Патенты с меткой «обработкиполупроводниковых»

Номер патента: 851556

Опубликовано: 30.07.1981

Авторы: Скворцов, Тузовский, Устыменко, Щербина

МПК: H01L 21/461

Метки: двусторонней, обработкиполупроводниковых, пластин

...находящихся в обработке, не ограничивается,и более высоким качеством обработкн,"так как словил обработки любой точки пластины идентичны 31.Однако интенсивность и качествообработки, определяемые скоростьюобработки,и удельным давлением на абразив, ограничиваются предельной величиной удельного давления, допускаемого с одной стороны прочностью ленты - носителя абразива, а с другой -5максимально допустимой глубиной нарушенного слоя обрабатываемого материала,Цель изобретения - повышение производительности и качества обработки.указанная цель достигается тем,что в устройстве для двустороннейобработки полупроводниковых пластин,содержащем базовые плиты и расположенныемежду ними носители абразива и 15сепаратор, выполненные : виде бесконечных...