B23K 26/02 — установка или наблюдение за обрабатываемым изделием, например в отношении места воздействия луча; центровка, нацеливание или фокусирование луча лазера

Номер патента: 260782

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Лавров, Тимофеев, Чельный

МПК: B23K 26/02

Метки: лазера, лучом

...свариваемых деталей приводит к значительному температурному градиенту по их толщине. Это затрудняет получение высококачественных соединений толстых деталей и деталей из материалов с низкой 15 теплопроводностью.Цель предлагаемого устройства - одновременное воздействие излучением на обрабатываемые или свариваемые материалы с двух сторон. Для этого с другой стороны активно го элемента, по ходу луча, устанавливают второе выходное зеркало, а оптическая система выполнена в виде двух самостоятельных фокусирующих систем. Излучение, выходящее через оба зеркала, каждой из самостоятельных 25 ветвей оптической системы направляется и тся на различные точки обрабатыатериала, Для сварки деталей Т-обединений фокусирующие ветви налом друг к другу....

Номер патента: 673157

Опубликовано: 05.07.1979

Авторы: "пьер, Роберт

МПК: B23K 26/02

Метки: излучением, лазерным

...10 детали 11, :предназначенной для обработ, Ь обычных "условиях требуется определенноеки. Можно осуществить любой вид обработки, количество йучков одинаковой силы, но также"напрйМер"сверлению, точечную сварку,можно разбить пучок, созданный лазерным ис.Пучок 1, созданный лазерным йсточнйком, раз-точняком, на несколько пучков различной силы,деляется на два пучка равйой силы, которые фо. 1 о чтобы осуществлять различные операции в однокУсируются в двух участках детали или деталей, и то же время, Речь идет о выборе коэффидиен.предназйаченных для обработки. Чтобыотрегу- , :та пропускания различных зеркал 2, 4 и другихпировать точное положение каждой фокусной точ такимобраэом,чтобыпучкн нужной силы отраки или точек обработки 9 и 10, зеркала 6...

Номер патента: 986683

Опубликовано: 07.01.1983

Авторы: Гликин, Скрипничинко

МПК: B23K 26/02

Метки: лазера, лучом

...способности обрабатываемого материала.Чем выше отражательная способностьэлемента, тем больше интенсивность из.з лучения лазера, и наоборот. Таким образом, если перед началом обработкипленки с высокой отражательной, способностью, которая нанесена на материал с меньшей отражательной способностью, 10 установить такое значение интенсивности, цтобы она была мала для обработки материала с меньшей отражательной способностью, то при попадании излучения на участок обрабатываемого материала с большей отражательной способностью интенсивность излучения возрастет и этот участок будет обрабатываться, Как только слой пленки будет испарен, интенсивность излучения уменьшится и 50 нижний слой, нанесенный на подложку, обрабатываться не будет.На...

Номер патента: 1391834

Опубликовано: 30.04.1988

Авторы: Бесчетнов, Солнцев

МПК: B23K 15/02, B23K 26/02

Метки: лучевой, сварке, слежения, стыком

...амплитуды, с выхода которого оно в виде регулирующего воздействия 37 (постоянное напряжение или ток) поступает на исполнительный орган 38, управляющий лучевым перемещением источника 8 (электроннолучевая пушка или лазер),21нием ширины зазора в стыке 2, вероятность сбоя работы устройства значительно уменьшается, а его помехоустойчивость возрастает, что позволяет повысить точность слеженияОсь коллиматора 10 перед сваркой направляют на середину корневой части 3 стыка, глубину залегания которой определяют ориентировочно расчетным путем с учетом угла наклона датчика 6 и зависит от 10 толщины свариваемого изделия 5.В процессе сварки рентгеновское излучение от плазмы, образующейся в корневой части 3, поступает на рентгентелевизионный...

Номер патента: 1504041

Опубликовано: 30.08.1989

Автор: Солнцев

МПК: B23K 15/02, B23K 26/02

Метки: глубины, излучению, лучевой, проплавления, процессе, рентгеновскому, сварки, стабилизации

...Т и величины интенсивности рентгенов ского излучения в зависимости от глубины проплавления приведены на фиг.2 для начала участков и имеют адекватный глубине проплавпения качественный характер и максимум в 30 корне канала проплавления.При постоянной энергии луча концентрация и и величина излучения 1еплазмы определяются концентрацией Н и давлением Р паров расплавленного металла. Так, в корневой части канала проплавления величины И и Р максимальны, в его середине - в несколько раз меньше ввиду увеличения объема канала, а вблизи поверхности изделия - меньше на 1-2 порядка, по:;тому вблизи поверхности концентрация электронов и падает до и 10 фсм эе е а величина интенсивности 1 рентгеновского излучения минимальна 1 - (Н), фиг,1.45Во время...

Номер патента: 1583911

Опубликовано: 07.08.1990

Авторы: Гликин, Горбаренко, Епихин, Королев

МПК: B23K 26/02, G02B 21/00, G02B 27/48 ...

