Противофильтрационный экран

Номер патента: 898961

Опубликовано: 15.01.1982

Авторы: Маяуд, Пирлам

МПК: H01J 9/22

Метки: нанесения, структур, трубок, фотографический, экранных, экраны, электронно-лучевых

...для контроля качества экранов.Целью изобретения является упрощение контроля качества экранов впроцессе их изготовленияУкаэанная цель достигается тем,что согласно фотографическому способу нанесения экранных структур наэкраны ЭЛТ, включающему покрытие,поверхности экрана пленкой из светочувствительных полимерных материалов, экспонирование пленки черезотверстия маски, удаление неэкранированных участков пленки с помощьюрастворителя, нанесение поливинилового спирта и затем люминисцентногопокрытия, пленку из полимерных материалов наносят по весу до величины0,1-0,3 мг/см , а экспонирование2пленки производят с недодержкой причувствительности к печати не более1,5 и эквивалентном диаметре источника света. 1,5-3,3 мм,Особенностью...

Номер патента: 276480

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Дворкинд, Жалнии, Жук

МПК: G01N 33/00

Метки: прибор, связности, слоя, соло(уистых, частиц

...поля, а у соломотряса - длина каскадов, ширина клавишей, величина перепадов между каскадами.Предлагаемый прибор основан на принципсизвлечения из горизонтально расположенного слоя соломы некоторой его части вертикально ввср х.10 В предлагаемом приборе с целью повышения точности оценки связности соломы измерительное устройство выполнено в виде горизонтальной панели с уложенными на ней пластинами, двух взаимно перпендикулярных мас штабных линеск и подвижной вдоль панелистопки с траверсой, на которой закреплен динамометрическнй механизм, установленный над серединой панели и соединяемый,посредством гибкой связи с концами одной из пла ст гны.На чертеже показана принципиальная схема прибора.Он состоит из панели 1, опирающейся наподставки 2....

Номер патента: 1475976

Опубликовано: 30.04.1989

Авторы: Алексеев, Баскаков, Грачев, Заваров, Пирумян, Ражев, Сарапулов

МПК: C23C 10/28

Метки: мелкодисперсных, псевдоожиженного, слоя, частиц

...которого меняли на противоположное с частотой от 5,40,60 Гц с помощью реверса (тахогенератора).Обработка проводилась на линейном индукторе, имеющем следующие основные параметры; обмотка однослойная, число катушек 12, число витков в катушке 86, число пазов 24, число па" зов на полюс и Фазу 2, число пар полюсов 1, номинальное напряжение 220 В,25 номинальный ток 8,5 А.Масса Ферромагнитных частиц железорудной пульпы составляет 60 и 40 от общей массы засыпки.При дальнейшем уменьшении массы Ферромагнитных частиц слой переста-вал перемешиваться, так как в этом случае силы трения с частицами корунда (с 1= 45-300 мкм)превышали силы магнитного взаимодействия с бегущим магнитным полем. При увеличении частоты изменения направления бегущего...

Номер патента: 549179

Опубликовано: 05.03.1977

Авторы: Георги, Кравченко, Солдатенко, Яковенко

МПК: B07B 13/00

Метки: зерна, разделения, свойствам, формы, фракции, частиц

...кромка каждой плоскости выполненас закруглеццем, прелназндченным лля захвата зерцовск, на поверхности кажлой плоскости перпендикулярно ее задней кромке укреп 25 лены цдлравляющие, а,подлон сцабжец вибратором. На фиг,схематично показано предлагаемое устройство; на фиг. 2 - разрез А - А зо фигУстройство аключает приемное приопособление 1 с поддоном 2 для загрузки, скатные плоскости 3, установленные под углом одна к другой с образованием замкнутой поверхности, имеющей форуму правильного многогранника, смонтированного на валу 4, и сборно- выводящее приспособление 5 с регулировочной перегородкой 6. При этом на поверхности каждой плоскости перпендикулярно ее задней кромке укреплены направляющие 7, а задняя кромка каждой плоскости выполнена...

Номер патента: 731363

Опубликовано: 30.04.1980

Автор: Павлова

МПК: G01N 21/40

Метки: анализа, взвешенных, оптических, поляриметрического, свойств, частиц

...того же источника или другого (с той же длиной волны Л и той же ориентацией плоскости поляризации) поочередно образцы эталонных взвесей сфсрических и несферических частиц, определяют деполяризационное отношение Рнсф (л, Л) и отношение а, По результатам указанных измерений находят вклад в общий коэффициент рассеяния капель и кристаллов. Так, если Рнсф(л, Л) =0,5; а=1,5 и Р,(л, Л) =0,2, то вклад капель Рсф(0,63) =- =Рнсф(0,63) =0,5. Поскольку Рнсф(л,Л) иа являются относительными величинами, мощность второго пучка или чувствительность приемника не влияют на результаты определения этих величин.Проведение анализа эталонных взвесей отдельно сферических и несферических исследуемых частиц обеспечивает возможность определения вклада тех и других...