Шуруп

Номер патента: 1239554

Опубликовано: 23.06.1986

Авторы: Воробьев, Емельянова, Майрановский, Попов

МПК: G01N 15/02

Метки: поверхности, сыпучих, удельной

...свою очередь, соединены с входами сумматоров 18 и 19 массы иобщей поверхности соответственно,а вы- З 5ходы последних подключены к входам блока: 20 деления,. сигнал с выхода которого поступает на регистрирующий прибор 21 и в систему автоматического управления технологическим процессом. щ Синхронизация работы элементов устройства, пробоотборника и системы подачи-удаления рабочей ящцкости осуществляется с помощью блока 22 управления. 45 Устройство работает следующим образом.Рабочая жидкость (например, вода или естественный солевой раствор) постоянной температуры, поддерживаемой терморегулятором 10 из резер. вуара 5 подается по трубе б в осадительный цилиндр 2 с расположенной соосно с ним и смонтированной внутри него прозрачной трубой 3,...

Номер патента: 1744115

Опубликовано: 30.06.1992

Автор: Джумагалиев

МПК: C14B 15/00

Метки: орган, поверхности, рабочий, устройства, эластичных

...рабочей пружины. 1 з,п.ф-лы, 6 ил.деленное соотношение этих кисточек, в зависимости от требуемого усилия захвата.Усилие захвата зависит от трения, набранных иэ соответствующего материала, - кисточек об обрабатываемый материал, 5Нижний щеточный барабан 8 вращается всторону, противоположную вращению верхнего щеточного вращающегося барабана,посредством передачи от привода,Рабочий орган работает следующим образом.Барабаны, прижатые друг к другу спиральными круглыми пружинами, имеютмежду своими поверхностями регулируемый зазор, меньше которогобарабаны не 15сойдутся. При работе станка барабаны недолжны расходиться и выходить из зацепления с обрабатываемой шкуркой и в то жевремя при попадании в зазор между барабанами различных утолщений на...

Номер патента: 346644

Опубликовано: 01.01.1972

Автор: Мин

МПК: G01N 15/08

Метки: поверхности, сыпучих, удельной

...и по его величине судят об удельной поверхности взвешенного в потоке материала.При измерении удельной поверхности по этому способу исследуемый материал непрерывно отбирают из технологического потока и с помощью дозатора, для обеспечения постоянной объемной концентрации материала в потоке, подают в измерительный газовый поток, проходящий с заданной скоростью через зону коронного разряда между измерительными электродами. Разрядный ток в промежутке между электродами обусловлен движением газовых ионов под действием электрического тока от одного электрода к другому.При прохождении пыле-газовой смеси через зону коронного разряда часть ионов захватывается пролетающими частицами, в результате чего разрядный ток уменьшается. Изменение...

Номер патента: 621965

Опубликовано: 30.08.1978

Авторы: Гайдучик, Головченко, Иванов, Павленко

МПК: G01B 15/04, G01F 23/288

Метки: поверхности, профиля, сыпучих, уровня

...измерения. Устройство состоит из блока 1 источника гамма-излучения, содержащего источник аннигиляционного гамма-излучения и д; - текторы 5 и 4, блока о приемника, содержащего один детектор, схеьы о распознаВания сигналов детекторов, устроиства задержки импульсов, Олока 8 упраВленн 51 11 ссрвонриводов 9 и 10.Устройство работает следующим образом.Блок 1 источника излучения оолучаег контролируемую поверхность двумя кол,щмированными пучками аннигиляционного гамма-излучения и поворачивается вокруг своей оси так, что облученные зоны перемещаются по контролируемой поверхности В направлении на олок 5 приемника, 11 рп зтом детекторы 3 и 4 регисрируюг соо.- Ветствующие потоки ашигнляционного гав- ма-излусни 51 противопоаОжпого папраВлспи 51....

Номер патента: 880768

Опубликовано: 15.11.1981

Авторы: Золотовский, Киселевский, Московский, Науменко, Шиманович, Шипай

МПК: B28D 1/00

Метки: высокотемпературной, диэлектрических, поверхности

...А-А на фиг. 1.5Устройство для высокотемпературной обработки поверхностей диэлектрических материалов состоит из анода 1 н катода 2, выполненных в виде графитовых стержней и содержащих приводы 3 вращения их вокруг собственных осей, блока 4 прижатия плазменного шнура 5 к обрабатываемой поверхности 6, привода 7 движения устройства относительно обрабатываемой поверхности 6 и привода 8 возвратно-поступательного перемещения блока 4 над об Б рабатываемой поверхностью 6.Устройство работает следующим образом.При включенном магнитно-механическом блоке 4 прижатия плазменного шнура 5 на аноди катод 2 подают постоянное напряжение и осуществляют поджиг разряда. Устройство подводят к обрабатываемой поверхности 6 изделия на заданное рассгояние и,...