Способ изготовления полупроводниковых диодов

Номер патента: 711947

Авторы: Корчков, Михайловский, Черепов

Описание

Способ изготовления полупроводниковых диодов путем нанесения на подложку определенного типа проводимости слоя диэлектрика, формирования в нем окон, создание области противоположного типа проводимости по отношению к подложке и контактов к ней, отличающийся тем, что, с целью уменьшения размеров p-n перехода и упрощения способа, формирование окон, создание области базы и контактов осуществляют путем электрического пробоя слоя диэлектрика при напряженности поля 105-107 В/см и плотности тока 106-107 А/см2.

Заявка

2652114/25, 31.07.1978

Институт физики полупроводников СО АН СССР, Новосибирский государственный университет

Михайловский И. П, Черепов Е. И, Корчков В. П

МПК / Метки

МПК: H01L 21/24

Метки: диодов, полупроводниковых

Опубликовано: 10.11.1999

Код ссылки

<a href="https://patents.su/0-711947-sposob-izgotovleniya-poluprovodnikovykh-diodov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления полупроводниковых диодов</a>

Похожие патенты