Установка для литья расплавов под низким давлением с газовым противодавлением
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
) 46 ЗМЗ Соее Советских Социалистических Республик(61) Дополнительное к авт. свид-ву 7/14 1) 1984690 22-2 1)М, Кл, В 2) Заявлено 10.01,7 присоединением заявкиасударствениый комитет Совета Министров СССР(088.8) юллетеньелем изобретени открытий Дата опубликования описания 21.04., И. Карбовский, А. М. Ляпусти Р, Л, Снежной и И, Д. Буяджи вательский институт специальны) Заявитель Научно-иссл пособов литья 54) УСТАНОВКА ДЛЯ ЛИТЬЯ РАСПЛАВОВ ПОД НИ ДАВЛЕНИЕМ С ГАЗОВЫМ ПРОТИВОДАВЛЕНИЕ(72) Авторы изобретения И. С, Вавилов, И Изобретение относится к литеиному производству, в частности к оборудованию для литья под низким давлением с газовым противо- давлением.Известные установки для литья с противо- давлением снабжены герметизированными печами большого объема, в которых помещается тигель с расплавом и металлопровод, сообщающий тигель с литейной формой, расположенной в герметичной заливочной камере.Низкая производительность известных установок обусловлена возможностью одновременной заливки расплава только в одну литейную форму, а также длительностью технологического цикла повышения и сброса давления газа в камере печи, что связано с большим объемом печи и ограничениями скорости роста давления газа в ней, ввиду опасности самопроизвольного перелива расплава через металлопровод в заливочную камеру. Последнее частично может быть устранено, если металлопровод снабдить регулируемым клапаном, помещенным в камере печи. Однако клапан на металлопроводе не работоспособен в условиях действия высоких температуры и давления и контакта с жидким металлом, что снижает надежность всей установки.Описываезая установка отличается тем, чтораздаточная емкость с расплавом выполнена в виде герметичного коллектора, снабженного 2приемной камерой с герметичной крышкой и трубопроводом подачи сжатого газа, Это увеличивает производительность и надежность установки в работе. Кроме того, герметичный 5 коллектор может быть снабжен теплоизолированным кожухом с системой обогрева.На чертеже показана описываемая установка.Она включает раздаточную емкость 1 с рас плавом, литейную форму, состоящую из верхней 2 и нижней 3 полуформ, разделительную плиту 4, металлопровод 5, пневмосистему для подачи сжатого газа (на чертеже не показана) с регулируемыми вентилями 6,и 8.15 В отличие от известных, на разделительнойплите 4 описываемой устанэвки располагаются несколько герметичных камер 9, в которые помещены литейные формы, заливаемые расплавом одновременно. Для этого установка 20 снабжена коллектором 10 расплава, с которым сообщаются металлопроводы 11. Коллектор оборудован приемной камерой 12, в верхней части которой имеется герметичная заслонка 13, а ниже уровня заслонки распола гаются трубопроводы входа и выхода сжатого газа с вентилями 14 и 15, а также электроконтактпый датчик 16 уровня расплава; кроме того, он имеет элемент электрообогрева 17.Кожух 18 внутри покрыт слоем тепловой изо ляции 19 и соединен через вентиль 20 с пнев.15 Предмет изобретения Составнтелв Г. Кибовский Текрсд И, СеменовКорректор Е. Рогайлина Редактор 11, Торина Заказ 953,7 Изд.1181 Тиоагк 833 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, Ж, Раушская наб., д, 4/5Типография, пр. Сапунова, 2 мосистемой установки и гермети:и;о - с коллектором. Трубопроводы с вентилями 1, б, 7 сообщают заливочные камеры:,:с:1:ду собой, а также с приемной ка.,;ероу 12 и ппсвмоспстемой установки.