168990

Номер патента: 1585383

Опубликовано: 15.08.1990

Авторы: Готра, Лозинский, Орел

МПК: C23F 1/08

Метки: глубины, металлической, пленки, травления

...Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул. Гагарина,101 Изобретение относится к гальванотехнике, в частности к устройствамдля контроля глубины травления пленочных металлических покрытий,Цель изобретения - увеличение точности измерений и повышение чувствительности путем регистрации глубиныпри неполном стравливании металлаНа чертеже изображено данное устройство.Устройство для контроля глубинытравления металлической пленки включает подложку 1, на которую послойнонанесена резистивная пленка 2, а за.тем металлическая пленка 3, выполненная в виде клина. К выводам пленокподсоединен измерительный прибор 4:один...

Номер патента: 322420

Опубликовано: 01.01.1971

Авторы: Войтович, Полищук, Сосницкий

МПК: B05D 3/00

Метки: металлических, пленок, поверхности

...Катодом служит держатель 3 подложки.5 Держатель сделан так, что существует надежный электрический контакт между ним и очищаемой пленкой. Для того, чтобы заряды не скапливались на подложке и эффективно шла очистка, пленка обязана быть катодом, 10 поэтому полученный на подложке рисунок недолжен содержать участков, не связанных с катодом. Если по схеме такие участки необходимы, то предусматривают временные связи их с выводными контактами. При фотолп тографировании следующего слоя эти связивытравливают, Перед очисткой вакуумную камеру 2 обезгаживают и откачивают диффузионным насосом с азотной ловушкой до максимального вакуума (10 -мм рт. ст.), Затем 20 промывают инертным газом и снова откачивают до предельного вакуума. Тщательная...

Номер патента: 1805346

Опубликовано: 30.03.1993

Авторы: Баязитов, Саврасов

МПК: G01N 19/04

Метки: адгезии, диэлектрической, металлической, пленки, подложке

...ау = 0,72.10 Па, что составляет 0,36 адгезионной прочности алюминиевого покрытия (Оад = (1,5 - 2).10 Па).Экспериментальная точность предлагаемого способа составляет 0,62-0,64%, что обусловлено в основном ошибками оператора и аппаратурными погрешностями,П р и м е р 1. Измерение адгезии пленки алюминия (которая для большинства оптоэлектронных изделий нормируется как Оад =7=(1,5-2).10 Па), К электростатическому зонду (ЭСЗ), представленному в виде алюминиевого стержня с рабочей площадкой диаметром Э - 2 мм и с покрытием на ней из окиси алюминия толщиной 0,1 мкм с диэлектрической проницаемостью я = 9 и электрической прочностью Епр = 9.10 В/м, определяем максимально возможное значение прикладываемого потенциала Омакс = дЕ, где д 0 - толщина...

Номер патента: 729491

Опубликовано: 25.04.1980

Авторы: Боев, Дронов-Дувалджи, Иоффе, Стрелков

МПК: G01N 19/04

Метки: адгезионной, металлической, пленки, подложкой, прочности, сцепления

...в момент касания подложки, а об адгезионной прочности о разности температур нагрева и охлажСущность спосоа заключается в следующем.На подложку с металлической пленкой наносят одним из известных способов другую Ометаллическую пленку с меньшим козффициен.том линейного расптиретптя. Подложку с образо.вавшейся биметаллической пленкой нагреваютс одной ее стороны, создавая градиент темпе.ратуры по длине подложки. Из-за разности ко. зффициентов линейного расширения металличеких плевок при нагреве возникает изгибакяциймоментотрывающий конец пленки от подлож.ки. Измеряют температуру нагрева в моментотслоения биметаллической пленки от подложки, после чего подложку охлаждают до техпор, пока биметаллическая пленка не приметпервоначальное...

Номер патента: 743574

Опубликовано: 25.06.1980

Автор: Роберт

МПК: C03C 17/06

Метки: металлической, нанесения, окисной, пленки

...- аргон (не считая газовых микрокомпонентов), запускают в систему, после этого устанавливают-а давление порядка 5,6 х 10 мм рт,ст. Затем катодную сборку устанавливают в режим колебательного движения при частоте одного цикла в каждые 20 сек и к катодам подают отрицательное напряжение порядка 2,2 кв, Подачу напряжения к нагревателю лепрерывно регулируют, чтобы поддерживать заданную температуру основания (подложки) постоянной с колебаониями в пределах - 10 С. Процесс нанесения покрытия распылением расчитан яа период времени порядка 22 мин, по истечении которого напряжения катода и нагревателя доводятся до нулевой величины. Затем вакуумную камеру открывают, а стекло с нанесенным покрытием удаляют из нее. Стекло имеет однородное по...