Способ получения сублимированных пленок из химических соединений в горячей камере

Номер патента: 859862

Опубликовано: 30.08.1981

Авторы: Кейсевич, Медвецкий

МПК: G01N 1/36

Метки: изготовлении, микроскопии, отслоения, пленки-подложки, препаратов, электронной

...что значительно усложняет процесс, увеличивает расход формвара и увеличивает брак. Кроме того, необходимо каждый раз готовить свежий раствор формвара, тщательно контролируя и подбирая его концентрацию, при,этом для облегчения отслоения пленки-подложкиЭаказ 7536/64 Тираж 907 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5Филиал П 1 П "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 приходится спеЦиально испольэовать стекла с неровной поверхностью, что ухудшает качество пленки-подложки.Цель изобретения - упрощение способа и уменьшение брака.Указанная цель достигается тем, что при осуществлении способа отслое. ния пленки-подложки при изготовлении препаратов путем погружения...

Номер патента: 1718004

Опубликовано: 07.03.1992

Авторы: Гордиенко, Дзюблик, Кузьменко, Медвецкий

МПК: G01N 1/28

Метки: микроскопии, пленки-подложки, приготовления, электронной

...воды. Фторотан на требует предварительной очистки, достаточно быстро растворяет исходный материал для пленки и не обладает какими-либо токсическими свойствами. применяется в медицинскои практике как наркотическое средство (для наркоза). Это определяет доступность указанного вещества, Фторотан не имеет каких-либо токсических свойств и совершенно безопасен для персонала при использовании его в качестве растворителя, В этом его основные преимущества по сравнению с такими используемыми растворителями, как хлороформ, дихлорэтанили диоксан. Растворение формвара во фторотане осуществляется до тех же концентраций, что и для известных растворителей (до 10/О), При этом фторотан не требует какой-либо очистки, растворение формвара происходит...

Номер патента: 199097

Опубликовано: 01.01.1967

Авторы: Абрамзон, Верхорубов, Иванюков, Крьшлв, Устинов, Фридман

МПК: C08F 2/04, G05D 23/00, G05D 7/00

Метки: реакторе, температуры

...с реактором, регулирование температуры, проводят при максимальном расходе охлаждающей жидкости в .конденсаторе .изменением расхода паров, отводимых в конденсатор,На чертеже дана схема устройства для реализации описываемого способа.В реакторе 1, загруженном пропанпропиленовой фракцией в виде жидкости и ее паров, протекает экзотермическая реакция полимеризации,пропилена,Тепло из системы снимают при помощи конденсации паров в кочденсаторе 2. В межтрубное пространство конденсатора подают воду, величину расхода которой выбираютисходя из условия обеспечения теплосъема при наивысшей интенсивности реакции. Конденсат насосом 3 возвращают в реактор. Очистку паровот полимера для предотвращения забиванияклапана и зарастания трубок конденсатора5...

Номер патента: 734632

Опубликовано: 15.05.1980

Авторы: Бутин, Горелик, Матвеев, Филипченков, Чепелев

МПК: G05D 23/19

Метки: дегидрирования, реакторе, температуры, углеводородов

...дегидрирования, требующих5больших скоростей циркуляции катализатора, заслонка устанавливается в положение"полностью открыто" и дальнейшее регулирование температуры становится возмож Оным лищь в сторону уменьшения последней,что снижает качество регулирования, аиногда лишает воэможнос;и регулированиятемпературы вообще,Цель изобретения - повышение точности устройства для регулирования температуры в реакторе дегидрирования.Поставленная цель достигается тем,что устройство содержит последовательносоединенные датчик расхода транспортируюОщего газа, регулятор расхода транспортирующего газа и исполнительный механизмна линии транспортирующего газа, последовательно соединенные датчик температурыв регенераторе, регулятор температуры в...

Номер патента: 975744

Опубликовано: 23.11.1982

Авторы: Левенталь, Литвинов, Масхулия, Персинин, Серебряков, Яровицин

МПК: C08L 33/10, G01N 23/225, G01N 25/14

Метки: исследовании, композиция, микроскопическом, пленки-подложки, полимерная, порошкообразных, электронно

...пленок является то, что при Оработе с большими увеличениями, когда требуется значительная плотностьтока электронного пучка, указанныепленки оказываются недостаточно устойчивыми и, кроме того, под действием дневного света они быстро делаются хрупкими и пребывание их насвету в течение нескольких часовдостаточно, чтобы пленки быстро разрушились в результате электронной р 0бомбардировки. Цель изобретения - улучшение стойкости пленки-подложки к электрон ному облучению и устранение агломерации частиц порошкообразных мате. риалов.Поставленная цель достигается тем, что полимерная композиция для пленки-подложки в электронно-микроскопическом исследовании порошкообразных материалов, включающая полимер и растворитель, в качестве полимера содержит...