Б исходном положении литейные фор: ы собраны, кг:еры 9 закрыты, заслонка 18 открыта. Расплав из раздаточной емкости 1 заливается в приемную камеру 12. Когда уровень расплава в приемной камере поднимется до электроконтактного датчика 1 с, последний замыкает контакты регулирующего устройства, прекращающего подачу расплава в приемную камеру. Возможен другой вариант заливки определенной порции расплава в приемную камеру, при котором порция залпВаемого расплава Отмеряется самосгоятельным дозатором, не связанным с этой камерой. Затем заслонка 18 закрывается и с Одинаковой скоростью ппевмосистема повьгшает давление газа в камерах 9, кожухе 18 и приемной камере 12. При достижении требуемого давления Р закрытием вентиля б подачу газа в камеры 9 прекращаюг, а в камеру 12 и кожух 18 - продолжают до достижения определенного давления Р,. Расплав под действием разности давлений Р, - Р вытесняется из приемнои камеры В коллектор и по металлопрОВОда.1 запОлп 5 Ст литейные формы, После технологи 1 ескоп Выдерзкки для затвсрдевания отливок, давление в камерах 9 и 12 уравнивают, а затем сбрасыают до атОсферного. Давление сжатого газа в кожухе 18 при этом может быть также сброшено, После раскрытия камер 9, разборки литейных форм и удаления отливок, формы в;1 овь собираот, камеры 9 герметизируют, и цикл работы установки повторяется. Таким соразом, 12 ОписываемОЙ устанОВксодновременно можно заливать несколько литейных форм и, так как Объем незаполненноЙ расплавом приемноЙ камеры инмае, зна чнтельно сокращается время создания требуемого давления сжатого газа перед и в процессе заполнения форм. Зто значительно повышает производительность установки, по сравнению с известными. Заслонка 13 в про цессе работы не соприкасае ся с расплавом,что увеличивает надежность и безопасность установки в работе. 1. Установка для литья расплавов под низким давлением с газовым противодавлением,20 Включающая раздаточную емкость с расплавом, дозатор, пневмосистему подачи сжатогогаза, герметичные камеры для литейных форми металлопроводы, о т л и ч а ю щ а я с я тем,что, с целью увеличения производительности2 о и надежности установки в работе путем заливки одновременно нескольких литейныхформ, раздаточная емкость с расплавом выполнена в виде герметичного коллектора,снабженного приемноЙ камерой с герметич 3 п ной крышкой и трубопроводом подачи сжатого газа, причем уровень расплава в приемной камере расположен ниже уровня верхних торцов металлопроводов и ниже уровнятрубопровода подачи сжатого газа в нее.35 2. Установка по и, 1, отличающаясятем, что герметичный коллектор снабжен теплоизолирОВанным кожухом с системоЙ Обогрева,
СмотретьЗаявка
1984690, 10.01.1974
НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ СПЕЦИАЛЬНЫХ СПОСОБОВ ЛИТЬЯ
ВАВИЛОВ ИГОРЬ СТЕПАНОВИЧ, КАРБОВСКИЙ ИОСИФ ИЛЬИЧ, ЛЯПУСТИН АФАНАСИЙ МИХАЙЛОВИЧ, МИКОТИН ЕВГЕНИЙ ЕМЕЛЬЯНОВИЧ, СНЕЖНОЙ РОСТИСЛАВ ЛУКЬЯНОВИЧ, БУЯДЖИ ИВАН ДМИТРИЕВИЧ
МПК / Метки
МПК: B22D 27/14
Метки: газовым, давлением, литья, низким, противодавлением, расплавов
Опубликовано: 15.03.1975
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-463513-ustanovka-dlya-litya-rasplavov-pod-nizkim-davleniem-s-gazovym-protivodavleniem.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Установка для литья расплавов под низким давлением с газовым противодавлением</a>
Предыдущий патент: Способ нанесения легирующего покрытия
Следующий патент: Устройство для уплотнения порошковых материалов
Случайный патент: Механизм задержки электрического импульса кииокопировального аппарата