Миканадзе

Номер патента: 1647665

Опубликовано: 07.05.1991

Авторы: Иванов, Костромин, Миканадзе, Ритенберг

МПК: H01C 3/00

Метки: блок, резисторов

...витков в продольном направлении осуществляются расположенными внутри элемента двумя диаметрально противоположными рядами ребристых изоляторов 4. Ребристые изоляторы уложены на верхней Ы и нижней 6 полках держателя, Положение полок в радиальном направлении регулируется - они перед закреплением максимально раздвинуты так, что обеспечивают прияегание двух рядов ребристых изоляторов 4 по внутреннему диаметру кромок витков реально изготовленного резистивного элемента 2, Соприкасающиеся боковые стенки верхней Ы и нижней 6 полок держателя закреплены относительно друг друга отгибкой хлястиков (не обозначены) боковых стенок нижней полки 6 по уступам (не обозначены боковых стенок верхней полки Ы. На поверхностях верхней Ы и нижней 6 полок...

Номер патента: 1202715

Опубликовано: 07.01.1986

Авторы: Кочиашвили, Лоладзе, Миканадзе, Ткемаладзе

МПК: B23B 1/00

Метки: выбора, инструментального, рационального

...ТЗОК 4 обтачивают образцы при восьми различных скоростях резания Ч -Ч 8 в пределах 50 - 350 м/миц, каждый раз меняя пластины и производят подналадку инструмента. Обработку на каждой из скоростей резания производят це менее чем три раза, В проводимых опытах изменяют только скорость резания и марку инструментального материала, Прочие факторы процесса резания: глубина резания 1:, пода 1202715ча Я, время резанияостаются постоянными,После кратковременного н преде лах 1 мин резания с передней и задней поверхностей снятой со станкапластины тонким шлифованием с помощью прецизионной абразивной бумагиудаляют налипшие частицы обрабатываемого материала. При этом обнаружены неравномерно, расположенныеразличные по форме и размерам изъяны, четко...

Номер патента: 1049544

Опубликовано: 23.10.1983

Авторы: Анфимова, Броладзе, Виркадзе, Долидзе, Квеситадзе, Миканадзе, Турманидзе, Чанишвили

МПК: C12N 9/26

Метки: выделения, гиалуронидазы

...М трисбуфера (рН 7,5), а злюцию осуществляют 1 М МаСР в том же буфере ГЗ .Получаемый продукт обладает значительной чистотой,. однако при проверке чистоты выделенной гиалурснидазы методом злектрофореза установлено, что оца состоит из двух злектрофоретических фракций.Цель изобретения - повышение чистоты целевого продукта.Указанная цель достигается предлагаемым способом выделения гиалуронидазы из культуральной жидкостипатогенного штамма-продуцента путемосаждения Фермента этиловым спиртом в соотношении 1;1, отделенияи растворения осадка с последующейхроматографической очисткой на полисахаридном сорбенте, причем используют культуральную жидкость штамма БарЬу 0 ососсцв аЬцн 0-15, н качестве сорбента используют диэтиламинозтилцеллюлозу,...