Устройство для получения низкотемпературной плазмы
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
оюз оеетскнхоиалистичеакиРеопубоик ИЗОБРЕТЕН ИЯ И АВ 1 ОРСКСМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ(61 е к авт. саид-ву74,21) 2044061/26-25 лнительн 51) 1. Кл.- Н 05 п ая,л но 12.0 присоединсшсм заявки Государственный комите 23) Приорите Ми тров СССРобретений вано 15,11.75, Бюллетень4 53) УДК 533,9(088.8Опублик(45) Дат елам и крытий бликования описания 04.04 2) Авторы изобретения Низьев Д. Малюта и(71) Заявител 54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕН Н И 3 КОТЕМП ЕРАТУР НОЙ ПЛАЗМ В. Ю. Баранов, В, М. Борис Изобретение предназначено для создания Од 1 ородной низкотемпературной плазмы в потоке газа в частотном режиме в особе;ности для ипщиирования плазм-химическ;х реакций, оно может быть применено также в газоразрядиых лазерах.Известно устройство для получения низкотсмиературиой плазмы, выполненно" в виде проточной газовой камеры, содсржящей расголоженпые иа торцевых плоскостях отверстия для Входа и выхода газа, основные и вспомогательные электроды.В этом устройстве осиовиыс электроды представляют собой дв" гладкие металлические болванки с ЗЯ 1 сруГленых по профп.110 Роговского краями и расположены так, что основной разряд орит поперек потока Газа. Ьсиомогатслыые э:ектроды 1 асположены на некотором расстоянии от основных с одной ИЛИ С ООС 1 Х СТОРОН ОТ НИХ И ПОДКЛЮЧЕНЬ Е- рсз конденсаторы к основным.Однако при использовании известного устройства иевозмокно при определенной скорости потока увели Пить частоту повторения импульсов выше некоторого предела. Этот предел обусловлен двумя причинами.Первая - это нагрев газа ударными волнами, В момент импульсного разряда в разрядной области возникают ударные волны, распространяющиеся вверх и вниз по пооку, нагревая, в частности, ту порцию газа, которая выносится ютоком в межэлектродную область к моменту след; юцего разряда. Про;сходящее тЯкоплен;е тепла От импульса и импу;ьсу 11 риводит к непреву газа в разрядной област:1 до температур, при которых генерация лазера либо неэффективна, либо прекращается. Нагрев газа приводит также к образоваии 10 дГги ВслсдстВие теплоВОЙ ВустОЙчивости 1 изкотемпсратурОЙ плазмы.Вторая при Пина - наличие градиента температры Газа, направленноГО ПО потокъ Газа перед разрядом. Неоднородность температур ого распределе ия по сечению разряда привод 1 к неустойчиВОму состояниО разряда с иреимущестьсПым дугообразованием на краях электродов, у которых температура газа выше. Нсобход:.;о длительное время продуВаь разряднуО Ооласть потоком Газа, тобы градиент температуры газа стал настолько мал, что не оказывал бы влияния на однородность пробоя разрядного промежутка. Это ограничивает частоту следования импульсов.Целью предполагаемого изобретения является увеличение частоты повторения разряда.Это достигается тем, что в предлагаемом устройстве о. Новныс электроды выполнены в виде решеток, закрывающих отверстие для Входа и выхода газа, причем решетка элен;.ПодписноеСР Тираж 803Совета Министрови и открышпуп:ская иао., д. 4/о аказ 902/91-1 П ИздчЪ 304осударствсипого ко ио дслаги изо 13035, Москва, Ж п.тот ротс, 35, Р Типографии, пр. Сапунова,рода, установленного на входе газа в камеру может иметь проницаемость не более 0,3,На чертеже показано предлагаемое устройство.Основной электрод 1 с присоединенными к нему конденсаторами 2 установлен на входе газа в камеру 3, а основной электрод 4 на выходе газа из камеры. Конденсаторы 2 соединяют вспомогательные электроды 5 с основными, Питание системы осуществляется от выпрямителя 6.Трубопровод 7 и компрессор 8 служат для создания потока газа.К основным электродам 1 и 4 присоединен накопительный конденсатор 9 через разрядник 10.Устройство работает следующим образом.Включают поток газа компрессором 8, включают выпрямитель б, заряжа 1 от емкость 9, Осуществляют периодическое замыкание цепи разрядником 10. Прежде всего зажигаются дуги вспомогательных разрядов, создавая ультрафиолетовую предиопизацию. Далее происходит разряд емкости 9 через разряд между основнымн электродами 1 и 4. Такая конструкция препятствуют распространению ударных волн вверх по потоку газа, Температурньш градиент направлен при этом от одного электрода к другому, исключая температурные неоднородности по площади электродов, Это приводит к более устойчивому го рению разряда. Для обновления смеси необходимо выдувание нагретого газа только из разрядной области, что позволит увеличить частоту следования импульсов вплоть до 1=, где- частота, У - скорость прокачки 10 бгаза, б - расстояние между электродами. Формула изобретения1. Устройство для получения низкотемпера 15 турной плазмы, выполненное в виде проточной газовой камерь 1, содержащей расположен:ые на торцевых плоскостях отверстия длявхода и выхода газа, основные и вспомогательные электроды, о т л и ч а ю щ е е с я тем,20 что, с целью увеличения частоты повторенияразряда, основные электроды выполнены в виде решеток, закрывающих отверстия для входа и выхода газа.2. Устройство по п. 1, отличающееся25 ,ем, что рсщетка эл:ктрода, установленного1;а входе газа в камеру, имеет проницаемостьнс более 0.,3,
СмотретьЗаявка
2044061, 12.07.1974
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ А-1758
БАРАНОВ ВЛАДИМИР ЮРЬЕВИЧ, БОРИСОВ ВЛАДИМИР МИХАЙЛОВИЧ, МАЛЮТА ДМИТРИЙ ДМИТРИЕВИЧ, НИЗЬЕВ ВЛАДИМИР ГРИГОРЬЕВИЧ
МПК / Метки
МПК: H05H 1/00
Метки: низкотемпературной, плазмы
Опубликовано: 15.11.1975
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-492059-ustrojjstvo-dlya-polucheniya-nizkotemperaturnojj-plazmy.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для получения низкотемпературной плазмы</a>
Предыдущий патент: Устройство для питания импульсной газоразрядной лампы
Следующий патент: Состав для предупреждения и устранения дефицита металлов в растениях
Случайный патент: Устройство управления световыми эффектами