Устройство для непрерывного контроля и регулирования процесса напыления пленок

Номер патента: 353595

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Забежинский, Кацнельсон, Староверой, Фурман

МПК: C23C 14/54

Метки: напыления, пленок, процессом, тонких

...который в вакуумной камере 12 напыляется с испарптелей Иизготавливаемая пленка, направляется в сред 20 ство монохроматизацпи 2, выделяющее лучистый поток с длиной волны Х, на которой производится контроль. Поток вызывает на фотоприемнике 3 сигнал, пропорциональньшпропусканию образца 11. По мере роста тол 25 щины пленки в процессе напыления сигналменяется, достигая экстремальных значенийСоставитель Техред Г исимова Редак Струве тор О. Усова во ина Заказ 1796,1 Изд,1493ЦИИИПИ Комитета по делам изобретенийМосква, М(.35, Рау Подписное Министров СССРТираж 826открытий при Совекая наб., д. 4;5 Сапунов Типография,приемника 3 поступает в дифференцирующий блок 4, с выхода которого снимается сигнал в виде импульсов, следующих с частотой оз и...

Номер патента: 590597

Опубликовано: 30.01.1978

Авторы: Барзилович, Капличный, Короткоручко, Костроменко, Пластюк, Чемерис, Яременко

МПК: G01B 11/06

Метки: напыления, пленки, процессе, толщины

...стороны рабочей подложки, индикаторный блок 5 и испаритель (на чертеже не показан).590597 Формула изобретения в вг Составитель О. СтрогановТехред И. Карандашова Корректор Л. Денискина Редактор О, Юркова Подписное Заказ 3182/6 Изд. Хв 159 Тираж 907 НПО Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 475Типография, пр, Сапунова, 2 Между рабочей подложкой и светочувствительным элементом 4 размещен блок подавления световых лучей от испарителя, выполненный в виде полостей 6 с центральными отверстиями 7, уменьшающимися в направлении светочувствительного элемента так, чторазность диаметров предыдущего отверстия нпоследующего Й - .Оотносится к суммедиаметров предыдущего...

Номер патента: 359509

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Высочин, Концур

МПК: G01B 11/06

Метки: напыления, пленки, процессе, толщины

...4 на небольшой участок контрольной подложки 3, которая может при подаче определенной команды сдвигаться на величину, 15 достаточную для того, чтобы расположитьпод отверстием неподвижной диафрагмы часть контрольной подложки, а напыленную сдвинуть в защищенное от напыления место.Источник света расположен так, что свето вой поток, проходя через отверстие и черезконтрольную подложку, попадает на фотоприемник. Амплитудный дискреминатор с регулируемым порогом срабатывания, реагирующим на амплитуду сигнала, равную амплитуде пер ного интерференционного максимума, установлен за фотоприемником. При постоянной длине волны излучателя света н определенной толщине пленки амплитуда первого максимума всегда будет равна Х/4. При достижении 30 этой...

Номер патента: 1735712

Опубликовано: 23.05.1992

Авторы: Путилин, Столов, Эльгарт

МПК: G01B 21/08

Метки: многослойных, напыления, пленок, покрытий, процессе, толщины

...с длинами волн Л 1 и А 2, удовлетворяющими соотношению1 Э + 12 =2 Яз,ГДЕ П 1 б = 4 И,К=1,2,;где й 1 б - заданная оптическая толщина пленки.По ходу лучей между выходной щельа 5 и фотоприемником 12 расположен модулятор 10, приводимый во вращение двигателем 11, Модулятор 10 поочередно закрывает при вращении верхнюю и нижнюю половины щели 5. При этом на выходе фотоприемника 12 возникает сигнал, переменная составляющая которого может быть выражена зависимостьюЛОФ=МфЬ Ы 1 Й - фА 2 ТкЛ,8 ггде ФА 1 и ФЛ 2 - световые потоки, излучаемые источником на длинах волн 4 и А 2;Т,Я и Тк, - коэффициенты пропускания оптических каналов для длин волн Л 1 иА 2;и 3 - чувствительность фотоприемника на длинах волн А 1, л 2;М - коэффициент усиления...

Номер патента: 246085

Опубликовано: 01.01.1969

Авторы: Кацнельсон, Фурман

МПК: G01B 11/02, G01B 11/06

Метки: вакууме, напыления, пленок, процессе, толщины, тонких

...на контролируемую пленку от источника света направляют световой поток, определяют величину интенсивности прошедшего через контролируемую пленку светового потока, по которой судят о толщине пленки. Однако эти способы имеют недостаточную точность контроля, когда оптические толщины слоев покрытия не кратны четверти одной и той же длины волны,Предлагаемый способ отличается от известных тем, что величину интенсивности прошедшего через контролируемую пленку светового потока в зависимости от длины волны определяют спектральным прибором в диапазоне длин волн, перекрывающем не менее половины октавы.Это позволяет повысить точность контроля толщины пленок.Описываемый способ заключается в с щем.Контроль толщины пленки в процессе напыления слоев...