Установка для лазерной обработки

(5)5 ОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНЕДОМСТВО СССРОСПАТЕНТ СССР) ИДЕТЕЛЬСТВУ КОМ К А(21) 3762558/ (22) 03.07.84 (46) 30.12.92. (72) Ю,В, Ла Мезенов (56) Патент Я кл. В 23 К 26Патент С кл. В 23 К 27 для прохоюща якачества, . дополниким экражающего о экрана го экрана Бюл. М 48киза, А.А. М щенко и А,В понии Мг 56-27532,/00, 1975. щаяполнено излучеобо ов зом.Обрабатываем ют так, чтобы цент совмещен с центро тор 9 располагают ю деталь 8 устанавливаее зоны обработки был м экрана 3. Фотодетека пути лазерного излу(54)(57) 1.УСТАНОВКА ДЛЯ ЛАЗЕРНОЙ ОБРАБОТКИ, содержащая лазер, фиксирующий объектив и полусферический Изобретение относится к руд анию для лазерной обработки,Целью изобретения является повышение качества обработки,На чертеже изображена схема установки.Установка содержит лазер 1, фокусирующий объектив 2 и полусферический отражающий экран 3 с отверстием 4 для прохода лазерного излучения 5. Установка снабжена также фотодетектором б и дополнительным прозрачным полусферическим экраном 7, причем центр прозрачного экрана 7 равно- удален от центра отражающего экрана З.и фотодетектора 6. В прозрачном экране 7 может быть выполнено отверстие для прохода лазерного излучения 5.Установка работает следующим обра 9.,Ж 1193912 А 1 отражающий экран с отверстием да лазерного излучения, о т л и ч а с я тем, что, с целью повышения она снабжена фотодетектором и тельным прозрачным полусферичес ном, установленным внутри отра экрана, причем центр прозрачног равноудален от центров отражающе и фотодетектора.2,Установка по п.1, о т л и ч а ю с я тем. что в прозрачном экране вь отверстие для прохода лазерного ния,чения 5, отраженного пластиной 10, Фотодетектор б располагают на пути излучения 5, отраженного обрабатываемой деталью 8 Я и экраном 7 так, что центр его входного зрачка был симметричен относительно центра экрана 7 центру экрана 3. Фотодетектор 11 располагают на пути лазерного излуче- в ния 5 отраженного деталью 8 в апертуру К, фокусирующего объектива 2 и отклоненного (Д пластиной 10. ОЧасть лазерного излучения 5 пластиной 10 отклоняется на фотодетектор 9, регистрирующий изменение мощности излучения лазера 1. Излучение 5, прошедшее пластину 10. фокусируется объективом 2 через отвер-,Р стие 4 в экране 3 и прозрачный полусфери- й ческий экран 7 на поверхность обрабатываемой детали 8. Часть. излучения 5, отраженная деталью 8, прошедшая экран 7 и не попавшая в отверстие 4 экрана 3.возвращается на поверхность обрабатываемой детали 8. Часть излучения 5. отраженного деталью 8, направляется экраном 7 нафотодетектор 6. Излучение. отраженное через отверстие 4 в апертуру фокусирующего объектива 2 частично отражается пластиной 10 на фотодетектор 11. Сигналы с фотодетекторов 6,9,11 поступают на блок 12 управления, где анализируются, На основе анализа этих сигналов блок 12 управляет лазером 1. Используя сигналы фотодетекторов, определяют Мощность излучения, поглощенного Рпога и отраженного Ротр материалом детали 8:Рв,Ротр = -Рпогл = Р 9 К 9 + Р 6 (1 - КХ 1 - Г).нд,аР 9 К (1 - г)Р 11 К 11;Ро, Ро, Р 5 - Р 11К 11 К = - ; К 11 -Вд,аР 9Р 11гРо где Ро - мощность излучения лазера 1, направляемого на деталь 8 объективом 2;Ра - мощность излучения, отраженного деталью 8 через отверстие 4 в апертуру фокусирующего объектива 2;Р 9 - мощность излучения, падающего на фотодетектор 9; Рв-.мощность излучения, падающего нафотодетектор 6;Р 11 - мощность излучения, падающегона фотодетектор 11;5 Рв, Р 11 - мощность излучения, падающего на фотодетекторы 6,11 соответственно прй экранировании отражающей поверхности экрана 3;, К - коэффициент отражения поверхно сти экрана 3;г - коэффициент отражения поверхности экрана 7.Коэффициенты К 9, К 11 определяются при калибровке фотодетекторов 9,11 с использо ванием вместо исследуемой детали 8фотоприемника 6 и эталонного зеркала соответственно.Установка позволяет определить мощность излучения, направляемого в зону об работки, а также поглощаемого иотражаемого материалов обрабатываемой детали 8 при возврате отраженного излучения врону обработки экраном 3, Измерение обеспечивает возможность управления 1 тро цессом лазерной обработки. что позволяетповысить качество обработки.