Растровый микроскоп
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 218441
Текст
Союз Советских Социалистических Республикависимое от авт. свидетельствааявлено 29 Л ,1967 ( 1145531/26 присоединением заявки2 Ь, 12/05 МПК Сх 0 нори Комитет по делам иаобретеиий и открытий при Совете Министров СССР531,717,82 088,8) убликовано 17,Ч.1968. Бюллетень1 та опубликования описания 4,1 Х.1968-.Э Р:Авторыизобретен В. А. Зверев, А. А. Кучин и И. И. Мак нинградское оптико-механическое объе витель ие РАСТРОВЫЙ М СКОП птико-механический прибор предя контроля чистоты обработки по- различных отраслях машиност оеДанныи оназначен длверхности в Р ния.Известны растровые микроскопы, содержащие систему проекции растра на исследуему:о поверхность и регистрирующую систему с эталонным растром.Описываемый прибор отличается от известных тем, что для повышения точности измерений проекционная и регистрирующая системы снабжены фокусирующими зеркалами, образующими симметричную систему с отражающими параболическими поверхностями, с попарно совпадающими фокусами которых совмещены исследуемая поверхность и растры, у становленные перпендикулярно оптической оси этой системы,На чертеже изображена оптическая схема описываемого микроскопа.Проекционная система микроскопа содержит растр 1, зеркало 2, параболическое зеркало 3 с рабочим внеосевым участком 4, зеркала 5 и б, прямоугольную призму 7, параболическое зеркало 8 с рабочим внеосевым участком 9. Наблюдательная система включает исследуемую поверхность 10, параболическое зеркало 8 с рабочим внеосевым участком 11, призму 12, зеркала 13 и 14, параболическое зеркало 3 с рабочим внеосевым участком 15 и эталонный растр 1 б, Освещение растра 1 производится осветительной систе.мой (на чертеже не показана). Прибор снабжен также отсчетным устройством, содержащим объектив 17 и окулярный микрометр 18.5 Растр 1, расположенный в фокальной плоскости параболического зеркала 3, проектируется в бесконечности. С помощью зеркал 5, б и призмы 7 параллельный пучок направляется на параболическое зеркало 8, в фокусе ко торого (на исследуемой поверхности) получается изображение штрихов растра. Отраженные от поверхности 10 лучи проектируются зеркалом 8 в бесконечность, С помощью призмы 12 и зеркал 13 и 14 параллельный пу чок вновь попадает на зеркало 3 и собираетсяв его фокусе, где расположен эталонный растр 1 б. В его плоскости получаются муаровые полосы.При наличии микронеровностей на иссле.20 дуемой поверхности происходит искажениеизображения штрихов растра, которое вызывает искривление муаровых полос, измеряемое с помощью отсчетного устройства. Поскольку в описываемой схеме растрового микроскопа 25 измерение происходит не в рассеянном свете,а в отраженном, то контраст муаровых полос значительно возрастает, а, следовательно, растет и точность измерения. Диаметр рабоче.го внеосевого участка параболического зерка ла определяется величиной его фокуса и апертурой, необходимой для разрешения штриховоставптсгп Г. 3, Литвин ел Р. М. Иовикова Корректо Ф, Старости дактор Н. С. дрога аказ 236312 Тп 1 га:и 530 ПодписноеЦ 11 ИИПИ комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров ССМосква, Центр, пр. Серова. д. 4 1 ппографпп, пр. Сапбпова, 2 растра, Угол наклона апертурного пу гка выбирается из условия наилучшего наолюдсния исследуемой поверхности.Данная схема растрового микроскопа свободна от аберраций в силу сс симмстрн пюсгн и увеличения, равного единице. Предмет изобретения Растровый микроскоп, содерхкащий системупроекции растра на исследусмуго поверхность и регистрирующую систему с эталог 1 ным растром, от,гтагоигиися тем, что, с целью повыше.ния точности измерений, проекционная и реги.стрирующая системы снабжены фокусирующимн зеркалами, образующими симметричную систему с отражающими параболическими поверхностями, с попарно совпадающими фокусами когорых совмещены исследуемая поверхность и растры, установленные перпендикуляр но оптической оси этой системы.
СмотретьЗаявка
1145531
МПК / Метки
МПК: G01B 11/30, G02B 27/32
Опубликовано: 01.01.1968
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-218441-rastrovyjj-mikroskop.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Растровый микроскоп</a>
Предыдущий патент: Прибор для замера величины деформации керамических плиток
Следующий патент: Шаблон для проверки размеров зубьев рамных и ленточных пил
Случайный патент: Многоэтажный пресс для полученияплит