Абразивный круг
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
(71) Киевский завод художественногостекла(56) Альбом конструкций инструментаиз синтетических алмазов. . Киев: ИСМ,1968, вып. 1, с. 115.(57) Изобретение относится к областиизготовления абразивного инструментаи может быть использовано для обработки различных материалов, в частности изделий из стекла. Целью изобретения является обеспечение равномерного износа алмазоносного слоя ОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИ круга, увеличение срока его службы,сохранение заданного профиля кругана все время его эксплуатации. Длясохранения заданного профиля круганеобходимо, чтобы переменная толщинаалмазоносного слоя. круга на любомучастке по ширине его относительноуровня сечения по оси симметрии круга изменялась по закон выраженномусоотношением Я=Я 1-(Ь /В "),гдеБ - толщина алмазоносного слоя в заданном поперечном сечении; Я ,максимальная толщина алмазоносногослоя в поперечном сечении круга пооси симметрии; Н - радиус кривизныпрофиля в поперечном сечении круга;Ь - расстояние от плоскости симмет рии круга до плоскости заданногопоперечного сечения. 3 ил.1303389 то асс Вь Я=Я 1 -- ,манс В40 1Изобретение относится к изготовлению абразивного инструмента.Цель изобретения - обеспечение равномерного износа профильного инструмента. 5На фиг. 1 изображена схема врезного шлифования; на фиг. 2 - профиль впадины, полученной абразивным кругом; на фиг. 3 - профиль изношенногокруга. 10Абразивный круг имеет абразивный (алмазоносный) слой 1, расположенный на корпусе 2, С помощью этого круга в сплошном материале 3 образуют впадину, при этом разные точки поверх ности алмазоносного слоя круга проходят разные пути в обрабатываемом материале. Для обеспечения равномерного износа слоя круга необходимо соблюдение условия 20ЯРмакс максгде 2 (1) - пути, пройденные вмакаобрабатываемом материале участками Я(Я ,Я ,Я ,Я)круга соответственно.а ЯПоскольку 1 =В -й, а Г =В Тогда толщина образивного слоя взаданном сечении определяется по фор-. 35муле где Я - толщина слоя в заданном поперечном сечении;Я- максимальная толщина слоя впоперечном сечении круга 2плоскостью, совпадающей с плоскостью его симметрии;й - расстояние от плоскости симметрии круга до плоскости заданного поперечного сечения;В - радиус кривизны профиля абразивного круга. Расположение абразивного слоя переменной толщины по указанному закону обеспечивает равномерный износ слоя и, следовательно, позволяет более рационально использовать абразив. Формула изобретения Абразивный круг, выполненный в виде профильного корпуса с расположенным на нем абразивным слоем радиус- ного профиля переменной толщины, о тл и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью обеспечения равномерного износа абразивного слоя при образовании канавок в сплошном материале, переменная толщина слоя определена из условия пгде Я - толщина слоя в заданном поперечном сечении; Я - максимальная толщина слоя вмакспоперечном сечении кругаплоскостью, .совпадающей сплоскостью его симметрии;й - расстояние от плоскости симметрии круга до плоскостизаданного поперечного сечения;В - радиус кривизны профиля абразивного круга.1303389 игЗ оставитель ВВоробьевехред М,Ходанич ороль Копча орре Редак 16 56 1 Зака енного м зобретенииа, Ж, Ра о с ород, ул. Проектная оизводственно-полиграфическое предприятие Тир ИИПИ Гасу по делам 3035, Мос
СмотретьЗаявка
3953381, 03.07.1985
КИЕВСКИЙ ЗАВОД ХУДОЖЕСТВЕННОГО СТЕКЛА
ВАСИЛЕНКО ВАСИЛИЙ ИВАНОВИЧ, ПЕРЕРОЗИН МИХАИЛ АБРАМОВИЧ, МАТУСЕНКО ГРИГОРИЙ ШУЛИМОВИЧ, АРБИТМАН ЕФИМ ЗЕВЕЛЬЕВИЧ
МПК / Метки
МПК: B24D 5/00
Метки: абразивный, круг
Опубликовано: 15.04.1987
Код ссылки
<a href="https://patents.su/3-1303389-abrazivnyjj-krug.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Абразивный круг</a>
Предыдущий патент: Устройство для закрепления обрабатываемых деталей на столе шлифовального станка с системой подачи смазочно-охлаждающей жидкости (сож) в зону обработки
Следующий патент: Гибкая абразивная лента
Случайный патент: Якорно-швартовый шпиль