Косевич
Способ получения оксидного покрытия на ниобиевых электродах для электрохромного индикаторного устройства
Номер патента: 1379345
Опубликовано: 07.03.1988
Авторы: Косевич, Малюк, Скатков, Сокол
МПК: C25D 11/26
Метки: индикаторного, ниобиевых, оксидного, покрытия, устройства, электродах, электрохромного
...- анодное покрытие. Полному устранению подтравливания способствует наложение переменного асимметричного напряжения аноди рования Повышение адгезии анодноокисного покрытия позволяет значительно повысить срок службы электрохромных устройств с ниобиевыми индикаторными электродами,Предлагаемый режим осуществленияспособа является оптимальным, Выходза пределы плотности тока, напряжения, времени анодирования, соотношения 40 анодного н катодного попупериодов переменного асимметричного напряжения и температуры отжига приводит к уменьшению адгезин покрытия к подложке,В таблице представлены примеры осуществления способа. Обработке подвергают ниобиевые электроды в виде фольги. После операции отжига их анодируют в водном растворе, содержащем Я...
Способ получения оксидной пленки на ниобиевых электродах электрохромного индикаторного устройства
Номер патента: 1227718
Опубликовано: 30.04.1986
Авторы: Дяконенко, Косевич, Малюк, Сокол
МПК: C25D 11/26
Метки: индикаторного, ниобиевых, оксидной, пленки, устройства, электродах, электрохромного
...нерастворяющихся электролитах.45 Структура поверхности оксидной пленки со стороны электролита приобрета" ет сотообразный характер, а норы пронизывают оксидную пленку в направлении, перпендикулярном ее поверхности. Между ниобиевым электродом и областью распространения пор в объеме оксидной пленки сохраняется буферный беспористый слой толщиной 20-30 нм. Вследствие такого строения пленки эа счет внутренней поверхности конусообразных пор, упирающихся вершиной конуса в буферный слой, удельная по 18 2верхность оксидной пленки со стороны электролита возрастает в несколько раз по сравнению с пленкой, отформованной без растворяющего ингредиента. Так как толщина буферного слоя не оказывает заметного влияния на удельную поверхность оксидной...
Рельсовая подкладка
Номер патента: 9291
Опубликовано: 31.05.1929
Автор: Косевич
МПК: E01B 9/54
...рельсовой подкладки, имеет целью устранить срезивание верхних горбылей при применении полукруглых шпал.На чертеже фйг, 1 изображает поперечный разрез. шпалы и подкладки; фиг, 2 - вид подкладки сверху; фиг, 3 - разрез подкладки по а - О на фиг. 2,Нижняя постель рельсовой подкладки имеет криволинейное очертание, соответствующее применяемым полукруглым шпалам. Плотное соприкасание подкладки и шпалы может быть достигнуто незначительной подтеской последней, или применением какой-либо упругой прокладки, например, толя. Для увеличения площади передачи давления от рельса на подкладку, таковая имеет горизонтальную площадку, Отверстия для костылей направлены радиально, для наклонной забивки последних, что имеет целью увеличить их сопротивление...