Способ получения слоя стекла
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
(19) 3 С СУДАРСТНЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ ИСАНИЕ ЗОБРЕТЕН Н АВТОРСНО 1(54) (57) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СЛОЯ СТЕКЛА изгазовой фазы путем осаждения на подложку нагретую до 300-500 С, смеси,включающей силан, легирующие примеси,кислород и газ-носитель, о т л и ч аю щ и й с я тем, что, с целью уменьшения разброса толщины осаждаемыхслоев и улучшения воспроизводимости,в смесь вводят пары хлорзамещенногоуглеводорода, молярное отношение ко-торого к силану составляет 0,5-2,0.1203046 Таблица 1 ТемпеПараметр осаждением слоев для способа Содеркаииекомпонентов,об. У. Эксрзтура осакпери- мспт известного предлагаемого деиия,осУсред- ненная Разброс толщпн Вид хлор" замещенного уг- лелодороазброс толщин, 3 Вели. чина Усред- ненная ск коостьсалол о пира по подростьосалдення,Л/мип о подланке о пиралокк де но. ия,/мин иняхлорзаме.щенного угле. водо. рода к си. лану 6 280 Трпи 50 Силан О, 1 о 10 с 1 ин 8,8 10 2 Лргон Остапьно То ке, чтопредыдущемтазе, но восфина - ттилфосфат и е 3 сосесто рпме- О,1 7 о То к 0,15 5 ВООСя рихл теле 250 слород 0 Изобретение относится к химическому осаждению диэлектрических слоев из газовой Фазы на подложку иможет быть использовано для получения изолирующих и пассивирующих слоев окисла и силикатных стекол в производстве полупроводниковых приборови .интегральных микросхем.Цель изобретения - уменьшениеразброса толщины осаждаемых слоеви улучшение воспроизводимости.Способ осуществляется следуюЮ 1 мобразом.Пластины кремния в количествеь24 шт, располагаются на гранях вращающейся пирамиды с резистивным нагревом, герметично закрываются металлическим колпаком и нагреваются доо450 С. После нагрева пластин черезотверстие в верхней части колпакав реактор в потоке газа-носителяподается смесь силана, легиру 10 щейпримеси ф,ФосФин, тр 1 тметилФосФат),кислорода и паров трихлорэтиленаПродукты реакции выводятся из реактора через отверстие в его нижней части и выбрасыьаются в вытяжную вентиляцию,После выдерживания пластин в парогазовой смеси в течение заданноговремени напуск реагентов прекращают,реактор продувают, поднимают колпак 5 и производят выгрузку пластин с пирамиды.Состав газовой смеси следующий, об. РСилан О, 1-0,4Кислород 0,5-510 Легирующаяпримесь 10 в ,10.3Газ-носитель Остальное ЮВ табл. 1 приведены режимы проведения способа и свойства полученного слоя; в табл. 2 - свойства слоев окисла и фосфорсиликатного стекла, полученных предлагаемым методом. Преимуществапредлагаемого спосо ба осаждения слоев окисла и силикатных стекол по сравнению с известными состоят в том, что при его применении в 1,5-2 раза уменьшается разброс толщины по подложке и в партии 25 обрабатываемых подложек, улучшаютсявоспроиэводимость процессов осаждения слоев окисла и силикатных стекол и внешний вид осаждаемого слоя.1203046 Продолжение табл 1 Содерканнекомпонентов,об,2 Эксперимент Параметр осаяденньк слоев для способа известнсго предлагаемого Разброс толщин,2Разброс толщнн, 2 ВелиУсредненнаяскоподокка ло пирамиде по подлокке по пиримпе Фосфин 8,8 1 О н Остальное 1,8 ан О,5 Енслород 2,6Фосфнн 8,8О 0,5 6,2 То ке Аргон Остальное 10 5 11,2 6 что и вущем составместо фостриметнлО, 12 8 зЭ Ь 0 55 2 8,5 Ь212 6,0 То я 1 Ь 17 СиланКислород О, 7 Ж5 12 6,5 250 Четырристьйле род ххлоугФосфин 8,8 10Аргон остальное .15 Силан 0,15 16 7,50 5Ь Хлорнстьйметнлен 106 род Э,О Тнрметилфосфат О, 1 17 20 1 Э 0 1,1 ргон остальное 18 18 1 а блица 2 сфорсиликатное стек ( Р 08 4 мас./) ПараметрСЛОЯ звестное предлагае,45-1,47 1,45-1,46 Показат еломлени Скоростьрастворенияв травителеА/с стекл 50 5 ДЛЯ ОКИСЛ ВН аказ 8380/28 Ти 56 ПодписноеФилиал ППП "Патент", г.Ужгород, ул.Проектная,Темпе, ратураосек дания,кС То ке, предыд ве, но фина- фосфат рость осаи- ДЕИИА А/мин Внд хлор- замещенного уг- леводоро- да Усредненная скорость осакленияАмнн чина моль. ного отно. ве ння хлор щенного угла. водо. рода к сп- лаву
СмотретьЗаявка
3654957, 29.07.1983
ОРГАНИЗАЦИЯ ПЯ А-7124
ДУХАНОВА ТАТЬЯНА ГРИГОРЬЕВНА, ВАСИЛЬЕВ ВЛАДИСЛАВ ЮРЬЕВИЧ, БОРИСОВА ВАЛЕНТИНА АРКАДЬЕВНА
МПК / Метки
МПК: C03C 17/02
Опубликовано: 07.01.1986
Код ссылки
<a href="https://patents.su/3-1203046-sposob-polucheniya-sloya-stekla.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ получения слоя стекла</a>
Предыдущий патент: Стекло для стекловолокна
Следующий патент: Способ упрочнения стеклянных микросфер
Случайный патент: Способ контроля качества материалов