Способ дифференциальной рн-метрии

Союз Советских Социалистических РеспубликЗависимое от авт. свидетельстваЗаявлено 21.1.1966 (М 1056456/29-33)с присоединением заявкиПриоритетОпубликовано 15.1,1971. Бюллетень5Дата опубликования описания 10,111.197 МПК С 04 Ь 7/00 Комитет по делам зобретений н открытий при Совете Министров СССРУДК 666.9.014(088.8 вторызобретени П. Э, Рикерт и 3, В. Дрокин Заявител СПОСОБ ДИФФЕРЕНЦИАЛЪНОЙ рН-МЕТРИ Известны способы дифференциальной рН- метрии для исследования процессов гидратации и первичного структурообразования в твердеющих гидравлических вяжущих веществах путем помещения индикаторных элект родов в исследуемую среду. Однако эти способы несовершенны, так как они не позволяют непрерывно регистрировать и документально фиксировать все процессы протекающие в системе цемент - вода. 10Цель предлагаемого изобретения - обеспечение возможности прогнозирования физико- химических и физико-механических свойств вяжущего,Достигается это тем, что два плоских иде ально двумерных индикаторных электрода одновременно помещают в точки исследуемых систем, находящиеся попеременно то под влиянием интенсивного механического встряхивания и перемешивания, то в состоянии покоя и 20 седиментации, причем один из электродов расположен в самых низких слоях образуемого системой осадка, а другой - в возникающем в спокойной системе прозрачном отстое.Сущность способа заключается в следую щем.Два плоских идеально двумерных индикаторных электрода одновременно помещают в точки исследуемых систем, находящиеся попеременно то под влиянием интенсивного меха нического встряхивания и перемешпвания, то в состоянии покоя и седиментации. Индикаторные электроды - это электроды с рабочей поверхностью, представляющей маленькую плоскую торцевую поверхность стержня пз мелкокристаллического чистого висмута, полированную до зеркального блеска при изоляции от исследуемой системы всей остальной электродной поверхности. Один из электродов располагают в самых низких слоях образуемого системой осадка, а другой - в возникающем в спокойной системе прозрачном отстое. Высота осадка после полного оседания должна быть больше 20 и,н, причем электрод погружается в него на 18 - 19 лл глубины.Таким путем удается одновременно фиксировать как рН в прозрачном отстое, так и в самых низких слоях осевшего осадка, причем рН в осадке всегда бывает больше, чем рН прозрачного отстоя. Разность этих значений рН является характерной для данной системы величиной, мало илп практически совсем не зависящей от водоцементного отношения в системе, Время (т) тиксотропнообратимого установления (в период оседания) и исчезновения (в период гомогенизации суспензии цемента) также является характерной для данного Л рН в данной системе. Л рН отражает относительное обеднение свободной жидкой фазы системы гидроксильными ионами по292913 Редактор К. Н. Шанаурова Техред А. А. Камышникова Корректор Л. Л. Евдонов Изд.245 Заказ 536/6 Тираж 473 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССРМосква, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Типография, пр. Сапунова, 2 сравнению с относительным обогащением этими ионами квазитвердой данной фазы системы.При определенной установленной аналитической щелочности прозрачного жидкого отстоя (фильтрата) цементной суспензии после 4 - 5 мин интенсивного взаимодействия цемента с водой при встряхивании системы - получаемые Л рН и т данной системы находятся в функциональной зависимости от физико-механических свойств будущего цементного камня при его возникновении из теста нормальной консистенции,Предмет изобретения Способ дифференциальной рН-метрии дляисследования процессов гидратации и первичного структурообразования в твердеющих гидравлических вяжущих веществах путем помещения индикаторных электродов в исследуемую среду, отличающийся тем, что, с целью 5 обеспечения возможности прогнозированияфизико-химических и физико-механических свойств вяжущего, два плоских идеально двумерных индикаторных электрода одновременно помещают в точки исследуемых систем, 10 находящиеся попеременно то под влияниеминтенсивного механического встряхивания и перемешивания, то в состоянии покоя и седиментации, причем один из электродов расположен в самых низких слоях образуемого си стемой осадка, а другой - в возникающем вспокойной системе прозрачном отстое.