Патенты с меткой «осесимметричной»

Номер патента: 439879

Опубликовано: 15.08.1974

Авторы: Агеев, Алексеевский, Иванов, Иноземцев

МПК: H02K 1/22

Метки: вращения, осесимметричной, поверхностью, сверхпроводящей, тела

...света для нарушения сверхпроводящего состояния упомянутого участка.На чертеже показан один из возможных вариантов реализации описываемого способа,Вращение осесимметричного тела - сферического ротора 1 - вокруг вертикальной оси осуществляют следующим образом, Вначале ротор в отсутствие магнитных полей переводят в сверхпроводящее состояние и взвешивают в криогенном подвесе, Затем импульсно включают соленоиды 2 и синхронно с их включением импульсными источниками 3 световой энергии осуществляют локальный нагрев участков поверхности сферы, переводящий эти участки в нормальное состояние. Соленоиды могут быть включены поочередно, Сфера начинает вращаться в сторону совмещения осей нормальных участков с осями магнитного поля.10 При выключении...

Номер патента: 647028

Опубликовано: 15.02.1979

Автор: Диманис

МПК: B21C 25/10

Метки: матрицы, осесимметричной, скрепленной

...расчетом,чтобы его контактные поверхности полностью перекрывали сопряженные поверхности обоймы 3 и конической встав-.ки 1, Контактные поверхности сердечника 2 перед впрессовкой его в ф)коническую вставку 1 должны бытьомеднены, В процессе запрессовкиконической вставки 1 происходитавтофретирование обоймы 3, что обеспечивает более высокую несущую способность матрицы.После запрессовки коническойвставки 1 в обойму 3 матрицу подверагают маслоотпуску при 1 150-160 Св течение 2-3 часов для выравнивания контактных напряжений, возникающих при запрессовке,Величину натяга под запрессовкуконической вставки 1 с сердечником2 рассчитывают из условия, чтобы 35величина контактного давления наразъеме обойма-вставка при запрессовке была больше, чем...

Номер патента: 781632

Опубликовано: 23.11.1980

Авторы: Ахмеров, Ибрагимов, Махмудов, Смирнов, Харитонов, Шутас

МПК: G01L 7/08

Метки: двойной, кривизны, металлических, одинарной, осесимметричной, стабилизации, упругих, характеристик, чувствительных, элементов

...или деформаций. У циклически идеальных материалов ширина петли гистерезиса в подобных опытах не меняется,781632 20 Формула изобретения фнг фиг. г а у циклически разупрочняющихся материалов она увеличивается, Принадлежность материала к названным типам зависит от упруго-пластических свойств, вида предварительных холодных и термических обработок. Задание асимметричного цикла нагружения, при котором приведенные напряжения от растягивающей силы (будем ее считать направленной в сторону рабочего прогиба УЧЭ лри эксплуатации) Ьр превосходят по величине соответствующие напряжения от сжимающей силы Ь,а Р п.сглор ю те о Р ) о ПР р приводит для всех материалов,по мере накопления числа циклов нагружения "и", к росту дейормации в направлении...

Номер патента: 997910

Опубликовано: 23.02.1983

Авторы: Герлинг, Гот, Рудольф, Хиллер

МПК: B21D 22/16

Метки: детали, металлической, осесимметричной, полой, толстостенной

...своим торцом к поводкому патрону 3.При опускании суппорта заготовка 6, вращаясь, обрабатывается по схеме обратного ротационного выдавливания давильным приспособлением 5, которое установлено на необходимый диаметр обработки. При этом осуществляется уменьшение диаметра заготовки и одновременно выполняется внутренний буртик 7. Крутящий момент от привода передается заготовке поводковым патроном.После выполнения внутреннего буртика7 поводковый патрон отделяется от заготовки, а крутящий момент привода передается заготовке через уступ ее внутреннего буртика от давильной оправки. С этого момента до окончания процесса заготовка обрабатывается по схеме прямого ротационного выдавливания: выполняется вытяжка средней части заготовки с образованием...

