Способ определения размеров частиц сыпучего материала в потоке

Номер патента: 1795526

Опубликовано: 15.02.1993

Авторы: Гольдин, Попов

МПК: H01J 49/44

Метки: излучения, линейного, плотности, потока, распределения, частиц

...совокупности координатно-чувствительных фотоэлектрических преобразователей, причем начало и конец смежных по отношению к измеряемому распределению фотоприемников лежат в плоскости перпендикулярной плоскости зеркал.Сущность изобретения поясняется фиг,2 (применительно к измерению одномерного распределения).Устройство (фиг,2) содержит детектор- преобразователь плотности измеряемого потока )= у (х) в подобное распределение яркости оптического изображения Е= р(х), включающий в себя микроканальную пла 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 стину 1 и катодолюминофср 2, нанесенныина волоконно-оптическую пластину 3. Выходная поверхность пластины 3 расположена в предметной плоскости ХОУ объектива4, Между детектором-преобразователем иобьективом...

Номер патента: 856299

Опубликовано: 07.04.1982

Авторы: Арванов, Лорикян

МПК: G01T 5/02

Метки: детектор, заряженных, излучений, частиц

...его в сильное электрическое поле (для 100 мкм МОО - 104 В/см), направленное от поверхности МКП в глубь слоя. Это поле образуется разностью потенциалов, приложенных к подложке эмиттера и входной поверхности МКП.На чертеже изображен общий вид устройства.10Оно состоит из микроканальной пластины 1, на переднюю поверхность которойнанесен слой,МдО 2 (толщиной 100 мкм иплотностью 1 - 2 О/о от нормальной), Верхняя (по чертежу) поверхность МдО покрыота - 1000 А слоем А 1 3, создающим электрический контакт слоя на МдО с проводящим кольцом 4, впрессованным в шайбу 5,выполненную из изоляционного материала 20(например тефлона). Между изоляционными шайбами 6 и 7 зажаты плотно прилегающая к нижней (по чертежу) поверхности МКП шайба 8 из медной...

Номер патента: 1135288

Опубликовано: 23.06.1985

Авторы: Аристов, Баранов, Дудо, Пришивалко

МПК: G01N 15/12

Метки: пигментов, размера, среднего, частиц

...с;и. с 3, модальный размер - в пределах 0,01о пс4 ( 0,2 мкм, что соответствуеттипичному диапазону изменения среднего параметра дифракции в видимойобласти спектра для большинствавзвесей этих веществ в различныхжидких средах 1,08,с сАнализ зависимостей величины Кот у при фиксированных значениях)1, х, ), 3 показал, что в области Проведенные исследования также показали, что в области значений и = 1,5 - 2,5 и х = 0,5 - 1,5 величина Кимеет весьма слабую чувствительность к изменению оптических постоянных о и х и практически является функцией лишь одного параметра.У .На фиг. 1 представлены зависимости величины К от среднего параметра дифракции у для различных значений в и х .Значения и и ф для кривых 1-11. 1 1,0. 1,05 1.10,05 0,1 0,05 0,02из...

Номер патента: 1000780

Опубликовано: 28.02.1983

Авторы: Елфимов, Кременчугский, Леваш

МПК: G01J 5/10

Метки: излучения, лазерного, поперечного, пучка, размера

...равное . й/2, изменение относительной мощнос тиЬО, вызванное перераспределением падающего излучения между чувствительными элементами, монотонно меня- етсЯ от ЛО=О ДоИ=00, гДеЧ)бХ=О+0. При ЬО: Ц о пучок полностью пере ходит на один из элементов приемника, таким образом минимальное смещение йХ, вызывающее ЬО = ОЪ 1 ох, равно Й/2. Однако при смещениях дХ, близких к д/2, прирост Ь 0 нелинеен и 45 слабо выражен, вследствие чего погрешность измерения диаметра велика, Область, где Ь и является линейной функцией ЬХ , лежит в пределах ОСд)( Й, Для этой области крутизна кривой а:1(дМ) обратно пропорциональнаЬОдиаметру пучка, т,е. Д-1 Норд-дх 1 мировка ЬО относительно суммарной мощности излучений, падакщей на приемник, даетх (01 0 т)М 03,фОР"...

Номер патента: 1441890

Опубликовано: 15.10.1993

Авторы: Голиков, Григорьев, Гурари

МПК: G01J 3/26

Метки: волны, длины, излучения, лазера, эталон

...теми же алгоритмами, чта и в прототипе, Однако погрешность в данном случае определяется шириной пика зависимости мощности генерации от длины волны,Существенным преимуществам предложенного эталона является большая точность определения длины волны лазера. Увеличение точности есть следс.вие тога факта, чта упомянутая спектральная ширина пика генерации есть величина, значительно меньшая, чем ширина пика аппаратной функции интерфераметра Фабри-Перо, Поэтому центр пика определяется в предложенном эталоне гораздо точнее, чем в прототипе, и расстояниеявляется целым кратным полудлинам волн/,/2 и Ь /2 с погрешностью, на 2 - 3 порядка меньшвй, чем в известном устройстве, Так как погрешность 1,1, как следует из приведенной формулы, определяется...