Устройство для определения адгезии покрытия к подложке

Номер патента: 1603251

Авторы: Гусев, Захаров, Орехов, Савинков

ZIP архив

Текст

СОЮЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХРЕСПУБЛИК 032 Г 9) 5)5 0 01 М 19 ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТПРИ ГКНТ СССР ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ СКОМУ СВИ ЛЬСТВУ КА и,тельм дляжкамности о а гга(71) Московский институт радиотехэлектроники и автоматики(56) Авторское свидетельство СССРМ 974224, кл, 6 01 М 19/04; 1982.(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕАДГЕЗИИ ПОКРЫТИЯ К ПОДЛОЖКЕ(57) Изобретение относится к испытаной технике, а именно к устройстваопределения адгезии покрытий к подлоЦель изобретения - повышение точ результатов испытаний путем устранения зоны полной нечувствительности, в которой измеритель не реагирует на изменение объема жидкости в полости. Устройство содержит два зажимных диска 1 и 2, штуцер 6 для подачи отслаивающей среды через отверстие 5 в диске 1. Диск 2 образует над покры- тием 4 на подложке 3 полость 8, которую заполняют жидкой средой, В резьбовом отверстии 9 на диске 2 расположен фиксирующий элемент 10, а также стакан 11, установленный днищем над отверстием 13 в диске 2. В полости стакана 11 расположен упругий элемент 14,а на открытом его торце - : прямоугольная призма 15,оптически связанная с измерителем. 1 ил.20 25 30 35 40 50 55 Изобретение относится к испытательной технике, а именно к устройствам для определения адгезии покрытий к подложкам.Целью изобретения является повышение точности путем устранения эоны полной нечувствительности, в которой измеритель не реагирует на изменение объема жидкости в полости.На чертеже схематично представлено предлагаемое устройство для определения адгезии покрытия к подложке.Устройство содержит два зажимных диска 1 и 2, диск 1 предназначен для базирования подложки 3 с покрытием 4 и выполнен с осевым отверстием 5, штуцер 6 для подачи отслаивающей.среды на границу раздела подложки 3 с покрытием 4,регистрирующее устройство 7, диск 2 образует над покрытием 4 полость 8, фиксирующий элемент 9, расположенный в резьбовом отверстии 10 в диске 2, стакан 11 с углублением 12, установленный днищем над отверстием 13 в диске 2, упругий элемент 14, расположенный в полости стакана 11, прямоугольную призму 15, расположенную на открытом торце стакана.13, источник 16 света, поляризационное устройство 17, конденсоры 18 и 19, анализатор 20 света, фотоэлектрический преобразователь 21 света, коммутатор 22 электрического сигнала, индикатор 23 сигнала, регистрирующий прибор 24.Устройство работает следующим образом.Подложку 3 с покрытием 4 закрепляют между дисками 1 и 2. Полость 8 заполняют жидкой средой, После заливки жидкости фиксирующим элементом 10 герметизируют полость 8 и устанавливают начало отсчета измерительной системы, что исключает влияние внешней температуры на изменение плотности жидкости. Через штуцер 6 в отверстие 5 в диске 1 на границу раздела подложки 3 с покрытием 4 подают отслаивающую среду под давлением. По мере увеличения давления покрытие 4 начинает отслаиваться от подложки 3 и выпучиваться, Выпучивание изменяет объем жидкой среды в полости 8 и вытесняет ее через отверстие 13 в диске 2 в углубление 12 в стакане 11, при этом происходит сжатие упругого элемента 14, который, в свою очередь, передает усилие на.призму 15. Две противоположные грани призмы 15 оптически связаны с источником 16 света, изменение интенсивности которого из-за проявления ,эффекта фотоупругости воспринимается фотоэлектрическим приемником света и передается на коммутатор 22 напряжения, который переключает сигнал на регистратор 24 или на указывающий прибор, либо одновременно то и другое фиксирование. Электрический сигнал в виде импульса поступает на регистратор 24 и записывается на диаграммной ленте, которая представляет собой зависимость изменения объема 10 рабочей жидкости, площадь, ограниченная кривой этой зависимости, представляет работу, затраченную на отслаивание покрытия 4 от подложки 3. Диски могут быть выполнены из стали 15 марки Х 18 Н 9 Т, так как эта сталь коррозионно-стойкая к кислотам и щелочам, а также к другим агрессивным жидким средам в широком . диапазоне температур, упругий элемент может быть выполнен из высокоэластичного материала, например резины, оптический элемент может быть выполнен из высокочувствительного и оптически активного материала, например в виде кристалла литий-фтор. В качестве рабочей . жидкости используют кремнийорганическую жидкость,как обладающую высокими стабильными свойствами при высоких температурах. Формула изобретения Устройство для определения адгезиипокрытия к подложке, содержащее два зажимных диска, первый из которых предназначен для базирования подложки с покрытием и.имеет сквозное осевое отверстие, а второй предназначен для образования полости между ним и покрытием, заполняемой жидкой средой, и имеет сквозное резьбовое отверстие, ось которого параллельна оси диска, фиксирующий элемент, расположенный в резьбовом отверстии, штуцер, предназначенный для подачи отслаивающей среды .через отверстие в первом диске, и измеритель, о т л ич а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения точности, во втором диске выполнено сквозное осевое отверстие, ось которого совпадает с осью отверстия в первом диске, а устройство снабжено стаканом, установленным своим днищем, в котором выполнено углубление, на втором диске соосно с его осевым отверстием, упругим элементом, расположенным в полости стакана, и прямоугольной призмой, установленной на открытом торце стакана, свободные противоположные грани которой оптически связаны с измерителем.

Смотреть

Заявка

4605335, 14.11.1988

МОСКОВСКИЙ ИНСТИТУТ РАДИОТЕХНИКИ, ЭЛЕКТРОНИКИ И АВТОМАТИКИ

САВИНКОВ АЛЕКСАНДР ИВАНОВИЧ, ГУСЕВ АЛЬБЕРТ ПЕТРОВИЧ, ЗАХАРОВ АНАТОЛИЙ КУЗЬМИЧ, ОРЕХОВ ИВАН ВАСИЛЬЕВИЧ

МПК / Метки

МПК: G01N 19/04

Метки: адгезии, подложке, покрытия

Опубликовано: 30.10.1990

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-1603251-ustrojjstvo-dlya-opredeleniya-adgezii-pokrytiya-k-podlozhke.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для определения адгезии покрытия к подложке</a>

Похожие патенты