Устройство для подачи сыпучих материалов установкам плазменного напыления
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 278344
Текст
ОП ИСАНИ ЕИЗОБРЕТЕ Н ИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Сои)а Соеетских Социалистических Республикависимое от авт. свидетельства-9381722-1) аявлеио ЗО.Х 11,19 48 Ь, 7/ рисосдицсцием заявки-Комитет ам МП 1 С 23 с 700УД 1621.793.06(088.8 Приоритет -Опт),иковапо 05."т 1111.1970. БОллстець2,) Д;)та опубликоващгя описания 27,Х 1.1970 аооретеиий и открытори Совете МииистроСССР каО 10 ""3 т;, . - (сб И 1.ЯОТЕ 15 АВПСЛЬ УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОДАЧИ СЫПУЧИХ МАТЕРИАЛОВ УСТАНОВКАМ ПЛАЗМЕНИОГО НАПЫЛЕНИЯг изобретен Изобретение относится и области плазменного нанесения покрытия.Известно устройство для подачи сыпучиматериалов к установкам плазменного напыления, содержащее герметичный корпус с выодным каналом и узел дозирования, выполненный в виде регулировочной иглы с центральным каналом для подачи газа.Предложенное устройство отличается отизвестного тем, что в регулировочцой игле на расстоянии от ее ци)кцего конца равным сс оду имеются отверстця, расположенные в радиалыом направлении, Это обеспечивает раьиомсрцость подачи материала к установке.1-1 Я ерте)ке изооражецо Гредло)кениое устройство и разрезы по 1 - А и Ь - Б.Устройство содержит герметичный корпус 1 с вьОдць) каналом 2 и узел дозировация, выполненный в виде регулировочцой иглы ) с центральным каналом 4 для подачи газа. В игле,3 ца расстоянии от ее нижнего конца равным ее оду имеются отверстия 5, расположенные в радиальном цаправлеииц,Перед загрузкой регулировочиая гайка 6 стяВитс 51 В положение Открьто. ВОЗВра 1 тиа 51 пружина 7 поднимает регулировочцуо цглу, котОрая открывает канал 2, Засыка пороцка через выодной канал 8 происодГг после поворота устройства ца 180 г вертикальной плоскости. После этого гайка 6 ставится в положение закрыто, и регулировочная игла закрывает канал 2. Затем устройство повора чинаОт в ряоочее положенс вьОдн 1.м каналом вниз. На регулировочную иглу цадсвают 1 цлянГ 8 дл 51 подВодя Геза, я на Выодно канал - шланг 9 для транспортировки порошка. После включения подачи газа последний, 0 пройдя по каналу 4 и через отверстия 5 сбольПО скорост 1 О, с)кижаст Олизлежящис и ВыОдном каналу 001 е)ы пороцкя, который выс:,ает цз канала 2 иодооцо жидкости, по.Падя в плазменную горелку. Устройство для подачи сынчиматерияЛОВ К "СТЯИОВКЯ) ПЛЯЗМЕИИОГО ЦЯГПЬЛЕИИ 5 СО. )О держя 1 цсс Герметичн 1 и корпус с Вы.Однымканалом и узел дозировацич, выполненный в виде регулировочной иглы с центральным капал для подачи газа, от.1 чаюц 11 тсл тем, что, с целью обеспечения равномерности подачи материала, в регулировочцой игле ца расстоянии от нижнего конца равным се оду имеются отверсти 51, расположенные в радиальном направлении.278344 ЙнеЦ Рс. санто ва оррсктор Зака)1(-35, Раушская иаб.,Загорская типография Подписное и Совете Мини тров ССС
СмотретьЗаявка
1293817
МПК / Метки
МПК: B05B 7/16
Метки: напыления, плазменного, подачи, сыпучих, установкам
Опубликовано: 01.01.1970
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-278344-ustrojjstvo-dlya-podachi-sypuchikh-materialov-ustanovkam-plazmennogo-napyleniya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для подачи сыпучих материалов установкам плазменного напыления</a>
Предыдущий патент: Установка для нанесения покрытий электрофорезом
Следующий патент: Способ подналадки расточного резца
Случайный патент: Способ закладки плантаций пропашных культур