Клиновое устройство к вальцам для обработки полимерных материалов

(19 29 В 7/5 ЕНИЯ ВИДЕТЕЛЬС РСКО К%14констриностроственно кторское бюро ния Киевскогообьединения О. Микуленок, Е.Ф ахер и С.В. Тарасо етельство СССР9 В 7/56, 1986. во СС 1983. 10 Изобретение нию для перерабо ций и резиновы оборудовании и ма производстве пол ческих изделий, в ных и смесител вальцах. повышеол имертво, обфиг. 1. ражате- верхноабочим ы клинь- зможноГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИПРИ ГКНТ СССР ИСАНИЕ ИЗОБР(56) Авторское сви1+1397293, кл. В 2 Авторское свидетельст СР М 65225, кл. В 29 В 7/56,(54) КЛИНОВОЕ УСТРОЙСТВО К ВАЛЬЦАМ ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОЛИМЕРНЫХ МАТЕ РИАЛОВ относится к оборудоваки полимерных компоэих смесей на валковом. жет быть использовано в имерных и резинотехничастности на смеситель- ьно-подогревательных Целью изобретения является ние качества перерабатываемой и ной композиции,На фиг. 1 изображено устройс щий вид; на фиг. 2 - разрез А - А наУстройство содержит клинья-от ли 1 и 2 с вогнутыми боковыми по стями, соответствующими р поверхностям валков 3 и 4. Вершин ев 1 и 2 соединены шарнирно с во(57) Изобретение относится к оборудованию для переработки полимерных материалов и резиновых смесей на валковом оборудовании и может быть использовано на смесител ьных и смесител ьно-подогревательных вальцах. Цель изобретения - повышение качества перерабатываемой полимерной композиции, Для этого вершины клиньев- отражателей соединены шарнирно, расстояние от поверхнссти валка (В) до верши клина, смонтированного над межвалковым зазором, выбрано по меньшей мере равным 1,36 расстояния от поверхности В до вершины клина, смонтированного под межвалковым зазором, а угол поворота каждого клина-отражателя от его продольной плоскости симметрии составляет не более величины, определяемой по приведенной в описании формуле, 2 ил. стью поворота вокруг оси 5, расположенной в минимальном межвалковом зазоре вальцов, Клинья 1 и 2 смонтированы в опорах 6 и 7 на траверсе 8 и фундаментальной плите 9 машины посредством направляющих, выполненных по дуге окружности с центром в оси 5, и снабжены со стороны их оснований приводами, например червячной парой (не показана). Передний валок 4 вальцов (либо оба валка 3 и 4) соединен с механизмом регулирования величины межвалкового зазора (не показан). Расстояние от поверхности вала 3 и 4 до вершины клина 1, смонтированного над межвалковым зазором, выбрано по меньшей мере равным 1,36 расстояния от поверхности валка 3 и 4 до вершины клина 2, смонтированного под межвалковым зазором, а угол поворота каждого из клиньев от их продольной верти 1641627кальной плоскости симметрии не более величины агс 1 д1где Нмин - расстояние от пов ка (3 и 4) до вершины клина 1Нмакс расстояние от пов ка 3, 4 до основания клина 1- длина дуги рабочей пов на-отражателя.Устройство работает сле зом. ерхности вал и 2;ерхности вали 2; ерхности кли щим об Клинья-отражатели 1 и 2 предварительно выставляют относительно заднего валка 15 3, после чего с помощью механизма регулировки межвалкового зазора устанавливают в необходимом положении передний валок 4. Такая подготовительная настройка устройства осуществляется в случае наличия 20 подвижного лишь переднего валка 4 и клиньев 1 и 2. Если возможность перемещения имеют оба валка, то выставляются как валок 3, так и валок 4 относительно клиньев, имеющих неподвижную ось 7 и установлен ных в неподвижных опорах 8 и 9. После включения приводного электродвигателя вальцов в один или оба клиновых зазора подают композицию, подлежащую переработке. Поскольку оба зазора работают не зависимо друг от друга, то можно обрабатывать либо различные композиции в каждом из зазоров, либо, например, одинаковую композицию, При достижении композицией вершины клина 1, установленного 35 под межвалковцм зазором, она попадает в расширяющееся пространство, образованное вершиной клина 2, установленного под межвалковым зазором, и одним из валков 3 или 4. В силу того, что безразмерная каор дината А., определяющая границу зоны деформации, где распорное усилие равно нулю, для полимеров не превышает величи-. ны 0,6, то для релаксационного расширения композиции при попадании в зону расшире ния необходимо, чтобы последнее было больше величины зазора между вершиной клина и поверхностью любого из валков на величину (1 + л ), т.е. не менее чем в 1,36 раз. При этом давление в этой области резкопадает до атмосферного и газовоздушные включения, имеющимися в композиции, движутся к периферийной части валков и затем - в атмосферу. При включении независимых приводов клиньев 1 и 2 изменяется геометрия клиновых зазоров, а значит - гидродинамика течения композиции. Ограничение угла поворота каждого из клиньев от их продольной вертикальной плоскости симметрии величиной. агар Нмакс Н минобеспечивает клиновидную форму зазора, при которой перерабатцваемая композиция движется по ходу вращения валков, и увеличивается зона активного воздействия валков на материал, осуществляется его дегазация и повышается качество перерабатываемой полимерной композиции Формула изобретения Клиновое устройство к вальцам для обработки полимерных материалов, содержащее два клина-отражателя с вогнутыми боковыми поверхностями, соответствующими рабочим поверхностям валков, соединенные вершинами и смонтированные один над, а другой под межвалковцм зазором по всей егодлине, отл ич а ю щееся тем, что, с целью повышения качества перерабатываемой полимерной композиции, вершины клиньев-отражателей соединены шарнирно, расстояние от поверхности валка до вершины клина, смонтированного над межвалковым зазором, выбрано по меньшей мере равным 1,36 расстояния от поверхности валка до вершины клина, смонтированного под межвалковым зазором, а угол поворота каждого из клиньев-отражателей от их продольной плоскости симметрии выбран не более аГСМ макс мин Н -Н 1У де Нмин - расстояние от поверхности в о вершины клина;Нмакс - расстояние от поверхности а до основания клина;11- длина дуги рабочей поверхностиа-отражателя.1 б 41 627 г,г Составитель Н. РухлядеваТехред М,Моргентал Корректор Н, Рев дактор Н ат Пооиавопственно-издательский комбинат "Патент". г. Ужгооод. чл.Гагаоина. 10 Заказ 1114 Тираж 389 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СС 113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5