Патенты с меткой «основа»

Номер патента: 1832039

Опубликовано: 07.08.1993

Авторы: Антонов, Белошицкий, Валиуллин, Власенко, Жартовский, Кержнер, Козин, Нигматулин, Роман, Сыркин, Тюленев

МПК: A62D 1/00

Метки: активная, многоцелевого, назначения, огнетушащих, основа, порошков

...измельчать на 20 - 35% массы продукта меньше, а также не требуется тратить энергию на сушку продукта до содержания массовой доли воды менее 0,5%. Известно, что для высушивания1 т аммофоса с влажностью 0,8% до 0,4% требуется затратить 7,5 квт. час электроэнергии.1832039 Формула изобретенияАктивная основа для огнетушащих порошков многоцелевого назначФНИя, ВкЛЮчающая сульфатаммония, кремнийорганицеское вещество, алюмометилсилоксанолят натрия формуС Н,Яъ-О - Я-массовая доля активной основы требующей измельчения при получении порошка, 4 йтти/и 1 Известный (аналог) а.с,1142127 СульФат. аннония 10-60; органилсиликат натрия 0,2"2; ноноанноннйФосФат остальное 0,6-0,8 0,1-1 мм - 8021ненее 0,1 мн 202 80 йо содержаниявлаги не бо"лее 0,5 10,2 0,1-2...

Номер патента: 2000755

Опубликовано: 15.10.1993

Авторы: Калмыков, Кушхов

МПК: A61C 13/235

Метки: зубного, моделирования, основа, протеза

...(соответственно 9 и 10)и имеют сферические фиксаторы 11, закрепленные на их наружной поверхности. Навнутренней поверхности консольной пла 2000755стины 9 и промежуточной пластины 10 выполнены сквозные продольные пазы (соответственно 12 и 13, совпадающие по профилю и размерам со штангой 7), а каждая опора 5 имеет соответственно буртик 14 для взаимодействия с моделью коронок 3 и 4 Штанга 7 выполнена о виде пластины, профиль поперечного сечения 15 которой соответствует конфигурации продольных пазов 12 и 13 консольных и промежуточных опор 5 и 6. Накладка 8 со сквозным продольным пазом 16, конфигурация которой соответствует поперечному сечению штанги 7 (исходная длина штанги 7 достаточна для любого беззубого участка челюсти, подгоняется по...

Номер патента: 1753700

Опубликовано: 30.04.1994

Авторы: Бобров, Быков, Ворожцов, Игнатов, Корнюшина, Попов, Родина, Хан, Шишкина, Эль

МПК: C07D 241/38, G02B 5/30

Метки: 3-хлориндантрон-4, 4-дисульфокислота, области, основа, пленок, поляроидных, сверхтонких, селективных, термостабильных, формирования

3-Хлориндантрон-4,41-дисульфокислота формулыкак основа для формирования сверхтонких термостабильных поляроидных пленок, селективных в области 620 - 680 нм.

Номер патента: 1047302

Опубликовано: 20.06.1999

Авторы: Кислицин, Кривченкова, Перепелкин, Степанищенко, Хавкина

МПК: B32B 27/36, G03C 1/91

Метки: кинофотоматериалов, основа

Основа для кинофотоматериалов, состоящая из полиэтилентерефталатной подложки, промежуточного слоя на основе сополимера винилиденхлорида, бутилакрилата и итаконовой кислоты и подслоя, включающего желатину, отличающаяся тем, что, с целью улучшения адгезии основы к фотографическому эмульсионному слою и увеличения гарантийного срока хранения, она в качестве сополимера содержит сополимер винилиденхлорида, бутилакрилата и итаконовой кислоты, взятых в соотношении 75 : 23 : 2, в промежуточный слой дополнительно вводят алюмометилсиликонат натрияи поверхностно-активное вещество - натриевую соль сульфокислоты...

