Сиземин
Состав для отделки натуральных кож с естественной лицевой поверхностью
Номер патента: 1730170
Опубликовано: 30.04.1992
Авторы: Блинкова, Волошина, Гусева, Ждамарова, Масуренко, Овдин, Потапенко, Сиземин, Тюрина
МПК: C14C 11/00
Метки: естественной, кож, лицевой, натуральных, отделки, поверхностью, состав
...веществ в количестве более 0,9 мас,% и 0,2 мас.% соответственно нецелесообразно, так как дальнейшего улучшения свойств покрытий не происходит,Смесь полиоксиэтиленгликолевых эфиров нонилфенола получают оксизтилированием нонилфенола 18 моль окиси этилена в присутствии катализатора гидроксида калия при температуре 140 - 1 бО С и давлении 14 - 18 МПа.Технология приготовления состава заключается в следующем,Сначала приготавливают органоводный раствор поверхностно-активных веществ. В емкость загружают необходимые количества полиоксиэтиленгликолевых эфиров нонилфенола и добавляют моноэтиловый эфир этиленгликоля. Смешение компонентов проводят при постоянном перемешивании при температуре 50 С, Затем в емкость добавляют требуемые количества воды...
Способ очистки газов от высокодисперсных частиц пыли
Номер патента: 1017368
Опубликовано: 15.05.1983
Авторы: Алесковский, Лебедюк, Павленко, Павлова, Полякова, Резниченко, Сиземин, Стеценко, Ткалич, Шевцов
МПК: B01D 35/06
Метки: высокодисперсных, газов, пыли, частиц
...пыли. На 1 м газе подается в пределах 1 л воды, содержание же пыли в 1 м газ за составляет, как правило, не более нескольких десятков грамм). К тому же одноименная зарядка пыли и частиц воды не способствует коагуляции частиц пыли с каплями жидкости,Поэтому данный способ используется при невысоких требованиях к степени очистки50 газов, так как, одна ступень обеспечивает очистку газа на 96%. Для более высокой степени очистки газов нужно устанавливать дополнительные ступени, повторяющие55 операции первой ступени.Недостатком является также высокая интенсивностьпроцесса, а следовательно необходимость применения многоступенча. тых аппаратов и повышенный удельныйрасход орошающей жидкости,Цель изобретения - интенсификация процесса очистки...
Устройство для отвода газов
Номер патента: 480768
Опубликовано: 15.08.1975
Авторы: Блажко, Горб, Ерохин, Милевский, Осипенко, Пустовар, Сиземин
МПК: C21C 5/52
...приводит к уменьшению срока службы оборудования и нерациональному расходу охладнтеля,Предлагаемое устройство снабжено уста повленпой над верхним участком газоотвода емкостью с сепаратором и узлом для отвода пара, причем в стенке емкости на уровне днища выполнено отверстие для слива воды. Это обеспечивает надежность в работе и увеличе пие срока службы устройства.На фиг. 1 показано описываемое устройство; на фиг. 2 - то же, разрез по А - А на фиг. 1.Устройство для отвода газов выполнено в 25 виде вертикальной коробчатой конструкции 1 с внутренней полостью для прохода газов и паружпои полостью для охлаждающего агента, соединенной с горизонтальным газоотводящим патрубком 2, представляющим собой трубу в трубе, где по внутренней полости идут...