Устройство для нагрева подложек

Номер патента: 994032

Опубликовано: 07.02.1983

Автор: Шевченко

МПК: B05C 5/00

Метки: нанесения, подложку, светочувствительных, слоев

...коллектора 2 каналы 9, 1 ОФормула изобретения 3 99403 и 1 1 для прохода жидкости. На передней части устройства выполнена на" клонная плоскость 12. В нижней части устройства расположена ракля 13, закрепленная между планкой 14 и корду" сом 1 винтами 15. В заднюю стенку устройства ввернут штуцер 16, имею" щий канал 17, сообщающийся с полостью 8. Ракля 13 опирается на подлож" ку 18. На перегородке 6 шарнирно эа" 1 в креплены откидные накладки 19-28, и механизмы 29"38 их прижатия к на" клонной плоскости 12. Верхняя часть наклонной плоскости 12 имеет кром" ку 39, Количество накладок выбирают в зависимости от требуемой ширины покрытия, наносимого на подложку,Устройство работает следуюцим образом.Жидкость через канал 17 в штуце ре 16...

Номер патента: 1452615

Опубликовано: 23.01.1989

Авторы: Вареник, Лазарев

МПК: B05C 5/02

Метки: нанесения, подложку, светочувствительных, слоев

...и крышкой 8. В разрыв между перегородкой 7 и крышкой 8 установлена перфорированная труба 9, внутри которой на оси расположена лопатка 1 О, выполненная с ,бочкообразной формой по длине. Ось лопатки 10 опирается на щеки 11 и 12 вакуум-камеры, с осью связан механизм 13 поворота лопатки 10, представляющий из себя рычаг с ручкой и фиксатором ее положения. Для подключения вакуумной магистрали служит 2 С штуцер 14.Устройство работает следующим образом.Экструзионная головка 1 формирует плоскую струю покрытия 2, которая наносится на подложку 3, движущуюся равномерно с опорой на вал 4. Для лучшего сцепления с подложкой под мениском нанесения покрытия в вакуум-камере 5 поддерживается пониженное давление 15 - 20 мм вод. столба. 5Воздух постоянно...

Номер патента: 135338

Опубликовано: 01.01.1961

Автор: Зюскин

МПК: G03C 5/26

Метки: водопроницаемой, подложке, подложки, слоев, фотографических

...же образом можно оорабатывать пакеты, состоящие из нескольких слоев толстостенной эмульсии.При процессах фиксирования в катодное пространство заливают раствор тиосульфата натрия с концентрацией 5 г/л, а в анодное - раствор сульфита натрия с концентрацией 5 г/л. В этом случае плотность тока на поверхности эмульсии должна составлять 2 а/дл- "при напряже нии ня электродах в 6 - 8 вольт. При смене растворов через каждый час фиксирование эмульсионного слоя типа Р тол 1 циной 900 лк заканчивается через 6 часов 30 минут.При обрабоп(е фотографической светочувствительной бумаги пос 1 сднюО помещают подложкой к аноду, в катодное Отделение за.ивЮт раствор сульфита натрия 5 г/л, я в янодное - раствор метоля 5 г/л и сульфита натрия 5 г/л.При 11...

Номер патента: 999872

Опубликовано: 10.07.2000

Авторы: Епихин, Кузнецов, Марончук, Сушко, Тузовский

МПК: H01L 21/208

Метки: наращивания, подложках, полупроводниковых, слоев, эпитаксиального

Способ эпитаксиального наращивания полупроводниковых слоев на подложках, включающий сборку в пакет параллельно расположенных пластин, на поверхности которых расположены полупроводниковые подложки, заполнение зазора между подложками раствором-расплавом и принудительное охлаждение системы, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества слоев, диаметр пластин выбирают больше диаметра подложек на величину, по крайней мере в 4 раза большую, чем зазор между подложками.

Номер патента: 305144

Опубликовано: 01.01.1971

Авторы: Арапов, Клименко

МПК: C03C 19/00

Метки: напыленного, подложки, слоя, удаления

...воздуха. Барабан покрывается многослойной воздухопроницаемой тканевой оболочкой 8. В качестве ткани берется фпльтрующая ткань ФПП, ТУД 2 ГУ - 171 - 58 и фильтрующая капроновая ткань 9 ФК ГОСТ 8801 - 58.Обрабатываемая деталь закрепляется а столе. Для случая штриховых стеклянных матриц закрепление производится так, чтобы штрихи располагались под углом к рабочему валку. Затем рабочий валок поворотом вокруг цапф опускается на край обрабатываемой детали и своим весом или силой каких-либо дополнительных устройств, например, пружин, создает определенное давление на обрабатываемую поверхность. Внутрь рабочего валка по трубке подается сжатый воздух. Воздух через отверстия в трубке и в барабане проходит под оболочку (слоп 8 и 9) рабочего валка,...