Способ пористого хромирования двойным режимом осаждения
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 110680
Автор: Аробелидзе
Текст
Аробели ХРОМИРОВАНИЯМ ОСАЖДЕНИЯ ОСОБ ПОРИСТОГО РЕЖИМНЫМ аа М 57 соя и 1 Со.,итогй при Сонете Мииистов аяяееио 1 игоия 1957 г зобоетеяии и откры(65 - 75), его цараьш слон обусловтгь,о. ого слоя 0,02 лз), ооткс до тью рает гном е юе ористость ДОПО,1 ЦИ ПазППП 1 зделыю ь чцц одной мст изоорстсцця ова цпя уче- сто- сновлот- мпе- орой Известный способ Ролучсци 51садков пористого хрома состоит в нанесении с:юя хрома требуемой СЛицццц ц ПОСЛСдоШЕГО дЕХроаП 1 ованця ,псрскл 1 очсция летасй с .тода на анод). Характер пористо 1 и, 1;олх асмоцр; этом, заг 5 иситО пекима нанесения хром 1.Оптимальная пористость полчается, если хромирование проводят при глотности тока 40 -60 а д 1-, При этом выход по Ою составляет около 20%.Как правило, толшцна хрома прцвосстановлении пзноценцых деталей;Олжна Оыть соавцительно больццй (0,1 лл и ыццс) и ца осаждение хрома прц таком режиме требуется много времени, При этом и всличинь 1 плотности тока и температуры также могут колебаться только в узких пределах.Способ пористого хромирования двойцьм режимом осаждения, согласно изобретению, ускоряет процесс и доитекает более широкий предел колебаний состава раствора и режима осаждения, что упроПает обслуживание ьацн.Пористое хром и ров ание в этом случае осуществляют следуюцих образом. Сначала осаждают сл прп высокой плотности то 200 ад,е) и температуре обеспечивгиошцх быстрое шцвацие, и дополццтельц наращивают прц рсж ме,цваюшсм полмчсшгс Опт Рорцстости.Толц 1 цна дополнцтсльн должна быть такой (0,01 :тооы пранодцой обра полните,гьнь.й слой полцос нориСя. При это в Ос.о образуется такая же п как и в 1 ополцительцом.Осаждсццс основного и те пного слоя хрома пр двух ванн производят ра две операции, а при налц вацны - в одне операцию. 1. Способ пористого хромц ци 51 двоиныз 1)сакимо., Осяжд отличающийся тем. чт целью ускорения процесса по ния требуемого качества и пор сти осадка, наносят вначале о цой слой хрома при высокой ности тока (80 в 2 адле) и т ратуре (6 О - /о), а затем вМо 110680 цию. Отв. редактор Л. Г. Голандский Стандартгиз. Подп. к печ. 3/1-1958 г. Объем 0,125 и. л. Тираж ЗЗО. Цена 25 коп. Гор. Алатырь, типография М 2 Министерства культуры Чувашской АССР. Зак. 284 слой 0,01 - 0,02 мм) при обычном режиме пористого хромирования и производят дехромирование обычным методом.2, Способ по п.1, отличающ и й с я тем, что осаждение основного и дополнительного слоя хрома производят при наличии двух ванн раздельно в две операции, а при наличии одной ванны - в одну опера
СмотретьЗаявка
574069, 01.06.1957
Аробелидзе А. К
МПК / Метки
МПК: C25D 5/14
Метки: двойным, осаждения, пористого, режимом, хромирования
Опубликовано: 01.01.1957
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-110680-sposob-poristogo-khromirovaniya-dvojjnym-rezhimom-osazhdeniya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ пористого хромирования двойным режимом осаждения</a>
Предыдущий патент: Способ электролитического фрезерования соединительных окон внутренних каналов в деталях из алюминия и его сплавов
Следующий патент: Способ получения железо-известкового спека
Случайный патент: Способ получения высокоплавкого полиамида