Фотометр
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1805299
Авторы: Казаков, Комарова, Николаев, Петракова, Седельников
Текст
(51 ЗОБРЕТЕНИЯ Н К АВТ ЕЛЬСТВУ ОУУ СВ(57) Использование: фотом изобретения: объектив ф нен в виде двух полуцили направленных искривлен стями навстречу друг друг ческие оси фотометра и поверхностей линз ортого(72) Ю,Н.НиколаЮ.Н,Петракова, Г етрия Су отометра ндрически ными по у, при это цилиндри ндльны. 1 щн ость выполх линз, ерхном опти- ческих(56) Техническое условие фотомФ Э П(ТТМ 3.435.032).Техническое условие фотомФ П И (ТУ 3-3506-76). тип етра ти Изобретение относится к фотометрии, в частности к фотометрам для измерения силы света полупроводниковых индикаторов.Цель изобретения - повышение точности измерений,В предложенном фотометре после прохождения лучей через первую линзу происходит их фокусировка по одной оси, а после прохождения лучей через вторую линзу происходит их фокусировка по перпендикулярной оси.Пространственная однородность чувствительности предложенного фотометра лучше вследствие применения двух полусферических линз так, что оптические оси фотометра и цилиндрических поверхностей полуцилиндрических линз ортогональны, Чувствительность фотометра выше, так как выше светосила объектива. Точность предложенного фотометра выше, так как меньше составляющие погрешности из-за пространственной неоднородности чувствительности, из-за более высокого соотношения сигнал-шум. Пространственная однородность чувствительности в пред ложенном фотометре не зависит от положе ния индикатора в поле зрения и от поворота индикатора вокруг оси фотометра, т,к. фото приемник находится в фокусе объектива,Схема предложенного фотометра пред ставлена на чертеже.Фотометр содержит последовательно расположенные по ходу лучей объектив, содержащий полуцилиндрические линзы 1 и 2 направленные искривленными поверхностями друг к другу, при атом оптические оси фотометра А-А и цилиндрических поверхностей полуцилиндрических линз ортогональны. После прохождения лучей ч линзу происходит их фокусиро оси, а после прохождения через зу, происходит их фокусировк дикулярной оси. За объективо корригирующий светофильтр женный вплотную к фотоприем дящегося в фокусе объекти ерез пер вка по од вторую а по пер м наход 3, расп нику 4, н ва, Выв ной лин- пенится оло- ахоОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТЕДОМСТВО СССРГОСПАТЕНТ СССР) 805299 А 11805299 Составитель Ю. НиколаТехред М, Моргентал Корректор М. Шарош еда кто одна Подписноео изобретениям и открытиям5, Раушская наб., 4/5 аж ГКНТ СССР омитета осква, Ж Производственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужго,Гагарина, 10 фотоприемника 5 и 6 соединены с регистрирующим устройством 7.Фотометр работает следующим абра; зом.Излучение от полупроводникового индикатора, проходя через такой объектив, фокусируется в двух взаимно перпендикулярных плоскостях и, пройдя через коррегирующий светофильтр (СЗС) попадает на фотоприемник (в качестве фотоприемника использован фотодиод ФД 24-К), находящийся в фокусе объектива, далее сигнал поступает и обрабатывается на микроамперметре (в качестве регистрирующего устройства использовали микроамперметр Ф-ЗО),Фотометр, принятый за прототип, имеет пространственную однородность чувствительности в пределах 15, погрешность измерений.20 о, Экспериментальная проверка макета предложенного фотометра показала, что он имеет пространственную однородность чувствительности в пределах 9 оь, погрешность измерений не более 12 о/ Заказ 934 Т ВНИИПИ Государственно 11303Следовательно, точность измерения силы света предложенным фотометром возросла по сравнению с прототипом на 87 о.Формула изобретения 5 Фотометр, содержащий источник излучения, объектив и фотоприемник, расположенный в фокусе объектива, о т л и ч а ющ и й.с я тем, что, с целью повышения точности измерений за счет улучшения про- "0 странственной однородности чувствительности, объектив фотометра выполнен в виде двух полуцилиндрических линз, направлен. ных искривленными поверхностями однанавстречу другой, при этом оптические оси 15 фотометра и цилиндрических поверхностейполуцилиндрических линз ортогональны, а радиусы кривизны цилиндрических поверх- ностей г 1 = г 2 + Цб 1+ О 2)20 где г 1 и г 2 - радиусы кривизны первой ивторой по ходу излучения полуцилиндрических линз соответственно;01 и О 2 толщины первОЙ и ВторОЙ походу излучения полуцилиндрических линз .25 соответственно, 1 = 0,961,29 - коэффициент,
СмотретьЗаявка
4872813, 08.10.1990
НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ "САПФИР"
НИКОЛАЕВ ЮРИЙ НИКОЛАЕВИЧ, СЕДЕЛЬНИКОВ МИХАИЛ ЛЕОНИДОВИЧ, ПЕТРАКОВА ЮЛИЯ НИКОЛАЕВНА, КОМАРОВА ГАЛИНА РАШАДОВНА, КАЗАКОВ ЛЕВ ИВАНОВИЧ
МПК / Метки
МПК: G01J 1/04
Метки: фотометр
Опубликовано: 30.03.1993
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-1805299-fotometr.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Фотометр</a>
Предыдущий патент: Устройство для определения аэрозольных примесей в воздухе
Следующий патент: Дифференциальный фотометр
Случайный патент: Щипцы для разведения поршневых колец при их надевании или снимании