Номер патента: 1053196

Опубликовано: 07.11.1983

Авторы: Глазман, Ерухимович, Мамчиц

МПК: H01Q 19/12

Метки: антенны, двухзеркальной, облучающее, осесимметричной

...того, центральный стержень закреплен Ь трубке с воэможностью 50 его осевого перемещения.При этом трубка закреплена на оси малого зеркала с воэможностью ее осевого перемещения. 3. Устройство по пп. 1 и 2, о тл и ч а ю щ е е с я тем, что, трубка закреплена на оси малого зерка.- ла с воэможностью ее осевого перемещения. На чертеже представлена конструкция предлагаемого устройства.. Облучающее устройство двухзеркальной осесимметричной анТенны со-. держит облучатель 1 и блок согласования в виде металлического диска 2, закрепленного на трубке 3 и снабженного навитым вокруг ее центрального стержня. 4 спиральным элементом осевого излучения, один конец спирали 5 которого замкнут на металлический диск 2, а на конце центрального стержня 4...

Номер патента: 1260705

Опубликовано: 30.09.1986

Авторы: Кащенко, Музыченко

МПК: G01M 7/00

Метки: испытания, оболочки, осесимметричной

...испытаний, а именно к способу испытания осесимметричной оболочки, и может быть использовано для исследования тонкостенных оболочек на устойчивость при импульсном осевом сжатии. Цель изобретения - повышение достоверности результатов испытания за счет сокращения длительности импульса сжатия.На фиг.1 показана схема испытания оболочки (исходное положение элементов перед нагружением); на фиг,2 - то же, момент нагружения; на фиг.З - то же, окончание нагружения.Способ осуществляют следующим образом.Осесимметричную оболочку 1 устанавливают одним из торцов на основании 2, устанавливают на другой торец оболочки 1 ударник в виде диска 3 и воздействуют на оболочку 1 импульсом сжатия путем импульсного нагружения центральной части диска 3....

Номер патента: 1328847

Опубликовано: 07.08.1987

Авторы: Арсенин, Сковорода

МПК: G21B 1/00

Метки: амбиполярной, высокотемпературной, ловушке, осесимметричной, плазмы, стабилизации

...оценивается по кулоновскому времени рассеяния электронов в конус потерь.Оценка необходимого уровня энергетических затрат для двух конкретных примеров встречных пробок,образованных двумя парами круглых катушек, приведена н таблице, Первый вариант характерен для экспериментальной практики, второй - для реакторных приложений, Приведенные оценки мощности надо рассматривать как максимальные, Это связано, в первую очередь, с выбором размера области неадиабатичности 1 , Имеется целый ряд эффектон, которые могут существенно снизить величину 1.В разработанных проектах реакторов температура электронов существенно превышает укаэанные в таблице, так что потери из области неадиабатичности превышают потери из адиабатической области, Для уменьшения...

Номер патента: 1415107

Опубликовано: 07.08.1988

Авторы: Журавлев, Кащенко, Киселева, Музыченко

МПК: G01M 7/00

Метки: динамическое, испытания, оболочки, осесимметричной, сжатие

...3 в виде диска, устанавливае,мого на свободный торец оболочки 2, ,соударяемый с центральной частью ударника 3 боек 4, размещенную между ударником 3 и свободным торцом оболочки 2 разрушаемую проставку 5 и ограничительный цилиндр 6. Устройство работает следующим образом.Импульсное нагружение центральной , части ударника 3 создается предварительно разогнанным бойком 4. При соударении бойка 4 с ударником 3 проставка 5 разрушается. Длительность импульса определяется временем разрушения проставки 5 при движении ударника Э иэ исходного положения фиг.1) до положения, в котором ударник 3 . упирается в ограничительный цилиндр 6 (фиг.3)Сокращение длительности ударного импульса позволяет эначительно снизить изгиб свободного торца оболочки 2, а...

Номер патента: 1424082

Опубликовано: 15.09.1988

Авторы: Ашукин, Басилая, Поляк, Синкевич

МПК: H01Q 1/12

Метки: антенны, двухзеркальной, контррефлектора, образующей, осесимметричной, осью, параболической, подвеска, смещенной

...фиг. 1 изображена осесимметричная двухзеркальная антенна со смещенной параболической образующей (ан О тенны ЩЭ), общий вид; на фиг. 2 - узел подвески контррефлектора; на фиг. 3 - разрез А-А на фиг. 2; на фиг.4 - ножевая вставка с постоянным по длине сечением; на фиг. 5 - то же, 1 с переменным по длине сечением.Подвеска контррефлектора 1 антенны АДЭ выполнена в виде штанг 2, одни концы которых закреплены на облучателе 3 или опоре облучателя 4, а другие - по краю контррефлектора 1 или конструкции 5, на которой он закреплен.Часть каждой штанги 2 выполнена в виде ножевой вставки 6, пересекаю щей фокальное кольцо 7 в радиальной плоскости контррефлектора 1. Ножевая вставка 6 может быть выполнена с постоянным по длине сечением (фиг. 4)...

