Способ измерения деформаций

(57) Иизме и ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМПРИ ГКНТ СССР ТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТ(71) Харьковский авиационный институт им,Н. Е. Жуковского(56) Теокарис П. Муаровые полосы при исследовании деформаций. - М.: Мир, 1972,с. 324. ОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ДЕФОРМАЦИЙ обретение относится к контрольно- тельной технике, в частности к измеИзобретение относится к контрольноизмерительной технике, в частности к измерению деформаций твердых тел с применением реплик.Целью изобретения является расширение технологических возможностей путем исследования труднодоступных зон натурных конструкций.На фиг. 1 изображены приспособления, используемые для получения реплик исследуемой поверхности; на фиг. 2 - оптическая схема, используемая для регистрации рельефов реплик,На фиг. 1 и 2 показаны объект 1. шаровые опоры 2, матрица 3 с отверстием 4, реплика 5, опоры 6 для подложки 7 в виде оптически прозрачной пластины, рамка 8 со сквозным отверстием 9, шаровые опоры 10, идентичные установленным на обьекте 1, лазер 11, объектив 12, коллимирующая линза 13, объектив 14, фотопластинка 15.Способ осуществляется следующим образом. рению деформаций твердых тел с применением реплик. Целью изобретения является расш ирен ие технологических воэможностей путем исследования труднодоступных эон натурных конструкций, Указанная цель достигается за счет того, что на репликах копируют микрорельеф иследуемой поверхности до и после деформации, регистрируют его на одну фотопластинку, а расшифровку полученной информации ведут методами спекл-интерферометрии. Для получения реплик используют оптически прозрачный однородный материал и подложки в виде оптически прозрачных пластин равнойтолщины, 2 ил,На объекте 1 устанавливают три шаровые опоры 2. На эти опоры 2 устанавливают матрицу 3 с отверстием 4 и с помощью тарированных усилий прижима придают ей заданное положение относительно опор 2. В отверстие 4 матрицы 3 помещают размягценный оптически прозрачный материал, затем с внешней стороны выравнивают его подложкой 7 в виде оптически прозрачной пластины с эапрессовкой. В отверстии 4 матрицы 3 до достижения положения, когда подложка 7 войдет в контакт с опорами 6, прижав материал таким образом к исследуемой поверхности, выдерживают его до отверждения, затем отделяют полученную первую реплику 5 вместе с матрицей 3 и подложкой 7 от исследуемой поверхности и помещают в рамку 8 со сквозным отверстием 9, размещенную в оптическом измерительном устройстве, в качестве которого использован спекл-интерферометр,С помощью тарированных усилий приж ма матрице 3 придают заданное положе 1663414ние на шаровых опорах 10, идентичных установленным на объекте 1, Затем на первую реплику 5 го стороны подложки 7 подают через расширяющий объектив 12 и коллимирующую линзу 13 когерентное излучение от лазера 11. Рассеянное первой репликой 5 волновое поле направляют в объектив 14 и регистрируют на фотопластинке 15, После этого первую реплику 5 вместе с подложкой удаляют из матрицы 3 с отверстием 4. Объект 1 деформируют и повторяют вышеизложенную последовательность операций для второй реплики 5, При этом регистрацию волнового поля, рассеянного второй репликой 5, производят на ту же.фотопластинку 15, Расшифровку записанной на фотопластинке 15 информации ведут известными в спскл-интерферометрии методами. Формула изобретения. Способ измерения деформаций, заключающийся в том, что иэ пластичного материала получают первую реплику иследуемой поверхности, деформируют объект; получают вторую реплику исследуемой поверхности, поочередно регистрируют рельеф обеих реплик в оптическом измерительном устройстве и по отличиям в рельефе опреде ляютдеформации,отличающийся тем,что, с целью расширения технологических воэможностей путем. исследования труднодоступных зон натурных конструкций, на объекте предварительно устанавлива ют три шаровые опоры, для получения каждой реплики на эти опоры устанавливают матрицу с отверстием, помещают в него размягченный оптически прозрачный однородный материал, подложкой в виде оп тически прозрачных пластин прижимаютего к исследуемой поверхности, выдерживают до отверждения материала, отделяют его вместе с матрицей и подложкой от исследуемой поверхности. при регистра ции рельефов обеих реплик их устанавливают в оптическом измерительном устройстве на три шаровые опоры, идентичные установленным на объекте, для получения реплик используют подложки равной 25 толщины.Составитель В. КостюченкоТехред М,Морентал Редвкто ректор М. Демчик икити о-издательский комбинат Патент", г. Ужгород. ул.Гагарина, 1 оизводс з 2257 Тираж 390 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ ССС 113035, Москва, Ж, Раушская наб 4/5