Способ металлизации в вакууме диэлектрических
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
О П И С А Н И Е 196 Я 4ИЗОБРЕТЕН ИЯИ АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Соеетоаа Социалиотичеокиз РеооублииЗависимое от авт. свидетельстваЗаявлено 04 Л 1.1966 ( 1081486/22-1) Кл. 48 Ь, 13/02 исоединением заявки1 ПК С 23 сДК 621.793.14(088 риоритетпубликовано 16 Х.1967. Бюллетень11ата опубликования описания 21.И.1967 Комитет ло делам иаобретеиий и открытий ори Саеете Миииотрое СССРвторы обретения и А. А. Шубин К. В. Боль изический институт им. П, Н, Лебедева аявител ПОСОБ МЕТАЛЛИЗАЦИИ В ВАКУУМЕ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОВЕРХНОСТЕЙОблучение проводят только в течение времени, необходимого для образования следов конденсации, При продолжении облучения в процессе осаждения металла плотность плен ки будет меньше нормальной.Способ может быть применен для нанесения цинка, кадмия и индия, Для получения хороших слоев индия подложку достаточно освещать ультрафиолетовым светом в течение 10 15 - 20 сек,Предмет изобретения Известен способ металлизации в вакууме диэлектрических поверхностей, заключаю. щийся в том, что эту поверхность предварительно подвергают ионной бомбардировке тлеющим разрядом,Для получения покрытий высокого качества с зеркальным блеском предлагается обрабаты. ваемую поверхность или пары металла в на. чальной стадии процесса металлизации облучать ультрафиолетовым светом.Сущность способа сосгоит в том, что диэлектрическую поверхность или пары металла в начальной стадии процесса металлизации в гакууме облучают ультрафиолетовым светом. Этим создают начальные центры конденсации паров металла,Ультрафиолетовое освещение можно создать, например, при помощи вольфрамовой спирали, нагретой током до 2000 - 2200 С. Спосос металлизации в вакууме диэлектри.15 ческих поверхностей, оттичающиася тем, что,с целью получения качественных покрытий с зеркальным блеском, обрабатываемую поверхность или пары металла в начальной стадии процесса облучают ультрафиолетовым светом,
СмотретьЗаявка
1081486
К. В. Большова, А. А. Шубин Физический институт П. Н. Лебедева
МПК / Метки
МПК: C23C 14/02
Метки: вакууме, диэлектрических, металлизации
Опубликовано: 01.01.1967
Код ссылки
<a href="https://patents.su/1-196514-sposob-metallizacii-v-vakuume-diehlektricheskikh.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ металлизации в вакууме диэлектрических</a>
Предыдущий патент: Способ диффузионного титанирования стальныхизделий
Следующий патент: Способ диффузионного насыщения поверхности металлов и сплавов
Случайный патент: Дренирующее устройство облицовки оросительного канала