Устройство для дозирования резиста

и 983463 ОПИСАНИЕИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз СоветскихСециалистическихРеспублик(61 Дополнительное к авт. свид-ву(22) Заявлено 10. 07, 81 (21) 3314260/18-10 1)М К э 6 01 Г 11/32 с присоединением заявки ЙГосударственный комитет СССР по делам изобретений и открытий(088.8) Опубликовано 23.1282, Ьоллетень Но 47 Дата опубликования описания 2312.82(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДОЗИРОВАНИЯ РЕЗИСТА 1Изобретение относится к дозирующим устройствам, используемым преимущественно в микроэлектронике, и предназначено для нанесения реэиста в авто-, матическом режиме при проведении процессов литографии в планарной технологии изготовления изделий микроэлектроники.Известно устройство дпя нанесения заданной порции резиста на полупроводниковые пластины, содержащее мерную камеру, клапаны периодического действия и систему управления клапанами ( 11.Однако иэ-эа образования пленки на дозирующих элементах при дозировании резиста указанное устройство не обладает достаточной точностью и вос.проиэводимостью процесса доэирования, .е, при длительиой работе доэатора не обеспечивается сохранение точнос; ти дозы, формы капли (или струи) резиста, выдаваемой дозатором, и направления движения капли (струи) резиста к пластине.Наиболее близким к изобретению по технической сущности является устройство для дозирования резиста, содержащее герметичный расходный бак, связанную с ним лозирующую камеру с форсункой и клапаном, магистраль подачигазФ под давлением в расходный бак( 2.Недостатком устройства являетсято, что при многократном дозированиина поверхности дозирующих элементовобразуется пленка реэиста. Эта пленка частично сьывается последующимидозами и попадает на подложку, в результате чего ухудшается качестворезистивного покрытия. Кроме того,загустевший резист, образующийся наповерхности дозирующих элементов,снижает точность заданной дозы и ухудшает воспроизводимость процесса дозирования, а при работе дозатора в ав-,томатическом режиме требуются периодические остановки для ручной очисткидозирующих элементов от сгустков,Целью изобретения является повышение качества резистивного покрытия засчет промывки и сушки форсунки и кла. пана после каждого цикла доэирования.Цель достигается тем, что устрой,ство для дозирования резиста, содер жащее герметичный, расходный бак, связанную с ним дозирующую камеру с форсункой и клапаном, магистраль подачигаза под давлением в расходный бак,снабжено магистралями промывки и судаки, сборной камерой, приводом переме 983463 4.щения дозирующей камеры иэ положениядоэирования в положение промывки и сушки, а также механизмом,для герметичного поджима дозирующейкамеры к сбОрной, а отверстие в корпусе дозирующей камеры и наружная 5поверхность форсунки выполнены конической Формы, при этом в нижней частиФорсунки выполнена выточка для образования с корпусом кольцевого зазора, к .которому подсоединены магистра ли промывки и сушки,На Фиг.1 показана функциональнаясхема устройства для дозирования ре-.эиста; на фиг.2 - разрез А-А на фиг.1.Устройство содержит герметичныйрасходный бак 1, магистраль 2 подачигаза под давлением, форсунку 3 с размещенным в ней дозирующим клапаном4. Форсунка 3 установлена в корпус5, ебразующий с ней конический кольцевой зазор б, к которому подведенканал 7 для подачи растворителя реэиста ,и канал 8, проходящий по касательной к коническому кольцевомузазору б для подачи технологическогогаза.Устройство снабжено приводом 9 перемещения из положения 10 выдачи ревиста в положение 11 промывки и сушки, а также сборной камерой 12 и механизмом 13 для герметичного поджима дозирующей камеры к сборной в положении промывки и сушки. Реэист врасходной полости 14, образованнойкорпусом 15, диафрагмой 16 и Форсункой 3, заперт дозирующим клапаном 4, 335управляемым приводом 17. Расходнаяполость соединена с баком 1 черезФильтр 18. Герметичный расходный бак19, содержащий растворитель резиста,соединен с коническим кольцевым зазо ром 6 трубопроводом 20 через обратныйклапан 21. Для подачи технологического газа к каналу 8 предусмотрена магистраль 22 с.