Способ получения рельефного изображения на металле или окисле металла

СО 1 СЭ СОВЕТСКИХКЩИЛЮЮЕСИИИРЕСПУБЛИК 0% О) за) С 03 С 1/7271 ОСУДАРСТВЕКНЫЙ КОМИТЕТ СССРГЮ ДЕЛАМ ИЗОбРЕТЕКИЙ И ОТКРЫТИЙОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ Йаь.;йя,-47), г 250-330 д90" 110 й, г 5-7До 1 крйсталличесорэтан, л К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВ(71) Институт химий нефти Сибирскотделения АН СССР(54)(57) 1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ РЕЛЬЕФНОГО ИЗОБРАЖЕНИЯ НА МЕТАЛЛЕ ИЛИ ОКИСЛЕ МЕТАЛЛАвключающий нанесение наповерхность металла или окисла металла светочувствительной полимернойкомпозиции, высушнвание до образования пленки, экспониронание актиничным светом и удаление пленки с неэкспонированных участков обработкойрастворителем, о т л и ч аю щи йс я тем, что, с целью повышениякачества штрихового изображения,.распространения способа на пдлутоновые изображения, а также упрощения процесса, на указанную поверхность наносят композицию, продукты фотолиза которой растворяют соприкасающиеся с ними участки металлической или металлоокисной поверхности.2. Способ по п. 1, о т л и ч аю щ и й с я тем, что в качестве металла используют никель или окись железа (111), а в качестве светочувствительной композиции " раствор полиакрилата или поливинилкарбазола в органическом растворителе с добав-ками йода или бромоформа.3. Способ по и. 2, о т л й ч аю щи й с я тем, что используютсветочувствительную композицию при следующем содержаний компонентов: Поливинилкарбазол или поликрйлат (ТУ 6-09-4347 Бромоформ, млилиИзобретение относится к фотограФии и Может быть использовано для получения фазовых штриховых и тоновых изображений на металле и окислах металлов, а также в микроэлект ронике и радиоэлектронной технике для изготовления схем печатного мон Тажа, металлизированных фотошабло- Е 1 ОВ И ТгпгНаиболее близким к изобретению 10 является способ получения рельефного изображения на металле или окисле Металла, включающий нанесение на поверхность металла или окисла металла светочувствительной полимерной композиции (фоторезиста), высушивание до образования пленки, экспонирование актиничным светом, растворение экспонированных участков фоторезиста, удаление металла (окисла металла) с участ ков, свободных от фоторезиста, обработкой растворителем (травление) и удаление пленки фоторезиста с неэкспо нированных участков обработкой соответствующим растворителем 11.Недостатками способа являются многостадийность, не всегда удовлетворительное качество штрихового изображения, поскольку трудно регулировать степень травления пленки металла (окисла металла), невозможность получения полутонового изображения.Цель изобретения - повышение качества штрихового изображения,распространение способа на полутоновые изоб-; З 5 ражения, а также упрощение процесса,Поставленная цель достигается тем, что согласно способу получения рельефного изображения на металле или окисО ле металла, включающему нанесение на поверхность металла или окисла металла светочувствительной полимер- ной композиции, высушивание до образования пленки экспонирование акти 45 ничным светом и удаление пленки с неэкспонированных участков обработкой растворителем, на указанную поверхность наносят композицию, продукты фотолиза которой растворяют соприкасающиеся с ними участки металлической или металлоокисной поверхности,В качестве металла используюг никель или окись железа (111), а в качестве светочувствительной компо зиции - раствор полиакрилата или поливинилкарбазола в органическом растворителе с добавками йода илибромоформа при следующем содержаниикомпонентов:Поливинилкарбазолили полиакрилат(ТУ 6-09-4347-47), гБромоформ, мл,илийод кристаллический, г 5"7Дихлорэтан До 1 л 250-300 90-110 П р и м е р 2, Аналогично примеру 1 получают изображение на слое окисла трехвалентного железа, полученного пиролизом на стекле. Характеристики светочувствительного состаСущность предложенного способасостоит в том, что продукты фотохимической реакции окисляют металлили окисел металла, в результатечего он с поверхности растворяетсяв полимере. Возможны различные комбинации металлов и окислов с полимерами и галогенсодержащими фотоактиваторами.