Патенты с меткой «f2-центров»
Способ создания f2-центров окраски в активной среде лазера
Номер патента: 1463098
Опубликовано: 20.08.1999
Авторы: Лобанов, Лурье, Максимова
МПК: H01S 3/16
Метки: f2-центров, активной, лазера, окраски, создания, среде
Способ создания F-2-центров окраски в активной среде лазера на основе LiF, включающий обучение -квантами в интервале доз 5 105 - 106 Gy, отличающийся тем, что, с целью формирования осесимметричного профиля поглощения F-2-центров окраски в активной среде, перед облучением -квантами проводят облучение электронами в интервале доз 106 - 5 106 Gy...