Звуков

Номер патента: 1726368

Опубликовано: 15.04.1992

Авторы: Звуков, Зонтов, Попенко

МПК: C01B 7/07

Метки: водорода, хлористого

...не ниже 25%. Верхний предел концентрации ЕеС 2 определяется концентрацией насыщенного раствора, равной 40,6%.П р и м е р 1. Колонку с подготовленным поглотителем подсоединяют к баллону с хлористым водородом и пропускают хлористый водород при комнатной температуре с расходом 300 ч (150 л/ч). После очистки хлористый водород подается в установку травления кремниевых пластин. Содержание воды в исходном хлористом водороде 1.10об.%, кислорода - 6 10 об.%, Содер1726368 Формула изобретения Способ очистки хлористого водорода отпаров воды, включающий пропускание его через слой поглотителя, представляющий 5 собой хлорид металла, нанесенный на твердый носитель, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью одновременной очистки от кислорода без...

Номер патента: 1678439

Опубликовано: 23.09.1991

Авторы: Вербецкий, Звуков, Зонтов, Митрохин, Попенко, Семененко

МПК: B01D 53/00, B01J 20/02

Метки: воды, газов, инертных, кислорода, удаления

...пропусканиа ээээл/мин Материал поглоти. телл эоды ЕклЭпп еодэ,С по точ ке осыода,С по точ ке 1 итсы-82 -82 -82 -82 -82 -82 0,002 0.003 0.003 0 002 0.002 0.002 Цеолит 14 эАЦеолит ЧзАЦеолит СаАЦеолит СэАЦеплит гтэХОголит 1 СА смесь 1.айэТ 1 ЕеТ)Ее1.аЮ 5Т 1 СоТ 1 Ее, ТСо,1.ай 1 э1.ай 1 еОксу ма гэн а 15 15 30 30 30 30водят несколько раз. Затем приступают к поелощению воды и кислорода иэ инертных газов, пропуская их последовательно через слои поглотителя воды, поглотителя кислорода предлагаемого состава и снова погло тителя воды, Контакт поглотителей воды и кислорода проводят при 20-30 С.П р и м е р 1, Металлический сосуд из нержавеющей стали длиной 1000 мм и диаметром 60 мм, снабженный съемной крышкой 10 (с высококачественными...

Номер патента: 1664378

Опубликовано: 23.07.1991

Авторы: Атаманюк, Востриков, Гвоздков, Ерхов, Звуков, Кравецкий, Попенко, Скуратник, Филатов, Хохлов, Шепелев

МПК: B01D 53/26

Метки: водорода, осушки, хлористого

...что дает возможность при использовании его в электронной промышленности, в частности в эпитаксиальной технологии, получить увеличение выхода годных в ряде изделий до 150/.1 табл,и 1 10 об.% соответственно, охлаждаютздо минус 40-минус 70 С и пропускают через слои сополимера тетрафторэтилена с винилиденфторидом - фторопласта Фс диаметром волокна 1 мкм, толщиной 3 - 5 слоев при минус 40 - минус 70 С с линейной скоростью 5 см/с. Процесс ведут в установке низкотемпературной фильтрации патронного типа, в которой ткань нанесена на перфорированный патрон и прижимается к нему потоком газа. Остаточное содержание влаги в газе менее 1 10 об.0)ь. В течение более 5000 ч фильтрующий материал сохраняет свою химическую стойкость и прочностные...