Движитель

Номер патента: 1679184

Опубликовано: 23.09.1991

Автор: Козловский

МПК: G01B 13/22

Метки: неплоскостности, пластин, пневматическое, поверхностей, прямоугольных

...На плиту 2 устанавливают эталоннуюпластину, которая под действием истекающего их жиклера 5 сжатого воздуха удерживается от вертикального перемещения иобразует с рабочей поверхностью 3 плиты 2воздушную подушку с зазором, не превышающим 0,1 мм,Благодаря укаэанному зазору ме.кдуэталонной пластиной и рабочей поверхностью 3 плиты 2 вращающаяся плита 2 неоказывает силового воздействия на эталонную пластину, удерживаемую от горизонтальных перемещений и поворота прямымипружинами 7. Затем опорные платики 6 перемещают так, чтобы они выступали на рабочей плоской поверхностью 3 плиты 2 навеличину, равную величине воздушного за зора между эталонной пластиной и плитой 2, за вычетом величины допустимого предельного отклонения величины...

Номер патента: 1680580

Опубликовано: 30.09.1991

Авторы: Агафонова, Добашин, Полякова, Рыбальченко, Чипига

МПК: B41N 3/06, C08J 7/02

Метки: офсетных, пластин, поверхности, рабочей, резинотканевых, состав

...в таблице.Как следует из данных, приведенных в таблице, предлагаемые составы по изобретению по сравнению с известным обладают улучшенной регенерирующей способностью, что позволяет повысить тиражестойкость офсетных резинотканевых пластин на 35 - 50 ь, а разрешающую способность печатной продукции - на 20 - 400 ь,Формула изобретения Состав для обработки рабочей поверхности офсетных резинотканевых пластин, включающий агент набухания резины и спирт, отл ича ю щийся тем, что,с целью улучшения регенерирующей способности состава для повышения тиражестойкости и разрешающей способности пластин, он дополнительно содержит дибутилфталат, полиметилсилоксановую жидкость и смесь полиоксиэтиленгликолевых эфиров моноэтаноламидов синтетических...

Номер патента: 1033270

Опубликовано: 07.08.1983

Авторы: Баденков, Василевский, Григорьева, Поляк, Ромашихин, Синкевич, Чарондин

МПК: B23C 3/16

Метки: антенны, зеркальной, отражательного, поверхности, рабочей, щита

...О, ч подачи инструмента 2. Заготовку 3 щита устанавливают на столе 1 на подставке 4 под некоторымуглом (, к плоскости стола так, чтоось 2 симметрии параболоида вращения поверхности 5 щита располагается в плоскости 2, Оу параллельнооси 2 стола, т.е, вертикально,Инструмент 2 для рассматриваемого примера - торцовая фреза, когдаобрабатываемая поверхность 5 - вогнутая, торец инструмента выполненсферическим, с радиусом кривизны,равным или немного меньшим минимального радиуса кривизны обрабатываемой поверхности 5 щита 3. Обработкаповерхности 5 осуществляется на неподвижной заготовке при рабочей по"даче инструмента 2 по векторам 73, Д в плоскости 70 у по образующей параболе, причем ось инструмента все время располагается по нормали к...

Номер патента: 1389997

Опубликовано: 23.04.1988

Авторы: Винников, Гриценко, Карась, Эпштейн

МПК: B24B 3/34

Метки: задних, пластин, поверхностей, режущих, шлифования

...г. Ужгород, ул. Проектная, 4 Изобретение относится к инструментальному производству и касается изготовления режущих пластин.Цель изобретения - повышение производительности обработки и расширение технологических возможностей путем обеспечения шлифования режущих пластин различных размеров без переналадки устройства.На чертеже показано устройство, общий вид.Устройство выполнено в виде основания 1, которое крепится к столу заточного или шлифовального станка (не показаны). На основании 1 соосно установлены ведущий шпиндельный узел 2 с валом 3 и ведомый шпиндельный узел 4 с втулкой 5 и валом 6. На валу 3 установлен с возможностью перемещения вдоль его оси и соосно с ней загрузочный элемент, выполненный в виде втулки 7. Внутри втулки 7...

Номер патента: 1409863

Опубликовано: 15.07.1988

Авторы: Гоман, Чухлиб, Шестаков, Юдицкий

МПК: G01B 11/24

Метки: геометрических, параметров, пластин, поверхности, полупроводниковых

...1 Формируется фокусирующей системой 2 в пучок, который направляется зеркалами 3 и 4 на сканаторы 5 и б. При вращении сканаторов 5 и б пучок смещается параллельно своей оптической оси. Такимобразом, на выходе сканатора б формируется развертка в плоскости, перпендикулярной оси распространенияпучка,Пройдя сканатор б,пучок попадаетна третье зеркало 7 и направляетсяим на отрицательную сферическую линзу 8 и далее на конденсорную линзу 9.На выходе линзы 9 пучок отклоняетсяот оптической оси, попадает либо наполупроводниковую пластину 11 либона калибровочное кольцо 12 и отражается от них, Отразившись от пластины, пучок проходит линзы 9 и 8,зеркало 7, сканаторы б и 5, отраженный пучок смещается к оси распространения падающего пучка, однако...