Номер патента: 1101028

Опубликовано: 20.06.1999

Авторы: Внукова, Зыков, Киселев, Лепилин, Перепелкин, Цыркина, Шульман

МПК: G03C 1/91

Метки: кинофотоматериалов, основа

Основа для кинофотоматериалов, состоящая из полиэтилентерефталатной подложки, промежуточного подслоя, включающего сополимер метилметакрилата и малеиновой кислоты с молекулярной массой 35000 - 40000 и с соотношением звеньев соответственно 7 : 3 и активный компонент, и желатинового подслоя, включающего желатину и о-фталевую кислоту, отличающаяся тем, что, с целью повышения адгезии основы к желатиновому эмульсионному слою, упрощения технологии ее изготовления и снижения токсичности, она в промежуточном подслое в качестве активного компонента содержит резорцин и бензиловый спирт и дополнительно натриевую соль алкил(C15 - C17)моносульфокислоты при следующем соотношении...

Номер патента: 1102372

Опубликовано: 20.06.1999

Авторы: Баблюк, Гнидаш, Лепилин, Перепелкин

МПК: G03C 1/91

Метки: кинофотоматериалов, основа

Основа для кинофотоматериалов, состоящая из полиэтилентерефталатной подложки, промежуточного слоя, выполненного из сополимера терефталевой кислоты, этиленгликоля и диэтиленгликоля, и подслоя, включающего гидрофильный сополимер, отличающаяся тем, что, с целью улучшения адгезии эмульсионного слоя к подложке и повышения стабильности фотографических свойств материалов во времени, она в подслое в качестве гидрофильного сополимера содержит сополимер метилметакрилата и малеиновой кислоты общей формулы Iгде m = 7;n = 3;мол.м. 35000 - 40000, и дополнительно содержит натриевую соль алкил (С15 -...

Номер патента: 1115602

Опубликовано: 20.06.1999

Авторы: Баблюк, Лепилин, Неделькин, Перепелкин, Сергеев

МПК: G03C 1/91

Метки: кинофотоматериалов, основа

Основа для кинофотоматериалов, состоящая из полиэтилентерефталатной подложки и адгезионного полимерного слоя, отличающаяся тем, что, с целью повышения адгезии желатинового эмульсионного слоя к подложке, упрощения технологии и улучшения условий труда при изготовлении основы, адгезионный полимерный слой выполнен из соединения формулыгде n = 2-3,с мол.м. 460-610 с наносом указанного соединения на подложку 0,12 - 1,2 г/м2.

Номер патента: 1181422

Опубликовано: 20.06.1999

Авторы: Баблюк, Меламед, Подгородецкий, Смаглова, Сорокина, Суворин

МПК: G03C 1/91

Метки: кинофотоматериалов, основа

Основа для кинофотоматериалов, состоящая из полиэтилентерефталатной подложки и последовательно расположенных на ней промежуточного слоя из сополимера этиленгликоля, диэтиленгликоля и терефталевой кислоты и верхнего слоя, включающего сополимер метилметакрилата и малеиновой кислоты, структурной формулы Iпри соотношении m : n = 7 : 3, ММ 35000-40000 и натриевую соль алкил (С15 - С17) моносульфокислоты, отличающаяся тем, что, с целью повышения адгезии и прочности эмульсионного слоя в верхнем слое, основа дополнительно содержит желатину, о-фталевую или малеиновую кислоту или их ангидриды при...

Номер патента: 1364053

Опубликовано: 20.07.1999

Авторы: Баблюк, Сорокина

МПК: G03C 1/91

Метки: кинофотоматериалов, основа

Основа для кинофотоматериалов, состоящая из полиэтилентерефталатной подложки и адгезионного слоя на основе сополимера этиленгликоля, диэтиленгликоля и терефталевой кислоты при молярном соотношении 0,5:0,65:1 и молекулярной массы 27000-30000, отличающаяся тем, что, с целью повышения прочности и адгезии эмульсионного слоя к подложке, повышения гарантийного срока хранения основы, а также упрощения технологии ее изготовления, основа дополнительно содержит в адгезионном слое привитой сополимер желатина, фталевой кислоты и этиленгликоля формулы Iгде n:m:p = 3:0,5:14, молекулярная масса равна 100000-200000,или...