Способ сухого травления ниобата лития

Номер патента: 1638222

Авторы: Гольдфарб, Дикарев, Перелыгина, Петраков

ZIP архив

Текст

СОЮЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХРЕСПУБЛИК 1638 А О В ЗЗ/1 зо ОПИСАНИЕ ИЭОБРЕТЕНИ ТЕЛЬСТ К АВТОРСКОМУ С 7) аст ектр го ле с Обес 1 иу ни тр авлтр авлразрясерыгде ТР - дДо сти,4 мощно сти в объеме РР К Вт/см . Значения тем 3 ниях плотностиот 0,13 до О 34пературы образцаапюмелевой термо меряют хромельой на поверхности я цикла травлестола после окончаниния, Среднкно скоростьределяют взвешиваниемпосле процесса с послсчетом разницы .веса вщины. р авл ения о бразца до и кщим переменение тол ульт ат авл ая сис- ари- хуже тия. ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМПРИ ГКНТ СССР(56) СЬцп 9 Р.5. -ас а 1. Огу еС сЬагасСег 1 эс 1 сэ оГ 21 МЬО.//Е 2 ей 1986, 22, Р 9, р. 484-4(54) СПОСОБ СУХОГО ТРАВЛЕНИЯЛИТИЯ Изобретение относится к электро - технике, в частности к методам изготовления приборов на твердом теле с использованием ниобата лития.Цель изобретения - повьппение скорости процесса.П р и м е р. Прямоугольные образцы ниобата лития 1.1 ЙЬО толщиной 0,75 мм с линейными размерами 8-10 мм подвергают травлению в плазме высокочастотного разряда - ВЧ газообразного гексафторида серы 5 Г . Способ воэбуждебния разряда - диодный, рабочая частота 13,56 МГц. Образцы располагают на металлическом столе в цилиндрической кварцевой реакционно-разрядной камере РРК вертикального типа на расстоянии 45 мм от потенциального электрода.Диаметр камеры 120 мм, Вакуумы тема обеспечивает уровень предв тельного разрежения в РРК не2,7 Па, Процесс травления 1.1111 ЬО про" водят при давлениях плаэмообразующего газа Р=40, 53, 66 Па и средних эначеИзобретение относится к обл ионики, в частности к методамовления приборов на твердомтеиспользованием ниобата лития.ечиваетсяповьппение скоростиения. Спо соб включает сухоеение в плазме высокочастотногода газообразного гексафторида5 Р при условии Т 700-39 4 Р,- температура ниобата лития, К;авление Баб 9 равное 406 Р 66 Па.гнута скорость травления 0,25 мкм/мин. 1 табл,В таблице приведены рез ы травления образцов 1 ЙЬОз при различных параметрах процесса: Р - д ение,.Па; И - среднее значение плотности мощности ВЧ энергии в объеме РРК, Вт/см , ТК - температура обраэ 3ца в градусах Кельвина; ч " скорость травления образца, мкм/мин.В известном способе скорость трав 1 ления не превышает 0,2 мкм/мин.Таким образом, использование изобретения позволит увеличить скорость плазмохимического травления ниобата1638222 Продолжение таблицы 53 0,13 0,17 0,22 0,13 66 15 0,17 0,2 0,25 О, 15 0,25 0,15 0,25,560 510 560 500 520" МЗвездочкой обозначены те значея Т, которые удовлетворяют условформуле изобретения,0 0 Составитель В. Безбородоваактор А. Маковская Техред Л. Сердюкова Корректор Н.Ревская Тираж 266 енного комитета по изобре 13035, Москва, Ж, Рауш Подписнотиям при ГКН4/5 904Госуда НИИПИ ениям и отк кая наб., д изводственно-издательский комбинат "Патент", г,ужгород, ул. Гагарина,1 Формула изобретения Способ сухого травления ниобата1лития в плазме высокочастотного разря 5 да газообразного гексафторида, о т - л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью повышения скорости процесса, для трав- ления используют гексафторид серы и процесс ведут при условии Т 700-3,4 Р, 10 где Т - температура ниобата лития, К;40 ПаР66 Па - давление гексафторида серы. 530 590 460 515 475 495 460 500 ф 460 475" 425 465 390 0,15 0,85 0,05 0,3 0,15 ,0,25 0,2 0,5 0,2 0,25 0,15 0,25 0,05 0,45

Смотреть

Заявка

4675516, 11.04.1989

ВОРОНЕЖСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМ. ЛЕНИНСКОГО КОМСОМОЛА

ГОЛЬДФАРБ ВЛАДИМИР АБРАМОВИЧ, ДИКАРЕВ ЮРИЙ ИВАНОВИЧ, ПЕТРАКОВ ВЛАДИМИР ИВАНОВИЧ, ПЕРЕЛЫГИНА ЛЮДМИЛА ВИКТОРОВНА

МПК / Метки

МПК: C30B 29/30, C30B 33/12

Метки: лития, ниобата, сухого, травления

Опубликовано: 30.03.1991

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-1638222-sposob-sukhogo-travleniya-niobata-litiya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ сухого травления ниобата лития</a>

Похожие патенты