Устройство для литья пленки

Своз СоветскихСоциалистииескихРеспублик О П И С А Н И Е (и)64321 ОИЗОБРЕТЕН ИЯК дВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ 1) Дополиител авт, свид 49125/231)М,К Заявлено 28.0 рисоединеиием 1,77 (21) заявки И 5 С 5/О Гкударствеиный еемптет СССР ае делам нзеаретеней и открытей(2) Авторы изобретения льчевский Ю. В. Ко ский ордена Ленина политехническ) Заявитель ДЛЯ ЛИТЬЯ ПЛЕНКИ(54) УСТРОЙС одержащ толшинь2Изобретение относится к устройствам подложки, соединенный со станиной и с для изготовления пленочных покрытий и : первым торцом первого сильфона, второйможет быть использовано в радиоэлект- . торец первого сильфона соединен с перронной промышленности, вым торцом второго сильфона литейнаяИзвестно устройство, содержащее дат- головка соединена с вторым торцом вточик толщины пленки, датчик толщины под рого сильфона, а датчик толщины пленки ложки, соединенный со станиной и с пер- соединен с вторым торцом первого сильвым торцом первого сильфана, второй то фона и первым торцом второго сильфона, рец первого сильфона соединен с первым В предложенном устройстве датчики торцом второго сильфона 11,1. толщины пленки и подложки предпочтиПри использовании известного устрой та тельно выполнены в виде пар дроссельства для литья пленки не обеспечивается -сопло, нри этом входы дросселей соедипостоянство величины зазора между дат- нены с источником питания, выход дросчиком толщины пленки и отливаемой селя датчика толщины подложки соединенфпленкой что приводит к понижению ста- с входом первого сильфона, а выход дросбильности толщины отливаемой пленки т селя датчика толщины пленки соединен из-за смещения рабочей точки датчика с входом второго сильфона,толщины пленки. Ка чертеже приведена функциональнаяЦелью изобретения является повьчпе схема устронства.вие стабильности толщины отливаемой Устройство для литья пленки содержит пленки. станину 1 для подложки 2, литейную гоЭто достигается тем, что в известном ловкуЭ,фвторойсильфон 4,первьтйторец устройстве для литья пленки, с ем которого соединен с вторым торцом пердатчик толщины пленки, датчик вого сильфона 5, датчик 6 толщины подложки 2, датчик 7 толщины пленки. Датчик 6 толщины подложки 2 соединен механически со станиной 1 и с первым тор.цом первого сильфона 5, литейная гоповка 3 соединена с вторым торцом второгосильфона 4, а цатчик 7 толщины пленкиуединен с.первым торцом второго сильфона 4 и с вторым торцом первого си.ьфона 5. Датчик 6 толщины подложки 2соцержит первый цроссель 8, а датчик 1 о7 толщины пленки содержит второй цроосель 9,Междросселъная камера 1 О датчика 6толщины подложки соецинена с первымсильфоном 5, а междроссельная камера 1511 датчика 7 толщины пленки соединенас вторым снльфоном 4, Сопло 12 цаъчика 6 толшниы подложки расположено падподложкой 2, а сопло 13 цатчика 7 толщины пленки расположено над отливаемой 20пленкой. Питание на первый 8 н второй9 дросселя поступает от источника питания 14.Устройство для литЬя пленки работаетследующим образом ЯПрн изменении величины зазора междусоплом 12 н поверхностью движущейсяподложки 2, визва 1 щом изменением тол" "щины подложки,изменяется цавление вмежцроссельной камере 10 и соответст- Зовенно в первом сильфоне 5 Иа-еа изменения давления первый снльфон б либосжимается, либо растягивается, поднима ет прн уменьшении зазора или опускаетпри увеличении зазора второй снльфон 4 35вместе с подвешенной к нему литейнойголовкой 3 на величину изменения зазора. Одновременно на ту же величину смещается датчик 7 толщины пленки. Такимобразом, зазор между поцложкой 2 и ли 40тейной головкой 3 остается постоянным. При изменении величины зазора между соплом 13 цатчика 7 толщины пленки,вызванном изменением толщины пленки,причиной которого может быть, например,изменение текучести литейной жицкости,изменяется давление в междроссельнойкамере 11 и соответственно во второмсильфоне 4. Второй сильфон 4 срабатьвает и перемешает литейную головку 3 дотех пор, пока зазор между соплом 13 иповерхностью пленки недостигнет заданной величины.Формула изобретения1,3 Устройство цля литья пленки, содержащее датчик толщины пленки, атчик толщины подложки, соединенный сос аниной и с первым торцом первогосильфона, второй торец первого сильфонасоединен с первым торцом второго сильфона, о т л и ч а ю щ е е с я тем, чтос целью повьппения стабильности толщягы отливаемой пленки, литейная головкасоединена с вторым торцом второго счльфона, а датчик толщины пленки соединен,с вторым торцом первого сильфона и первым торцом второго сильфона,2. Устройство по п, 1, о т л и ч аю щ е е с я тем, что датчики толщиныпленки н подложки выполнены в виде пардроссель сопло, при етом входы цросселей соединены с источником питания, вьход дросселя датчика толщины подложкисоединен с входом первого сильфона, авыход дросселя датчика толщины пленкисоецинен с входом второго сильфона,Источники информации, принятые вовникание при экспертизе;1, Волв.ов С, С,.Основы автоматизации измерений, МСтандарты, 1974,с,. 99-аО 2.Составитедь Л. Адександровфактор, Е Подионова Телреи Ц, Бабуряа Корректор Е, Падаказ 7804/8 Тираж 821 ПодписноЦНИИПИ Госуцарственного комитет СССРпо дедам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская иаб., д, 475диад ППП фПатеитф, г. Ужгород, удПроектная, 4