Номер патента: 1555022

Опубликовано: 07.04.1990

Авторы: Радюк, Титлянов

МПК: B21D 26/02

Метки: гидростатической, осесимметричной, формовки

...деформировании,Зафиксировав подпор на определенной глубине, нагружают до определенного давления, Смещают подпор надругую глубину и вновь нагружают додругого определенного давления, После удаления подпора изменяют гидростатическое давление с шагомР =2= 0,5 кг/см до разрушения. При этомпосле каждого давления производятзамер толщины по точкам вдоль радиуса заготовок. Путем математическойобработки полученных экспериментальных данных получают соотношения (1)и (2), Так как полученные экспериментальные точки не поддаются описаниюодним выражением на всем интервалеизменения Б/В, то принимается разбиение Б/О на два интервала: 0,1Я/Э0,175 и О, 175 Б/Б 0,25, для каждого из которых получено отдельноевыражение Г(ЯВ).Способ осуществляется...

Номер патента: 1563810

Опубликовано: 15.05.1990

Авторы: Радюк, Титлянов

МПК: B21D 26/02

Метки: детали, заготовка, осесимметричной, сферы, типа, формовки, части

...штамповкой в закрытом штампе в холодном или паротом состоянии или раскаткой роликом, Далее деформируем полученную разеО - толщинную заготовку до необходимо глубинь лунки. После замера толщиеы в точках вдоль радиуса изделия устанавливаем, что разнотолщинность с с - тавляет 8-107 Проведя аналогичьк действия, получаем второе приближение распределения исходной толщины. И:,готавливлем новую исходную разцотолщинцую заготовку и деформиру"и до зя;.ле 1- ной глубины лукки. 811 ове замеряем распределение толщины изделия. Рл.)ноЗз толщинность снижается до 2-37 Тр.тье приближение распределения тол)цины вдоль радиуса исходной заготовки позволяет добиваться разцотолшинност40 менее 1 Е.Испытав соответствующим образом несколько заготовок с различным зцл...

Номер патента: 1687337

Опубликовано: 30.10.1991

Авторы: Болгов, Мошнин, Однодушный, Ромашко, Соловьев, Стоянов, Толстиков

МПК: B21D 41/02

Метки: заготовки, осесимметричной, полой, раздачи, штамп

...оправки к оси штампа принимают большим угла трения, в пределах а-18 и а/2- 4 - 9. Угол наклона клиновых выступов сек 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 торов пуансона ф/2 и соответственно угол наклона граней пирамидальной полости диска 7 больше угла наклона грани пирамидальной оправки на величину до 5, что необходимо для того, чтобы при рабочем ходе оправки до начала радиального перемещения секторов пуансона (от центра) обеспечивается опережающий вывод пирамидальной полости диска 7 из контакта с клиновыми выступами секторов.Штамп работает следующим образом.Исходной заготовкой служит полая кованая или штампосварная обечайка. В исходном положении нижняя плита 5 с установленным на ней пуансоном 4 и пирамидальной оправкой 3 вместе со...

Номер патента: 1802301

Опубликовано: 15.03.1993

Авторы: Алексеев, Бейгельзимер, Богданов, Спусканюк

МПК: G01L 1/00

Метки: деформации, напряженно-деформированного, осесимметричной, параметров, пластической, состояния

...На подготовленные поверхности с использованием соответствующих клише и приспособлений типографской краской наносили координатную сетку с шагом 5 мм (следует отметить, что нанесение рисок может осуществляться путем царапания, резания и другими способами). В сушильном шкафу при температуре порядка 100 проводили сушку краски, после чего на плоскости наносили защитный слой лака, Далее половины собирали, скрепляли их струбцинами, центровали с обеих торцов, на одном конце протачивали заходный конус с углом 20 и шип с цилиндрической поверхностью ,О 30 мм для зажимного кольца, на противоположном конце перпендикулярно оси сверлили отверстие 5 мм под скрепляющий штифт. На подготовленные таким образом места устанавливали с натягом закимное...