Способ контроля процесса изготовления голографической дифракционной решетки

(19) 111) 5 О 4 С 02 ОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМ ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИИ ЕТ СССР ОТКРЫТИЙ ПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕ 3 1 и: ,ъ 1гФ рядке дифракции одного из ков, которыи интерферирую гируют на поверхности иэ емой решетки, совмещенном пары пучи дифра- отавливас одним одни из порядков д этой пары, пр водят при экр торо ракци ем из а.Назаре ение произ- второго пу анирован а ю щ и а л я тем ячев Д.Н., нтроля параешеток, полу- травлением поВИНИТИ 12, р 1 г. что,прост нственных часто но возможных дл решетки до данной длиряют интенорядке дифрак оторый совмеедел вол 1 записи , из ь в том первом сивност ции одн ис1 ого иэ пучко нулевым по пучка,акциинно с экотклоня пучоконачальядком диф одноврем ого пучка торо анир ЛЯ ПРОЦЕССАИЧЕСКОЙ ДИФлючающий изв первом пованием втоеряемый дио порядка ют из ракционныи т его перв рв ого равлени К АВТОРСКОМ,К СВИДЕТЕЛЬС(71) Институт полупровАН УССР(56) Беляков Л.В., ГорСресели О.М. Методы кометров дифракционных рчаемых фотохимическимлупроводников. Л., ДепУ 1438-76, 1976, с. 8,Там же, с. 3-8, 12,(54) (57) СПОСОБ КОНТР ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГОЛОГРА РАКЦИОННОЙ РЕШЕТКИ, в мерение интенсивности лью расширения обласИзобретение относится к оптическим элементам, а именно к днфракционным решеткам, и может быть использовано для контроля параметров, например глубины фазовой модуляции, глу бины рельефа, дифракционной эффективности голографических дифракционных решеток в процессе их изготовления.Известен способ контроля процесса изготовления голографической дифрак циониой решетки, основанный на измерении интенсивности в первом порядке дифракции пучка, который дифрагирует на поверхности изготавливаемой решетки.5Недостатком этого способа является необходимость использования для контроля дополнительного лазерного источникаКроме того, способ не обеспечивает контроля процесса иэго товления дифракционных решеток во всем возможном для данной длины волны записи интервале пространственных частот, Это обусловлено тем, что25 верхняя граница указанного интервала соответствует скользящему падению зондирующего пучка на рещетку. В то же время при реализации достаточно больших углов падения в рассматриваемой схеме в дифракционном спектре будет отсутствовать пучок первого порядка, который при других допустимых углах падения зондирующего излучения на решетку нес информацию о ее качестве. 35Наиболее близким к предлагаемому по своей технической сущности является способ контроля процесса изготовления голографической днфракционной решетки, включающий измерение 40 интенсивности в первом порядке дифракции одного из пары пучков, которые интерферируют и дифрагируют на поверхности изготавливаемой решетки, совмещенном с одним из порядков диф ракции второго пучка этой пары, причем измерение производят при экранировании второго пучка.В соответствии с этим способом среди прочего измеряют интенсивность 50 в том первом порядке дифракции одного из пучков, который совмещен со вторым порядком дифракции второго пучка. Данный способ позволяет использовать для контроля решетки тот , 55 же лазерный источник, который используется для ее изготовления, однако по указанным причинам, интервал пространственных частот ограничен ив этом случае.Цель изобретения - расширение области пространственных частот решетки до предельно возможных для даннойдлины волны записи .Поставленная цель достигается тем,что в способе контроля процесса изготовления голографической дифракционной решетки, включающем измерение интенсивности в первом порядкедифракции одного из пары пучков, которые интерферируют и дифрагируют наповерхности изготавливаемой решетки,совмещенном с одним из порядков дифракции второго пучка этой пары, при-.чем измерение производят при экранировании второго пучка, измеряют интенсивность в том первом порядкедифракции одного иэ пучков, которыйсовмещен с нулевым порядком дифракции второго пучка, а одновременно сэкранированием второго пучка отклоняют измеряемый дифракционный пучокпервого порядка от его первоначального направления.На фиг.1 показана оптическая схема установки для реализации предлагае.мого способа в случае изготовленияотражательной решетки; на фиг.2 -конструкция модулятора,Способ контроля процесса изготов"ления голографической дифракционной решетки реализуется следующимобразом.С помощью лазерного источникамикрообъектива 2, точечной диафрагмы 3, объектива 4 и плоского зеркала 5 формируется пара пучков б и 7,которые интерферируют и дифрагируютна поверхности изготавливаемой решетки 8, При этом направление распространения дифракционного пучкапервого порядка от пучка б совпадает с направлением распространениядифракционного пучка нулевого порядка от пучка 7 и противоположно нап- .равлению распространения самого пучка 6. Контроль процесса изготовлениярешетки 8 осуществляют путем измерения интенсивности в первом порядкедифракции пучка 6 с помощью фотоприемника 9 и регистрир;ющего устройства 1 О, Для этого при помощи модулятора 11, участок 12 которого непрозрачен, а участок 13 имеет коэффициент отражения 507 на длине волнызаписи, перекрывают пучок 7 и одно67334 Составитель В.КравченкоРедактор Т.Парфенова Техред М.Ходанич Корректор М.Пожо Заказ 5770/43 Тираж 501 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий13035, Москва, Ж, Раушская наб., д.4/5 Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул.Проектная,4 3 12 временно отклоняют измеряемый дифракционный пучок первого порядка на фотоприемник 9. Предлагаемый способ позволяет осуществить практически скользящее падение зондирующего излучения на решетку 8 при существовании измеряемого дифракционного пучка и благодаря этому существенно расширить область контролируемых пространственных частот.По предлагаемому способу производился контроль интенсивности дифракционного пучка первого порядка при записи рельефной решетки пучками Не Сд лазера ( д44161, р1 ОмВт/смф ) с пространственной частотой 9 = 2860 мм на монокристаллах СЙЯ в водном однонормальномрастворе КС 1,При этом величина оптимальнойплотности пропущенного заряда в дан 5 ных условиях составила 2,7 О Кл/см,-гЭИзвестным способом осуществить определение величины оптимальной плотности пропущенного заряда не представляется возможным так как )ф еред2080 мм .Таким образом, предлагаемый способ по сравнению с базовым объектомпрототипом позволяет расширить область пространственных частот до предельно возможных для данной длиныволны записи.