Патенты с меткой «аподизирующих»
Способ изготовления аподизирующих диафрагм
Номер патента: 1098409
Опубликовано: 15.04.1985
Авторы: Иванченко, Лукишова, Марголин, Федоров, Чернышева
МПК: G02B 5/20
Метки: аподизирующих, диафрагм
...пропусканием на краю апертуРыв случае-установок требуются громоздкие свинцовые экраны переменнойтолщины,В связи со сложностью этого метода облучение образцов с целью полу чения аподизирующих диафрагм ведется с помощью электронных пучков с энергией 1,5-5 МэВ,Однако при таком способе половина облученных.образцов разрушается из за невозможности стекания заряда из толщи диэлектрического образца (глубина проникновения электронов с энергией Г =1,5-5 МэВ в стекло и прозрачные кристаллы, используемые в оптике,Юсоставляет 3-10 мм).В облученных материалах появляется либо разрушение, либо образуются дефекты структуры, выражающиеся в том, что возникает градиент показателя преломления от центра к периферии образца, приводящий к ухудшению расходимости...
Материал для активных элементов лазеров, пассивных лазерных затворов и аподизирующих диафрагм
Номер патента: 1123499
Опубликовано: 09.06.1995
Авторы: Васильев, Волкова, Исянова, Лобанов, Максимова, Парфианович, Симин, Цирульник
МПК: H01S 3/16
Метки: активных, аподизирующих, диафрагм, затворов, лазерных, лазеров, материал, пассивных, элементов
МАТЕРИАЛ ДЛЯ АКТИВНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ЛАЗЕРОВ, ПАССИВНЫХ ЛАЗЕРНЫХ ЗАТВОРОВ И АПОДИЗИРУЮЩИХ ДИАФРАГМ на основе монокристалла LiF с центрами окраски, содержащего ионы гидроксила OH-, отличающийся тем, что, с целью повышения КПД лазера при комнатной температуре, он дополнительно содержит примесь кислорода О-- при следующем соотношении ингредиентов, мол.ОН- 10-1 1О-- 10-3 10-2LiF Остальное