Ионоселективный электрод для определения ph

Номер патента: 1364966

Опубликовано: 07.01.1988

Авторы: Вишняков, Жуков, Петрухин, Урусов, Фирер, Цыганков

МПК: G01N 27/30

Метки: ионоселективных, мембран, поликристаллических, твердых, электродов

...перемешивании с последующим охлаждением, При плавлении смеси в присутствии серы в количестве 5 или 10 мас.7. электрод имеет худшую электродную функцию и предел обнаружения, а также большее время установления равновесного потенциала.Мембраны изготавливают следующим образом.Смесь порошков сульфидов серебра и соответствующего металла получают совместным соосаждением сульфидов из 0,1 М растворов (соотношение 1:1) нитрата серебра и нитрата свинца, Например, осаждение проводят О, 1 М раствором сульфида натрия, причем осадителя берется 5-107 избыток, Полученные осадки тщательно отмываются раствором азотной кислоты и затем дистиллированной водой до отрицательной реакции на сульфид-ионы и сушатся при 80 С. Высушенные осадки помещаются в...

Номер патента: 1453299

Опубликовано: 23.01.1989

Авторы: Вишняков, Жуков, Капин, Краснощеков, Урусов, Фирер, Цыганков

МПК: G01N 27/30

Метки: ионоселективных, мембран, поликристаллических, твердых, электродов

...мВ. Данные по селективности приведены в таблице,Время установления оавновесногопотенциала от 30 с до 2 мин в течениедлительного времени (до б мес ),Таким образом, способ получениямембран позволяет повысить стабильность потенциала ионоселективныхэлектродов . Способ получения поликристаллических твердых мембран ионоселективных электродов путем сплавления суль.фидов серебра с сульфидами тяжелыхметаллов в атмосфере инертного газа,о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, сцелью повышения стабильности потенциала электродов и окислительной устойчивости, сплавление производят вприсутствии графита, полученногопредварительным пиролизам углеродсодержащего растворителя,Электрод/К На БРеСД РЪМп, 10-4 5, 10- 3 100 10-3 Сц-СЭ Мешает 5,5 10 5,7 10 5 10 1,1...

Номер патента: 1040400

Опубликовано: 07.09.1983

Авторы: Алагова, Кравченко, Матерова, Стефанова, Шевченко

МПК: G01N 27/30

Метки: ионоселективного, контактом, промежуточного, слоя, состав, твердым, электрода

...природы ОстальноеПромежуточный слой готовят следую.- щим образом,Мембранную композицию (поливинил- ъ 5 хлорид," дибутилфталат, - соль .тетрадециламмония 1:3:0,09) растворяют в тетрагидрофуране (ТГФ). В массу до" 3,0-6,55 Т а б л. и ц а 1 О. 60 20 50 36 9 10 208 . 211 2 7 208 08 0 дс, мв Таблица Время нахождения электрода в 0,01 М На СХО, сут 1 0 540 360 5 0 226 . 230 28 2 1 22 3 аб ли ае юева ФЬЮ 1 20 30 36 90 1 204203, 201 203 200 6 98 ЭДС Время нахождения электрод в 0,01 м Оа 003,сут Время нахождения элект . да в 0,01 М,НаБВ, сут бавляют соответствующие навескиЭИи Сц-форме, ЭИ"21 в Н-форме исажи. Смесь перемешивают и наносятна электронный проводник (графитовыйстержень) в качестве промежуточногослоя (толщина слоя . 1 мм)....

Номер патента: 1138726

Опубликовано: 07.02.1985

Авторы: Зегжда, Попов

МПК: G01N 27/30

Метки: ионов, ионоселективный, концентрации, марганца, растворе, электрод

...для З 5 измерения концентрации ионов марганца (11) в растворе, содержащем мембрану, состоящую из электродно-активного вещества и связующего - силиконового каучука, и токоотвод, в качест ве электродно-активного вещества использован пирофосфат марганца, а в состав связующего дополнительно введены кремнекислота и пероксимон Ф, при этом мембрана нанесена на марганцввую пластину, соединенную с токо- отводом и имеет следующий состав, мас.Е:Пирофосфат марганца . 50-60 Силиконовый каучук 30-37 Пероксимон Ф1-2 Кремнекислота Остальное На фиг. приведен предлагаемый электрод, осевое сечение; на фиг.2 графическая зависимость ЭДС электро да от концентрации марганца (11 ),Корпус электрода состоит из стеклянной трубки 1, в торцовой части 26...

Номер патента: 989439

Опубликовано: 15.01.1983

Авторы: Вишняков, Гласман, Жуков, Линник

МПК: G01N 27/30

Метки: ионоселективного, контактом, твердым, электрода

...на установкеУРМ,3,279,011. Не поднимая колпака,методом электроннолучевого испарениянаносится пленочный токоподвод притой жетемпературе соскоростью нанесения 25-35 нм/с втечение 600-700 секунд.Далее, после замены маски, в установке УВНУ 1 Пнаносится пленка ионочувствительной мембраны .АЯ:АцС 1методом взрывного" испарения с применением вибропитателя при вакууме(1,0-7,0)10 6 мм рт.ст температураподложки 120-150 С, скорость нанесе,ния 135-165 нм/с, время нанесения350-600 с.Приваркаи электроизоляцняосуществляются по примеру 1.П р и м е р 3 (вариант осуществления способа в приграничных областяхв сторону нижних пределов). На ситалловую подложку наносится пленочныйникелевый токоподвод с титановым подслоем по технологии, описанной в примере...