Метки: визуальным, контролем, лазерной, объектов, просвет

...диафрагмы 8расположено в Фокальной пноскостивторого объектива 5, проходящей через точку Р.Это изображение является выходным зрачком второго объектива 405. Введением апертурных диафрагм 7и 8 реализуется телецентрический ходлучей со стороны объекта для обоихобъективов 2 и 5.Центр кривизны отражателя 6 (сферического зеркала) совмещен с центромвыходного зрачка 8 второго объектива 5, т.е. с точкой Р,Соблюдение телецентрического хода лучей для обоихобъективов и.выполнение укаэанныхусловий для отражателя 6 обеспечивают одинаковую апертуру для всех точек объекта в пределах поля зрения,Устройство работает следующим образом,55Излучение лазерного усилителя, выходящее в сторону объекта 3, попадает на объект 3, После прохождениячерез некоторую...

Номер патента: 1682096

Опубликовано: 07.10.1991

Авторы: Барков, Демкин, Костюхин, Кружилин, Мызников, Нечаев, Романенко, Чередников

МПК: B23K 26/02

Метки: лазерной

...По команде остановки допоиска элементы схю 5 ы устанавливаотся в исходное со;тоя: Ие - первый регистр 40 сдвигаеэез герв с логическуо схему ИЛИ 35; обнуление регистров блоха 17 срав 5 ения; Втсрс) счетчик 49 ацреса постоянного запомл 5,ВОщего устрс 5 стза 20 выбора координаг положения плоскогозеркала 7 через четверту 5 О логическую схему ИЛИ 38 го счетному вход устанавливается на адрес координат следу;още.о модуля 1., для которого будет проводиться ав.:оОстировка аналогичным Образом, в Операт 5 В 5 Ом запоминающем устройстве 50 через Время задержки второй липни 46 задер)кки заги. сы ваотся коорди на-ь рассогласования с итических осей модуля 1злуцателя с общей оптической осью вычисг енные в этом цикле.После переклОцения работы на...

Номер патента: 1683937

Опубликовано: 15.10.1991

Авторы: Бродягин, Бурлаков, Емцев, Феофилактов

МПК: B23K 26/02

Метки: импульсная, лазерная

...защитный конденсатор 28, который ослабляет проникновение импульсных помех на вход электрической схемы. Резисторы 29 и 30 задают среднюю точку, относительно которой нэ вход компаратора 43 через резисторы 31 и 32 поступает входное напряжение. Резистор 33 совместно с резистором 32 включены таким образом, что компаратор 43 включен по схеме порогового элемента - триггера Шмидта, Изменяя значения резисторов 32 и 33, можно варьировать порог срабатывания триггера Шмидта, Резистор 31 служит для целей устранения смещения от входных токов компаратора, Резистор 31выбирается равным сумме сопротивлений параллельно включенных резисторов 32 и 33. С выхода порогового элемента прямоугольные импульсы с крутыми фронтами поступают на синхронный вход С...

Номер патента: 542372

Опубликовано: 15.09.1992

Авторы: Белкин, Кодылев, Мешков, Трусов

МПК: B23K 26/02

Метки: генератора, квантового, окон, оптических, сварки, станок, трубкой

...изображен стаующей системой и разрез А-АСтанок содержит оптический квантовый генератор 1 ОКГ), устацнооланный ца неподвижной станине 2 и фокусирующую систему,Фокусирующал система предназначена длл направления сфокусированного луча о зону разогрева и выполнена в виде вращающегося соетовода коленнообразной формы, Она состоит из отклоняющего зеркала 3, поворотного зеркала 4 и фокусирующей линзы 5, смонтированных о корпусе светооода, Входная часть светооода б, закрепленная в станине, оптически свлзана с ОКГ посредством зеркала 7 и через шестерни 8, 9 и редуктор 10 приводится оо вращение от электродвигателя 11,Выходная часть 12 содержит подвижную фокусирующую линзу 5 и цмеет регулируемое шарнирное соединение с корпусом соетовода 13,...

Номер патента: 1193912

Опубликовано: 30.12.1992

Авторы: Лакиза, Малащенко, Мезенов

МПК: B23K 26/02

Метки: лазерной

...обрабатываемой деталью 8 Я и экраном 7 так, что центр его входного зрачка был симметричен относительно центра экрана 7 центру экрана 3. Фотодетектор 11 располагают на пути лазерного излуче- в ния 5 отраженного деталью 8 в апертуру К, фокусирующего объектива 2 и отклоненного (Д пластиной 10. ОЧасть лазерного излучения 5 пластиной 10 отклоняется на фотодетектор 9, регистрирующий изменение мощности излучения лазера 1. Излучение 5, прошедшее пластину 10. фокусируется объективом 2 через отвер-,Р стие 4 в экране 3 и прозрачный полусфери- й ческий экран 7 на поверхность обрабатываемой детали 8. Часть. излучения 5, отраженная деталью 8, прошедшая экран 7 и не попавшая в отверстие 4 экрана 3.возвращается на поверхность обрабатываемой...

