направлению 40индуктированного тока, в область увеличения среднего значения магнитной индукции.Среднее значение магнитной индукции Вср вактивной зоне с вставкой увеличивается с0,165 до 0,18 Тл. Кроме того, вследствиеуменьшения сечения витка плотность тока на 4этом участке увеличивается с 6 до 15 А/мм-.Увеличение плотности тока в жидкометаллическом витке и смещение активной зоныв область с большим по величине среднимзначением магнитной индукции обеспечиваютповышение развиваемого давления на 170 -180 оДля каждого типа сплавов величинуэлектромагнитного давления регулируют выбором толщины неэлектропроводной вставки 5. Толщину вставки 5 выбирают из следующего соотношения;0,556 ( а ( 0,756,где а - толщина вставки; 6 - исходный размер сечения горизонтального участка канала в направлении магнитного поля.Опытным путем установлено, что в случае, если толщина вставки выбрана вне указанного соотношенияхарактеристики устрой ства ухудшаются.Вставка 5 может быть расположена по оси горизонтального участка канала 2, Средняя величина магнитной индукции В, при этом увеличивается с 0,165 до О,85 Тл, вырастает также гидравлическое сопротивление металлотракта вследствие влияния электро- динамических сил, которые вызывают вихревое движение расплава, Такое расположение вставки 5 целесообразно применять при использовании устройства для дозирования расплава по времени. В этом случае дополнительное гидравлическое сопротивление активной зоны играет роль демпфера и понижает влияние на точность дозирования переходных процессов, вызванных периодическим включением электромагнита 4.Вставка 5 может быть расположена у стенки горизонтального участка канала 2. Такое расположение вставки 5 целесообразно применять тогда, когда требуются большие скорости заливки расплава, так как в этом случае производительность устройства мак. симальна.Применение изобретения позволяет повы сить производительность устройства в 1,5 - 2 раза и обуславливает возможность разливки широкого диапазона сплавов с различными объемными массами с помощью унифи. цированного устройства в режиме его оптимальных характеристик.Формула изобретения1. Устройство для дозирования жидкого металла, содержащее тигель, сообщающийся с тиглем плавильный Ш-образный канал, боковые участки которого охвачены индукторами, а зона пересечения центрального и горизонтального участков расположена в зазоре между полюсными наконечниками электромагнита, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности, оно снабжено вставкой из неэлектропроводного материала, расположенной в полости плавильного канала в зазоре между полюс- ными наконечниками электромагнита, причем толщину вставки определяют из соотношения 0,55 б ( а ( 0,756,где а - толщина вставки;о - исходный размер сечения горизонтального участка канала в направлении магнитного поля.2. Устройство по п. 1, Отличающееся тем, что вставка расположена по оси канала.3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что вставка расположена у стенки канала.1349872 Фх 2 Фиг делам из кая наб., е, г. Ужго Редактор О. ЮрковецкаяЗаказ 4945/9ВНИИПИ Государствен113035, МПроизводственно-поли Состав Техред Тираж ого комитета сква, Ж - 3 афическое п тель А.И. Верее41СССР поРаушедприят узнецоваКорПо, обр спектор А. Зимокосовписноеетений и открытий45

Смотреть

Заявка

3931954, 19.07.1985

ИНСТИТУТ ПРОБЛЕМ ЛИТЬЯ АН УССР

ТРЕФНЯК ВЛАДИМИР АБРАМОВИЧ, ГОРН РУДОЛЬФ КОНСТАНТИНОВИЧ, ПОЛИЩУК ВИТАЛИЙ ПЕТРОВИЧ, ЦИН МАРК РАХМИЛЬЕВИЧ, ГОЛЬДБЕРГ ЛЕВ САМУИЛОВИЧ, ГРИДАСОВ ВИКТОР ПАВЛОВИЧ, КОТЕНКО ВИТАЛИЙ ФЕДОРОВИЧ

МПК / Метки

МПК: B22D 39/00

Метки: дозирования, жидкого, металла

Опубликовано: 07.11.1987

Код ссылки

<a href="https://patents.su/3-1349872-ustrojjstvo-dlya-dozirovaniya-zhidkogo-metalla.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для дозирования жидкого металла</a>

Похожие патенты