Способ копирования плоских и вогнутых гравированных дифракционных решеток
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
К АВТОРС Н. С. Красикова и А. М. ИижинСПОСОБ КОПИРОВАНИЯ ПЛОСКИХ Н ВОГИУТЫХГРАВИРОВАННЫХ ДИФРАКЦИОНИЫХ РЕШЕТОК Заявлено 28 февраля 1955 г. аа455196/2 Изготовление известными способами копий плоских и вогнутых дифракционных решеток, применяемых в спектральных приборах, сложно и требует дорогостоящего оборудования, при этом получаемые копии не отвечают предъявляемым к ним требованиям в отношении стойкости и разрешающей силы.Предметом изобретения является способ копирования плоских и вогнутых гравированных дифракционных решеток, обеспечивающий получение с одного оригинала большого числа копий-реплик, имеющих высокую разрешающую способность и устойчивых во времени.Способ состоит из нескольких операций, выполняемых в следующей последовательности.1. Получение негативного отпечатка поверхности дифракционной решетки на пленке полиметилметакрил ата. Раствор полимер а, например, в толуоле или в смеси бензола с ксилолом, каплями наносится на поверхность оригинальной решетки при ее вращении вокруг вертикальной оси. После испарения растворителя решетка нагревается до температуры 130 с последующим охлаждением и погружением в воду. Пленка, служащая для получения позитивного отпечатка, отделяется от поверхности решетки.2. Нанесение водного раствора желатина на стеклянную подложку при вращении ее вокруг вертикальной оси. Радиус кривизны подложки при этом должен быть равным радиусу кривизны копируемой решетки.3. Получение позитивного отпечатка поверхности дифракционной решетки на слое желатина. Стеклянная подложка погружается в воду, на слой желатина накладывается пленка с негативным отпечатком штрихов, после чего подложка извлекается из воды и помещается в центрифугу, где позитивный отпечаток штрихов получается под действием центробежной силы.4. Удаление с подложки пленки полиметилметакрилата путем ее растворения, например, в дихлорэтане.М 10620 Поверхность готовой копии для повышения коэффициента отражения покрывается алюминием в вакууме, Отпечаток закрепляется нагреванием его при температуре 180 - 200, после чего он становится устойчивым против воздействия воды. Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР Редактор В. М. Парнес Гр. 170Информационно-издательский отдел.Объем 0,17 п, л. Зак. 4186 Подп, к печ, 11 Хг.Тир. 650 Цена 25 коп. Типография Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР Москва, Петровка, 14.Предмет изобретения1. Способ копирования плоских и вогнутых гравированных дифракционных решеток, о тл и ч а ю щ и й с я тем, что, в целях получения стойких копий-реплик, имеющих высокую разрешающую способность, негативный отпечаток поверхности оригинальной решетки осуществляется на пленке полиметилметакрилата путем нанесения его раствора на оригинал, а последующее получение позитивного отпечатка достигается наложением этой пленки на влажный слой желатина, нанесенный на стеклянную подложку, удалением полимерной пленки, прогревом слоя желатина и дальнейшим алюминированием готовой прозрачной копии в вакууме для превращения ее в отражательную копию оригинальной решетки.2, Прием выполнения способа по и. 1, состоящий в том, что нанесение слоя полиметилметакрилата на оригинал и слоя желатина на стеклянную подложку осуществляется при вращении оригинала и подложки вокруг вертикальной оси.3. Прием выполнения способа по п, 1, состоящий в том, что получение позитивного отпечатка поверхности оригинала на слое желатина, нанесенного на подложку, осуществляется с помощью центробежной силы в центрифуге,
СмотретьЗаявка
455196, 28.02.1955
Красикова Н. С, Нижин А. М
МПК / Метки
МПК: G02B 5/18
Метки: вогнутых, гравированных, дифракционных, копирования, плоских, решеток
Опубликовано: 01.01.1957
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-107620-sposob-kopirovaniya-ploskikh-i-vognutykh-gravirovannykh-difrakcionnykh-reshetok.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ копирования плоских и вогнутых гравированных дифракционных решеток</a>
Способ получения штрихов на стеклянной подложке
Номер патента: 1106798
Опубликовано: 07.08.1984
Автор: Гуськов
МПК: C03C 17/22
Метки: подложке, стеклянной, штрихов
...из видов такой обработки - фигурная обработка. Лазерный луч черезмаску проектируется на обрабатываемую поверхностьдетали в нужном масштабе для получения фигурного изображения, повторяющего форму маски, Лазерный луч фиксируют на обрабатываемой поверхности, материал детали проплавливают и испаряют из. зоны рисунка Г 2 Д,Однако этим способом невозможнополучить изображение на прозрачныхматериалах.Наиболее близким к предлагаемомупо технической сущности и достигаемому результату является способ получения штрихов на стеклянной подложкепутем нанесения на ее поверхностьсветопоглощающего покрытия и облучения ее через маску лазерным лучом.Освещенная лазерным лучом часть покрытия испаряется и на подложке получают штрих. Оставшуюся часть...