пневмоклапаном 23 и обратным клапаном 24. Для создания дав ления в баках 1 и 19 предусмотренаустановка пневмоклапанов 25 и 26. Всяконструкция устройства смонтирована .вустановке нанесения реэиста, где настолике 27 устанавливается пластина 28,Устройство работает следующим образом;В исходном состояния, т.е. в промежутке времени между выдачей дозреэиста, устройство находится в положении 11 промывки и сушки резистаи прижато механизмом 13 к сборной камере 12. После установки пластины 28на. столик 27 выключается механизм 13поджима, включается механизм 9 пере 60мещвния и устройство перемещается вположение 10 выдачи реэиста, Привключении пневмоклапана 25 создается избыточное давление в расходномбаке 1 Резист через фильтр 18 посту пает в расходную полость 14, Одновременно с созданием избыточного давления в расходном баке 1 включается на заданное время привод 17, поднимающий дозирующий клапан 4 на отрегулированную величину. В образовавшийся кольцевой зазор между доэирующим клапаном 4 и форсункой 3 поступает реэист, который в виде струйки выливается на пластину 28. После одновременного отключения пневмоклапана 25 и привода 17 доэирующий клапан 4 возвращается в исходное положение и запирает реэист. Затем включается механизм 9, который отводит устройство в положении 11 промывки и сушки. В этом положении механизмом 13 устройство опускается вниз и герметично закрывает корпусом 5 сборную камеру 12;включаются пневмоклапаны 23 и 26, уп-. равляющие промывкой и сушкой. Через пнемпоклапан 26 поступает очищенный технологический газ, создающий избыточное давление в расходном баке 19 с растворителем резиста. Растворитель по трубопроводу 20 поступает в конический кольцевой зазор б через обратный клапан 21Одновременно в зазор 6 по трубопроводу 22 через пневмоклапан 23 и обратный клапан 24 подается очищенный технологический газ.Спустя заданное время, пневмоклапаи 26, управляющий подачей растворителя, отключается. Обратный клапан 21 запирает растворитель, а продолжающий поступать сжатый газ в канал 8 удаляет иэ конического кольцевого зазора 6 остатки растворителя, сушит форсунку 3, выступающуючасть дозирующего клапана 4 и внутреннюю полость корпуса 5. Через заданное время отключается пневмоклапан 23. Устройство снова готово к нанесению резиста.Введение в устройство для дозирования и выдачи резиста периодической очистки поверхностей доэирующих элементов от сгустков резиста позволяет улучшить качество наносимого реэистивного покрытия, т.е. снизить брак на основной многократно повторяемой операции планарного технологического процесса изготовления изделий микроэлектроники. Очистка поверхностей доэирующих элементов от сгустков реэиста не только исключает попаданйе твердых частиц размерами более 0,5 мкм на подложку с резистивным покрытием, а также способствует повышению точности и воспроизводимости процесса дозирования з,а счет стабильной смачиваемости деталей доэирующих элементов резистом .и постоянства сечения кольцевого зазора между форсункой и доэирующим клапаном. Последнее, в свою очередь, гарантирует надежную работу устройства в автоматическом режиме.983463 Формула изобретения Заказ 9891/4 3, Подписное ВН Ти лиал ППП "ПатУжгород, ул.Про т" Г ектнаяУстройство. для дозирования резис-. та, содержащее герметичный расходный бак, связанную с ним дозирующую камерус форсункой и клапаном, магист раль подачи газа под давлением в рас,ходный бак, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения качества резистивного покрытия .за счет промывки и сушки форсунки и клапана после 10 каждого цикла дозирования, оно снабжено магистралями промывки и сушки, сборной камерой, приводом перемещения дозирующей камеры из положения дозирования в полбжение промывки и сушки, а 5 также механизмом для герметичногоподжима дозирующей камеры к сборной,а отверстие в корпусе дозирующей камеры и наружная поверхность форсункивыполнены конической формы, при этомв нижней части форсунки выполнена выточка для образования с корпусомкольцевого зазора, к которому подсоединены магистрали промывки и сушки.Источники информации,принятые во внимание при экспертизе1. Авторское свидетельство СССРМ 627331, кл. С 01 Г 13/00,2. Авторское свидетельство СССРР 552513, кл. О 01 Г 11/28, 1975