Установка для получения покрытий и деталей
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
вс г ок;.-.,.с.,ч1 ИТьи:-Т.; ль":ИЛЯ дм, а А НИЕ Союз Ссветскик Саииалистических Республик,Ч, Кл, С 23 с 11/02 ки о -с присоединением зая Комитет по пел Приоритет изобретении и открытари Совете МинистраСССР ДК 621.793.06(08 2. Бюллетень11 убликовацо 21.111,Дата опубликования описания 2.1 Е 97 Авторызобретсни Ю. Н. Токаев, В. Я. Чернов, А. К, ПоливенкоВ, В. Лепехин бросимо аявител ТАНОВКА ОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ И ДЕТАЛЕЙИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ Изобретение относится к области получения покрытий из газовой фазы.Известна установка для получения покрытий и деталей из газавой фазы, содержащая цспаритель, реакционную камеру и систему нейтрализации.Однако, в известной установке це обеспечивается получение стабильных по химическому составу и структуре деталей.С целью улучшения качества и получения стабильных по химическому состму и структуре покрытий предложенная установка снабжена камерами предварительного нагрева ц охлаждения, соединенными с реакционной камерой и между собой посредством вакуумных затворов, и высокотемпературной камерой для осаждения порошка металла из непрореагировавшей в реакционной камере смесисоединенной с реакционной камерой через систему трубопроводов.На фиг, 1 показана предложенная установка; на фиг. 2 - то же, испаритель,Установка состоит из испарителя 1, реакционной камеры 2, системы нейтрализации (иа чертеже не показана), камер 3 предварительного нагрева, камер 4 охлаждения, соединенных с реакционной камерой и между собой посредством вакуумных затворов 5, высокотемпературной камеры б для осаждения порошка металла из непрореагировавшей в реакционной камере смеои, соединенной с реакционной камерой через систему трубопроводов 7.Испаритель. с загруженным галлоидопроиз водным соединением, например, гексофторвольфрама, нагревается до температуры, пре;вышающей температуру кипения галлоидного соедине 1 ния, в результате чего галлоидное соединение в виде пара поступает в лредвари тельно нагретую до 500 - . 700 С реакционнуюкамеру. Одновременно из баллонов в реакционную камеру поступает водород, В результате взаимодействия водорода с галлоидцым соединением происходит реакция выделения 15 металла на поверхности детали, поступившейчерез вакуумные затворы из камер предварительного нагрева в реакционную камеру, где она нагревается до температуры, равной внутренней температуре реакционной камеры, 20 "1 асть непрореагировавшей в реакционнойкамере газовой смеси через систему трубопроводов поступает в высокотемпературную камеру, где осаждается порошок металла из непрореагировавшей в реакционной камере 25 смеси за счет увеличения скорости,разложения соединений при повышенных температурах (000 - ;2500 С).Деталь с осажденным покрытием из реакционной камеры поступает в камеры для стузо пенчатого охлаждения.333225 4тий, установка снабжена камерами предаар 11- тельного нагрева и охлажден 1 ия, соединенными с реакционной камерой и между собой посредством вакуумных затворов, и высокотемпера турной камерой для осаждения порошка металла из непрореагировавшей в реакционной камере смеси, соединенной с реакционной камерой через систему трубопроводов. 1 Составитель И. РезникТсхред Л. Богданова Редак. Макар ректор В. Жолудева Заказ 1932ЦНИИПИ Копнит Изд.443 Тираж 448по делам изобретений и открытий при Совете Москва, Ж.35, Раушская наб. д. 4/5 Подписноеинпстров СССР агорская типограф 3 Предмет изобретенияУстановка для получения покрытий и деталей из газовой фазы, содержащая пспарительреакционную кагмеру и систему нейтрализации, отличающаяся тем, что, с целью улучшения качества и получения стабильных по химерическому составу и структуре покрыГ 1
СмотретьЗаявка
1329635
Ю. Н. Токаев, В. Я. Чернов, А. К. Поливенко, В. П. Абросимов, В. В. Лепехин
МПК / Метки
МПК: C23C 14/56, C23C 16/54
Метки: покрытий
Опубликовано: 01.01.1972
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-333225-ustanovka-dlya-polucheniya-pokrytijj-i-detalejj.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Установка для получения покрытий и деталей</a>
Предыдущий патент: Анод для нанесения гальванических покрытий на цилиндрические детали
Следующий патент: Устройство для термического испарения жидких
Случайный патент: Техническая "