ZIP архив

Текст

О П И С А Н И Е 388242ИЗОБРЕТЕН ИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советских Социалистических Республик(1 ие 1491179/23-4)явки1. Кл. 6 ОЗс 1/ Заявлено 1 З,Х 1.1971 с присоединением 3 Государственный ко Совета Министров: ;: " С ТЕКА вторызобретен А. П, Мартыненко и Ю. А. Поп Заявител СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПРОТИВООРЕОЛЬНОГО СЛОЯ ний), При появл лочной проявител понентами проти воримый в щелоч лота, что привод работки фотослоя ражения из-за а фсторезистом. ении таких материалов щеь загрязняется такими комвоореольного слоя, как расти полимер, красител 1 ц кисит к нарушению режимов оби ухудшению качества изоббсорбции молекул красителя Изобретение касается способа изготовления противоореольного слоя и может быть использовано в фотолитографии и фотографии.Известен способ изготовления противоореольного слоя для кинофотоматериалов прц 5 применении композиций, содержац,их желатину или полимеры и краситель, поглощающий актиничный свет и вымывающийся проявителем или закрепителем. Однако при известном способе изготовления противоореольного слоя 10 рН проявителя или закрепителя необходимо устанавливать так, чтобы в них эффективно растворялся краситель противоореольного слоя. При этом качество проявителя и закрспителя быстро ухудшается, что приводит к ца рушению режимов обработки фотослоя,рый загрязняется красителем. Кроме того, осветленная пленка желатицы, нанесенная ца не содержащую фотослой поверхность основы, не снимается и при воспроизведении изо бражения рассеивает свет, что отрицательно сказывается на качестве воспроизводимого изображения (например, при изготовлении фоголитографических фотошаблонов) .При изготовлении противоореольного слоя с 25 применением полимера такой противоореольный слой нецелесообразно использовать для фотоматериалов, которые обрабатывают в щелочных средах (например, для позитивных фоторезистных слоев на основе диазосоедине С целью получения не взаимодействующего химически с проявителем и закрепителем и полностью удаляемого противоореольного слоя предложено наносить ца поверхность пластин. ки или пленки, не цме 1 ощей фотослся, композицию, содержащую комплекс с переносом заряда (КПЗ), Пленку из раствора КПЗ .а основе низкомолекулярных акцептсров электронов и полимеров .наносят на поверхность фстопласюнки или фотопленки во время цлц дс нанесения фотослоя и сушат так же, как и фстослой,По предложенному способу получают противоореольные слои в виде тонких окрашенных эластичных пленок, способные очищать поверхность, на которую они нанесены, от за. грязнений. Пленки прочны и снимаются механически в один прием с помощью липкой лепты после проявления и закрепления фотопластин или фотопленок. В случае фотолитографии пленки снимают перед задубливанием,Редактор Т. Никольская Заказ 2753/14 Изд.1700 Тираж 523 Полписиое ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, К, Раушская наб., д. 45Типография, пр, Сапунова, 2 Проведенные исследования показывают, что комплексы с переносом заряда на основе полиакрилонитрила, не содержащие в качестве акцептора электронов атомов галогенов (иод, бром), не оказывают влияния на свойства фотослоев. Это обусловлено отсутствием диффузии в фотослой органических акцепторов электрона, связанных в КПЗ с полимерной основой.Если в качестве акцептора электрона используют иод, то имеет место незначительное уменьшение светочувствительности галоидосеребряных слоев.Предложенные комплексы с переносом заряда (КПЗ) химическими стабильны (при обычных условиях не растворяются в растворах щелочей и кислот, не обесцвечиваются, не обладают клеюшими свойствами после термообработки, осуществляемой в процессе изготовления противоореольного слоя) и характеризуются сильным поглощением актиничного излучения.Опгическую плотность противоореольных слоев можно повышать путем увеличения содержания акцептора при изготовлении раствора КПЗ.При испытании технологии снятия пленок, предложенных КПЗ, используемых для консервации и очистки поверхности полупроводниковых материалов с помощью липкой ленты, получен положительный эффект.При мер 1. 3 - 5 г полиакрилонитрила растворяют в 100 мл диметилформамида и раствор перемешивают прои 60 - 80 С в течение 30 мин. К раствору прибавляют 2 г сублимированного йода, перемешивают при комнатной температуре в течение 1 - 2 час, КПЗ отфильтровывают через батистовый фильтр. Раствор КПЗ представляет собой прозрачную вязкую жидкость темно-фиолетового цвета. КПЗ наносят на фотопластинку (фотопленка) одновременно с нанесением фотослоя с помощью вращающихся валиков с эластичными бандажами, погруженными в соответствующие растворы, уровень которых поддерживают автоматически. Оба слоя сушат одновременно при температуре не выше 50 С и вентиляциями.Экспонированную, проявленную и фиксированную фотопластинку (фотопленка) сушат при температуре не выше 50 С с вентиляцией. Противоореольный слой, имеющий интенсивную полосу поглощения излучения в области спектра 2401(520 нм, снимают с поверхности фотопластинки (фотопленка) механически с помощью полиэтиленовой липкой ленты,5 10 15 20 25 30 35 40 Способ изготовления противо ореольного слоя путем нанесения на поверхность фотографических или фотолитографических пластинок и пленок композиции, отличающийся тем, что, с целью получения не взаимодействующего химически с проявителем и закрепителем и полностью удаляемого противоореольного слоя, применена композиция, содержащая комплекс с переносом заряда, образованный низкомолекулярным акцептором электрона и полимером.

Смотреть

Заявка

1491179

А. П. Мартыненко, Ю. А. Попов ОЗНАЯ гнАЯ

МПК / Метки

МПК: G03C 1/825

Метки: 388242

Опубликовано: 01.01.1973

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-388242-388242.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">388242</a>

Похожие патенты