Устройство для травления металлических пленок

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ пц 4473 Союз Советскик Соииалистических Республик.75 (21) 2189586/2 с присоединением заявки Государственный комите Совета Министров СССР(23) Приорите убликовано 30.0 7. Бюллетень4 К 621.396. (088.8) по делам изобретен и открытий(54) УСТРОИС ТРАВЛ ПЛЕНО МЕТАЛЛИЧЕС Изобретение относится к радиоэлектронной промышленности и может быть использовано при производстве пленочных резисторов, конденсаторов и микросхем,Известно устройство, использующее анодную головку для нанесения гальванических покрытий на металл, Основными конструктивными элементами данного устройства является корпус, анод, ввод для электролита и тампон 1.Однако это устройство предназначается . только для монополярного включения обрабатываемой детали в электрохимическую цепь, т. е, или только в качестве катода, или только в качестве анода.Цель изобретения - повышение равномерности травления.Это достигается тем, что в устройстве для травления металлических пленок, содержащем подвижные электроды с закрепленными на них тампонами, смоченными электролитом и соединенными с источником переменного тока, электроды выполнены прямоугольного сечения и размещены на общем изоляционном основании, причем расстояние между электродами равно ширине тампонов.На чертеже представлены общий вид устройства и схема включения в электрическую цепь стравливаемой пленки.Устройство состоит из корпуса (основание) 1, выполненного из изоляционного материала; двух одинаковых электродов 2 из проводников первого рода, смонтированных на корпусе 1 и подключенных к источнику переменного тока; двух одинаковых тампонов 3 из пористого материала (фетр, войлок), смоченных электролитом и контактирующих с электродами; стравливаемой пленки 4; изоляционной прокладки 5.Материал электродов выбирается таким образом, чтобы они могли работать в качестве катодов и в качестве нерастворимых анодов в одном и том же электролите. Степень смачивания тампонов, выраженная отношением веса тампона после и до смачивання, должна быть в пределах 1,5 - 2,0.Устройство работает следующим образом.Биполярный блок приводится в соприкосновение со стравливаемой пленкой 4, вручную или механически обеспечивается относительное перемещение блока и пленки, Тампоны блока имеют площади касания с пленкой в виде симметрично расположенных прямоугольников, между которыми заключен участок пленки, шириной ав, При включении тока электрохимическая цепь замыкается по схеме: один полюс источника тока - электрод в тампон 3 - стравлпваемая пленка 4 - тампон 3 - электрод - другой полюс источника тока. Электрохимические процессы идут544713 ной степени смачиванггя тампонов. Большое сопротивление шунтирующей цепочки обеспечивает возможность непрерывного измерения величины сопротивления стравливаемой пленки с высокой точностью. Устройство для травления металлических 10 пленок, содержащее подвижные электроды сзакреплвнныуги на них тампонами, смоченными электролитом и соединенными с источником переменного тока, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения равномерности травле ния, электроды выполнены прямоугольного сечения и размещены на общем изоляционном основании, причем расстояние между электродами равно ширине тампонов.Источники информации, принятые во вни мание при экспертизе.1. Лвт. св. СССР ЛЪ 378535, кл. С 23 В 1/00,19 б 3 (прототип). Составитель О, Богомоло Техред Л, ГладковаРедактор Е. Караулова оррсктор Л. Брахпина Тираж 1124Совета Министрови открытийская наб., д. 4/5 Изд.15 о НИИПИ Государственного комитета по делам изобретений 113035, Москва, )К, РаушЗаказ 126 ПодписСР ипография, пр. Сапунова,на границах электродов с тампонами и тампонов со стравливаемой пленкой. В любой зафиксированный момент времени один электрод является катодом ( - ), участок пленки под контактирующим с ним тампоном до середины ав - анодом (+), второй электрод - анодом (+), а соответствующий участок пленки - катодом ( - ), Таким образом, пленка 4 травится в результате протекания катодно-анодных процессов на площади касания тампонов. Полярность электродов и участков пленки меняется с частотой, равной частоте рабочего тока. Равномерность травления обусловливается идеальным распределением плотности тока по поверхности пленки в силу того, что в любом сечении сопротивление указанной выше электрохимической цепи складывается из равноценных составляющих, а величина шунтирующего тока по схеме: электрод - тампон - пленка электролита на стравливаемой металлической пленке - тампон - электрод ничтожно мала при выбранФормула изобретения