Устройство для литья керамической пленки

(19) (11) ГОСУДАРСТВЕННОЙ НОМИТЕТ СССРПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯН АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ(56) 1. Авторское свидетельство СССР В 614823, кл. В 05 С 5/02, 1977.2. Авторское свидетельство СССР Н, кл, В 05 С 5/02, 1978.(54)(57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛИТЬЯ КЕРАМИЧЕСКОЙ ПЛЕНКИ, содержащее неподвижный стол с перемещающейся по нему технологической подложкой, установленную над ними литьевую воронку и систему автоматического регулирования уровня шликера в воронке, включающую расходный резервуар для шликера и дозирующий орган, сообщаюЗ(511 В 28 В 1/26 В 05 С 5/02 щиеся друг с другом через литьевуюворонку, о т л и ч а ю щ е е с ятем, что, с целью повышения стабильности толщины отливаемой пленки иупрощения системы автоматическогорегулирования уровня шликера, выходная горловина расходного резервуараснабжена дросселем регулирования количества подаваемого в воронку шли.кера и расположена выше установленного уровня шликера в воронке, адозирующий орган выполнен в видедополнительной герметичной емкостидля шликера, выходная горловина которой расположена ниже установленного уровня шликера в воронке иснабжена регулировочным краном дляподпитки шликера в воронку.40 45 50 55 Изобретение относится к конструкции устройств для изготовления пленочных покрытий, в частности для получения керамических пленок, и может быть использовано в электронной промышленности.Известно устройство для литья пленки, содержащее стол с технологической подложкой, литьевую воронку, сообщающуюся с емкостью для шликера, и систему регулирования расхода шликера1 3. Однако данное устройство не обеспечивает получения пленки стабильной толщины вследствие того, что давление вытеснения образовано только гидростатическим давлением шликера в литьевой воронке (фильере), которое значительно изменяется по мере его расходования.Наиболее близкими к предлагаемому устройству являются устройствадля литья, содержащие стол, технологическую подложку, закрепленную над ними литьевую воронку, сообщающуюся с реэ ервуаром для шликера, и систему автоматического регулирования расхода шликера, например пневмосистему, упругий элемент в виде сильфона.Известные устройства повышают стабильность толщины отливаемой пленки и обеспечивают условия автоматизации процесса литья2 1.Однако системы регулирования расхода шликера, в частности поддержания его постоянного уровня в литьевой воронке, обеспечивающие непрерывность процесса литья и стабильность толщины получаемых пленок, сложны, что затрудняет их применение.Цель изобретения - повышение стабильности толщины отливаемой пленки и упрощение системы автоматического регулирования уровня шликера.Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для литья керамической пленки, содержащем неподвижный стол с перемещающейся по нему технологической подложкой, установленную над ними литьевую воронку и систему автоматического регулирования уровня штикера в воронке, включающую расходный резервуар для шликера и дозирующий орган, сообщающиеся друг с другом через литьевую воронку, выходная горловина 5 10 15 20 25 ЗО 35 расходного резервуара снабжена дросселем регулирования количества подаваемого в воронку шликера, и расположена выше установленного уровняшликера в воронке, а доэирующий орган выполнен в виде дополнительнойгерметичной емкости для шликера,выходная горловина которой расположена ниже установленного уровняшликера в воронке и снабжена регулировочным краном для подпитки шликера в воронку.На чертеже изображено предлагаемое устройство.устройство содержит неподвижньйстол 1 с перемещающейся по немутехнологической подложкой 2, установленную над ними литьевую воронку 3 (фильеру) и систему автоматического регулирования уровня шликера в воронке 3, включающую расходный резервуар 4 для шликера, снабженный заправочной воронкой 5, выходной горловиной 6 с дросселем 7 регулирования количества подаваемогов воронку 3 шликера, и дополнительную заполненную шликером герметичную с помощью крышки 9 дозирующуюемкость 8, сообщающуюся через воронку 3 с резервуаром 4, выходнаягорловина 10 которой снабжена регулировочным краном 11 для подпиткишликера в воронку 3 по мере паденияуровня шликера в ней за счет уменьшения гидростатического давленияпри расходовании шликера иэ воронки3, поступающего в нее из резервуара 4,В данйом случае скорость поступления шликера иэ расходного резервуара 4 в литьевую воронку 3 регулируется дросселем 7 и устанавливается меньшей, чем скорость его вытекания из воронки 3, а уровень шликера в ней настраивается выше горловины 10 доэирующей емкости 8 и ниже (с некоторым зазором Н) выходной горловины 6 резервуара 4, что обеспечивает поддержание постоянного уровня шлихера в воронке 3 эа счет дополнительного автоматйческо" го поступления в нее порции шликера иэ емкости 8 по мере расходования шликера через воронку 3 из резервуара 4,Предлагаемое устройство работаетследующим образом.Составитель А. ПотаповаРедактор Ю. Ковач Техред Л, Мартяшова Корректор О.Тигор Заказ 3716110 Тираж 572 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб д, 4/5Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 3 10При закрытом кране 11 заполняютдозирующую емкость 8 шликером и герметично закрывают ее крышкой 9, Затем заполняют шликером расходныйрезервуар 4, заправочная воронка 5которого сообщается с окружающей атмосферой. Далее регулировочным дросселем 7 устанавливают подачу шликера в литьевую воронку 3 таким образом, чтобы его поступление в воронку 3 было меньшим расхода из нее.При этом уровень шликера в воронке3 устанавливается так, чтобы он перекрывал выходную горловину 10 дозирующей емкости 8 и имел некоторыйзазор Н с выходной горловиной 6 расходного резервуара 4. После этогооткрывают кран 11 герметичной емкости 8, приводом (не показан) приводятв движение технологическую подложку 2 и производят разлив шликерана нее известным способом,При этом при уменьшении в процессе литья количества шликера в воронке 3, приводящем к падению установленного в ней уровня шликера,96107 4вступает в работу доэирующая емкость8, иэ которой дополнительная порцияшликера через горловину 10 поступает в воронку 3 и восстанавливаетзаданный уровень шликера и величинугидростатического давления в нейнезависимо от количества шЛикера врасходном резервуаре 4, При достижении установленного уровня шликера 1 О в воронке 3 эа счет восстановленияпервоначального гндростатическогодавления подпитка шликера в воронку3 и емкость 8 прекращается. Далеепо мере расходования шликера циклподпитки повторяется в процессе всего литья автоматически.Применение предлагаемого устройства в производстве многослойных керамических конденсаторов в сравнении с известными обеспечивает повышение производительности литья в1,5-2 раза и выхода годной пленкина 30-507., а также сокращение расхода материалов на 25-303 при одновре"менном снижении трудоемкости процесса и улучшении качества изделий.