Номер патента: 1200487

Опубликовано: 30.12.1992

Авторы: Лакиза, Мезенов

МПК: B23K 26/02

Метки: лазерной

...содержащее лазер. фокусир Изобретение относится к оборудованию для лазерной обработки,Целью изобретения является повышение качества обработки,Поставленная цель доствыравнивания плотности мощнагрева.На чертеже изображена схема устройстющий объектив и перефокусирующий отражатель с отверстием для прохода лазерного излучения, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения качества путем выравнивания плотности мощности в пятне нагрева, оно снабжено дополнительным отражателем, установленным в фокусе фокусирующего объектива.2.Устройство по и.1. о т л и ч а ю щ е ес я тем, что дополнительный отражатель выполнен в виде диффузного отражателя. ние, рассеянное в объеме отражателя 3 и переотраженное металлическим покрытием 9 отражагеля 6....

Номер патента: 1110047

Опубликовано: 30.12.1992

Авторы: Малащенко, Мезенов, Пустоварин

МПК: B23K 26/02, C21D 1/09

Метки: лазерной

...12, который вырабатывает сигнал для запуска основноголазера 1 при определенном положении пятна излучения вспомогательного лазера 2 наповерхности 17 обрабатываемой детали 18. 45Анализ сигналов осуществляют на основемощности отраженного излучения вспомогательного лазера 2 от поверхности 17, подлежащей облучению основным лазером 1, имощности фоновой помехи, обусловленной, 50в основном, отражением излучения вспомогательного лазера 2 от экрана 16, Преобразование распределения интенсивностиизлучения вспомогательного лазера 2 приналичии расположенного нормально к оси 55фокусирующего объектива 3 направленнорассеивающего экрана 16 позволяет увели.чить отнощение мощности отраженногоизлучения вспомогательного лазера 2 от по.верхности...

Номер патента: 1299025

Опубликовано: 27.11.1995

Авторы: Галич, Кравченко, Пархоменко

МПК: B23K 26/00, B23K 26/02

Метки: лазерной

1. СПОСОБ ЛАЗЕРНОЙ ОБРАБОТКИ, при котором в зону обработки направляют лазерное излучение с изменяющейся длиной волны, которое фокусируют оптической системой с хроматической аберрацией положения фокуса, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности, точности и снижения энергозатрат, изменение длины волны излучения осуществляют, уменьшая ее, а для фокусировки излучения используют оптическую систему с положительной хроматической аберрацией положения фокуса, при этом уменьшение длины волны осуществляют со скоростью, соответствующей скорости перемещения пятна нагрева при геометрических или структурных изменениях в зоне обработки.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что изменение длины волны излучения осуществляют в...

Номер патента: 1107428

Опубликовано: 10.02.2000

Автор: Кириллов

МПК: B23K 26/02

Метки: лазерной, металлов, термообработки

1. Способ лазерной термообработки металлов, при котором осуществляют однократное взаимное перемещение луча и обрабатываемого изделия вдоль заданного контура и нагревают изделие до температуры обработки, отличающийся тем, что, с целью улучшения эксплуатационных характеристик металла путем осуществления закалки и последующего высокотемпературного отпуска одним лучом, последний разделяют на две части, закалку осуществляют первой из них, а высокотемпературный отпуск - второй, при этом площадь пятна нагрева от первой части луча не менее чем в 50 раз меньше, чем от второй части луча, а расстояние между ними и скорость их перемещения соответствует остыванию зоны обработки до температуры конца...

Номер патента: 1347300

Опубликовано: 10.02.2000

Авторы: Кириллов, Мальцев

МПК: B23K 26/02

Метки: лазерной

Устройство для лазерной обработки, содержащее лазер, тубус с фокусирующим объективом, систему отклоняющих зеркал, механическую передачу, установленную между выходным зеркалом и тубусом, для совмещения оси отраженного от выходного зеркала лазерного луча с продольной осью тубуса при его повороте, отличающееся тем, что, с целью повышения качества обработки путем сохранения фокусировки лазерного излучения на обрабатываемой поверхности, тубус выполнен составным, по меньшей мере, из двух телескопических подпружиненных частей, установленных с возможностью перемещения вдоль оптической оси лазера, причем на одной из частей тубуса закреплен ограничивающий упор, а механическая передача выполнена в...

Номер патента: 626521

Опубликовано: 20.03.2005

Авторы: Данилов, Озерной

МПК: B23K 26/02

Метки: лучевой, резки

Способ лучевой резки материалов, при котором луч фокусируют с помощью линзы, центру которой сообщают движение по окружности, отличающийся тем, что, с целью повышения качества реза, движение по окружности центра линзы осуществляют в плоскости реза с диаметром, равным толщине реза.