Патенты с меткой «плазмотронов»

Номер патента: 469224

Опубликовано: 30.04.1975

Автор: Ионов

МПК: H05B 7/18

Метки: виде, длина, дуги, плазмотронов, проводящего, резки, соплом, тонкостенного, цилиндра

...дуги приводит соответственно к уменьшению или увеличению управляющего сигнала, который подается на дополнительный регулируемый источник тока 10.Величина тока изменяется с изменением величины управляющего сигнала, причем с увеличением управляющего сигнала ток увеличивается, с уменьшением сигнала уменьшается.15 В соответствии с изменением тока дополнительного источника 10 изменяется ток, протекающий по тонкостенному цилиндру сопла плазмотрона, внутри которого горит дуга. Создаваемое током магнитное поле внутри цилинд ра (сопла) взаимодействует с собственныммагнитным полем разрядного тока, Направление токов выбрано так, что при взаимодейст.вии токов увеличивается магнитное давление, направленное к оси дуги. Из-за этой дополни тельной...

Номер патента: 538875

Опубликовано: 15.12.1976

Авторы: Быховский, Воропаев

МПК: B23K 35/40

Метки: катодов, плазмотронов, предварительной, сваркой, термохимических

...что рабочий ток можно менять в обе стороны.Например, катод, состоящий из вольфрамового держателя с активной вставкой из 1.а,Опрошедший предварительную обработку в соответствии с предлагаемым способом, обеспечивает стабилизацию и пространственную локализацию дуги при работе в аргоне как при увеличении тока от 5 до 200 А, так и при снижении тока в 40 раз (от 200 до 5 А), в то время как наиболее распространенные виды катодов обеспечивают стабилизацию дуги при изменении тока в обе стороны не более, чем в 5 раз.В качестве активной вставки используют окисел празеодима Рг,Ои без обработки в кислороде. Он обеспечивает надеж 1."ую работу в аргоне и пространственную стабилизацию дуги при изменении тока в обе стороны только в диапазоне 15 - 60 А....

Номер патента: 663511

Опубликовано: 25.05.1979

Авторы: Борисенко, Ментешашвили, Мцхетадзе, Осиашвили

МПК: B23K 9/08

Метки: испытания, плазмотронов

...- повышение ресурса ра;боты устройства путем обеспечения наиболеерационального перемещения плазменной дуги.Это достигается тем, что источник перемен.ного магнитного поля выполнен в виде двухсимметрично расположенных относительно аноЫ:, Ы:, ДФЫый),юаЕйФр ""ности его оси 9 к поверхности 2, ось его 9проходит через фокус 10 магнитного поля по.стоянного магнита.Устройство работает следующим образом,Зажигают плазменную дугу и включают магниты. Переменное магнитное поле между полю.сами 4 вызывает колебания плазменной дугииее конец движется по поверхности 2 анода 3.Этим достигается распределение тепла дуги навсю поверхность анода и облегчается его ох.лаждение. Колебания дугине передаются на ко.нец дуги, опирающийся на катод, если...

Номер патента: 1712089

Опубликовано: 15.02.1992

Автор: Болотов

МПК: B23K 9/00

Метки: источник, питания, плазмотронов

...8 (плазмотроном),1712089 40 45 50 Блок управления состоит из шунта 9, соединенного с нагрузкой 8 и неуправляемой анодной группой 6, задающего устройства 10, подключенного к шунту 9 и соединенного с входом реверсивного счетчика 11, Выход реверсивного счетчика 11 подключен к управляемой катодной группе 7.Устройство работает следующим образом.Напряжение сети посредством трансформатора 5 подается, на фазные емкости 1, 2, 3, 4, последние по цепи вторичная обмотка трансформатора 5 - диоды анодных групп 6, заряжаются до напряжения, равного максимальному фазному напряжению вторичной обмотки трансформатора 5. С помощью задающего устройства 10 устанавливают необходимое значение, тока в нагрузке 8.Устройство 10 начинает вырабатывать...