Устройство для ультразвуковой обработки поверхностей плоских деталей
Номер патента: 1784450
Опубликовано: 30.12.1992
Авторы: Кудряшов, Раковщик, Сас
МПК: B24B 39/04
Метки: плоских, поверхностей, ультразвуковой
...Койцентратор 1-имеет отверстие 10 для смазки. Цилиндрический корпус 2 может бытьизготовлен иэ металлов, обладающих хорошей теплопроводностью, зубчатое колесо 4 50 и шестерня 8 из любых износостойких конструкционныхматериалов: деформирующие шары б изготовляются из закаленнойстали ШХ 15 или твердых сплавов. Обработку поверхности рекомендуется вести со смазкой,Устройство для ультразвуковой обработки поверхностей плоских деталей работает следующим образом,Цилиндрический корпус 2 с помещенными свободно в сепараторе 5 деформирумикрорельефа, а выполнение торца цилиндрического корпуса в виде. сепаратора с отверстиями для деформирующих элементов ющими элементами - шарами б устанавливают на поверхности обрабатываемой детали и вводят в него...
Способ получения изображения на полимерной подложке, преимущественно на полиметилметакрилате
Номер патента: 738456
Опубликовано: 20.06.1999
Авторы: Куликов, Немтинов, Пашков
МПК: G03F 7/04
Метки: изображения, подложке, полимерной, полиметилметакрилате, преимущественно
Способ получения изображения на полимерной подложке, преимущественно на полиметилметакрилате, включающий нанесение на поверхность подложки светочувствительного материала, формирование защитной маски, окрашивание пробельных участков поверхности подложки в растворе органического красителя, удаление защитной маски, отличающийся тем, что, с целью повышения качества изображения, перед нанесением светочувствительного материала на поверхность подложки последовательно наносят слой токопроводящей эмали и гальванический слой меди, а после формирования защитной маски проводят избирательное удаление нанесенных слоев.
Способ получения стеклянной пленки на подложке
Номер патента: 355114
Опубликовано: 01.01.1972
Авторы: Замотайлов, Лаврентьев, Лебедев
МПК: C03C 17/02, C03C 17/27
Метки: пленки, подложке, стеклянной
...пленок на подложке, заключающийся в смешении 5 с органическим растворителем стеклообразующих окислов, нанесении на подложку с последующим нагревом до температуры размягчения.С целью повышения качества покрытий 10 стеклообразующие компоненты используют в виде чистых элементов, которые перед напылением на подложку переводят в окислы в кислородной плазме.На чертеже показана схема нанесения по крытий.В корпусе 1 размещены по сфере к8, 4, в центре сферы находится подл Катоды выполнены из чистых элементов, например, РЬ, Я, окислы которых входят в состав стекла. При помощи ионизаторов 6 кислород ионизируется. Ионы кислорода бомбардируют катоды 2, 3, 4, взаимодействуют с распыляемыми с катодов атомами, образуя на подложке 5 стекло.Предмет...
Стекло для получения покрытий на керамических подложках
Номер патента: 550350
Опубликовано: 15.03.1977
Авторы: Артамонова, Жукова, Каплина, Кузина, Тарасов
МПК: C03C 3/10
Метки: керамических, подложках, покрытий, стекло
...расширения (КТР не выше 60 1 О - /град.), обладает неудовлетворительной адгезией к алюминию и его сплавам и непостоянством химического состава во времени, Кроме того, стекла указанного состава имеют высокую температуру варки (1300 С).гтаиболее близким по технической сущности и досигаехОму резульгату и ОписываютОму изобретению является стекло, включающее РЬО, ЯОз, ХпО, 1 чазО, К,О 12.Для этого стекла характерны также невысокая химическая устойчивость и ьысокий ко. эффциент термического расширения.Для повышеня химЧеской устойчивостиснижения коэффициента термИческого расширения стекла в стекло, включа;ощее РЬО, ЫОз,Артамонова, Т. С. Жукованагельский институт стеклаСвойства Показатели Температура варки, С Температура плавления, С К ТР...
Предыдущий патент: Способ осуществления экстракционной очистки фенолосодержащих сточных вод
Следующий патент: Колодочный тормоз
Случайный патент: Способ улучшения свойств абразивной массы на пульвер бакелите