Атравматическая игла цветкова

Номер патента: 1067909

Опубликовано: 30.01.1989

Автор: Пуряев

МПК: G01B 9/02

Метки: выпуклых, интерферометр, поверхности, сферических, формы

...кривизны ее входной сферической эталонной поверхности - с задним фокусом четвертого объектива.Кроме того, линзовая система выполнена в виде двух положительных менисковых линз и двух расположенных между ними плосковыпуклых линз, а 60 выпуклые поверхности менисковых линзобращены к плоским поверхностям плосковыпуклых линз.Кроме того, линзовая система выполнена в виде двух положительных менисковых линз и расположенной между ними двояковыпуклой линзы, Кроме того, линзовая система выполнена в виде двух положительных менисковых Недостатком известного интерферометра является ограниченность диапа" зона его применения, так как он пригоден только для .контроля поверхностей в проходящем светеКроме того, для каждой поверхности необходим компенсатор...

Номер патента: 1377577

Опубликовано: 28.02.1988

Авторы: Каткевич, Саулгозис, Силис

МПК: G01B 15/04

Метки: выпуклых, координат, объектов, поверхности, сферических

...перемещения преобразователя 8 по параллели с помощью привода 2 и по меридиану с помощью привода 9. Первое измерение геометрических параметровобъекта 15 происходит в исходном положении, Полученные данные по кабелю13 передаются на экран генератораприемника 12 сигналов или поступаютна ЭВМ для дальнейшей обработки,причем одновременно регистрируютсяэхо-сигналыот передней и задней сте 35 Формула изобретения45 Изобретение относится к измерительной технике, а именно к технике бесконтактных измерений координатных точек внешней и внутренней поверхностей выпуклых объектов.Цель изобретения - повышение быстродействия устройства и достоверности результатов измерений путем нок измеряемого объекта 15, Привод 9 перемещения ультразвукового...

Номер патента: 129105

Опубликовано: 01.01.1960

Авторы: Крюков, Раскин

МПК: B24B 1/00, B24B 17/02

Метки: вращения, выпуклой, криволинейной, оси, относительно, поверхности, полирования, цилиндрической, шлифования

...ось О, вращения рабочего круга и его режущую образующую, то высшая точка С профиля находится на прямой ХХ, параллельно которой перемещается рабочий круг 2, в результате чего эта точка С н обрабатывается.После поворота приспособления вокруг оси О на угол а ось ОС занимает положение ОС 2, и высшая точка профиля находится в С, (она переместилась по профилю относительно линии ОСе (или ОС) и находится на прямой Х,Хь параллельной прямой ХХ и находящейся от нес на расстоянии ЛЬ).Если приспособлению с изделием 1 во время повкруг оси О, лежащей на перпендикуляре ОС к пря орота на угол а вомой ХХ, сообщить129105 еще поступательное движение в направлениями этой прямой (переместить ось 0 в 0,) на величину ЛЬ, а ось рабочего круга 2 за это время...

Номер патента: 1490468

Опубликовано: 30.06.1989

Автор: Кайнер

МПК: G01B 11/24, G01B 9/08

Метки: одного, перехода, поверхности, профиля, участка

...менисков: по углам смачивания, по высоте сегмента мениска, по симметрии менисков, по идентичности кривизны их формы. Наиболее точной является оценка идентичности кривизны формы обоих менисков.Краевой угол смачивания жидкости с поверхностью твердого тела является стабильной характеристической величиной для данной пары смачивания: жидкость - твердое тело. На коротком участке контролируемой поверхности монотонной формы угол смачивания и кривизна обоих менисков столбика будут одинаковыми, следовательно, форма обоих менисков у контролируемой поверхности идентична,Изменение формы контролируемой поверхности в пределах длины столбика жидкости объективно обуславливает изменение кривизны мениска, что приводит к неидентичности формы обоих менисков...

Номер патента: 1610248

Опубликовано: 30.11.1990

Авторы: Горшков, Лазарева, Пуряев, Фомин

МПК: G01B 9/02

Метки: выпуклых, интерферометр, поверхности, сферических, формы

...линзовой системы в сторону контролируемой детали 13 обращают ту из эталонных поверхностей,радиус кривизны которой ближе по значению к радиусу кривизны контролируемой поверхности. В процессе работы интерферометра на эталонную и контролируемую поверхности должно обеспечиваться нормальное падение лучей, Афокальный компенсатор и линзовая система сообща преобразуют гомоцентрический пучок, выходящий из обьектива 7, в гомоцентрический пучок, вершина которого совмещена с точками С и Ск, где располагаются центры кривизны эталонной и контролируемой поверхностей 12 и 13 соответственно. Рабочая интерференционная картина образуется в результате взаимодействия волновых фронтов, отраженных от поверхностей 13 и 12, причем поверхность 12 выполняет...