П р и м е р 1. 1 г поливинилкарбазола растворяют в 3-4 мл дихлорэтана. В полученный раствор добавляют 1 0,3-0,4 мл бромоформа. Из приготовленного раствора наносят полимерную пленку толщиной 2-3 мкм на слой никеля толщиной 0,10-0,15 мкм, напыпен. ного на диэлектрическую подложку. Полученный пленки сушат в темноте в течение 30-40 мин при комнатной температуре. Светочувствительный состав экспонируют Уф"светом черезфотошаблон контактным способом,В качестве источника Уф-излученияиспользуют ртутную лампу ПРК.Освещенность регистрируется люксометром Юи составляет 50000 лк.Время. экспонирования подбираетсяэкспериментально и при данной освещенности для полного фотохимическоготравления 0,1-0,15 мкм слоя никелясоставляет 25-30 мин, По окончанииэкспонирования полимерная пленка смывается диметилформамидом или диоксаном. В местах действия Уф-света происходит растворение металла в голимере и на слое никеля появляется рельефное иэображение. Разрешение неменее 50 мкм. Аналогичным способомполучают полутоновое изображение наслое никеля при экспонированииУФ-светом через соответствующий негатив, например на фотопленке "Фото".1107099 Составитель В. КондратьевРедактор С. Патрушева Техред А.Ач Корректор Е. Сирохман Заказ 5756/33 Тираж 464 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 ва аналогичны примеру 1. Время травления 0,1 мкм слоя окисла трехвалентного железа составляет 40-50 мин при освещенности 50000 лк.П р и м е р 3. 20-25 мг кристаллического йода растворяют в 3-4 мл дихлорэтана. К полученному раствору добавляют 1 г поливинилкарбазола.Из раствора на 0,1.мкм слой окиси трехвалентного железа, полученного пиролизом пленки железа на стекле, наносят двухмикронную пленку светочувствительного полимера, сушат в темноте в течение 30-40 мин и экспонируют 40-50 мин Уф-светом через фотошаблон контактным способом, Освещенность составляет 50000 лк. По окончании экспонирования полимерную пленку смывают полярным растворителем, например диметилформамидом или диоксаном. На слое окисла железа полу. чают рельефное изображение фотошаблонаП р и м е р 4. 1 г полиакрилата растворяют в 5 мл дихлорэтана. К полученному раствору добавляют 0,3- 0,5 мл бромоформа. На слой никеля толщиной 0,10-0,15 мкм, напыленного на диэлектрическую подложку, наносят полимерную пленку толщиной 2-3 мкм,сушат в темноте 20-30 мин и экспонируют Уф-светом через штриховой фото- шаблон. Время экспонирования, необходимое для полного удаления слоя 5 никеля толщиной 0,10-0,15 мки, составляет 5-7 мин при освещенности 50000 лк.. П р и м е р 5. Аналогично приме ру 4 проводят процесс фотохимическоготравления слоя окисла трехвалентногожелеза, пиролизованного на стекле.Время травления 0,1 мкм слоя окислажелеза при освещенности 50000 лк 15 составляет 10-12 мин.Процесс фотохимического травленияреализуется, вероятно, путем взаимодействия реакционноспособных свободных радикалов, образующихся при фо" 20 толизе бромоформа или йода под действием Уф-света, с атомами металла.Простота технологического процесса, доступность и дешевизна исходныхкомпонентов, при помощи которых ре ализуется предложенный способ, позволит значительно упростить известный процесс фотолитографии и обеспечить получение качественных печатныхформ на металле и окислах металла.