Устройство для определения плотности металлических расплавов

) ныи Х Доклады 4, с899 210 во СС 1967. кое свидетель С 01 М 9/02 ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ АВТОРСКОМУ С(54) (57) УСТРОЙСТВО. ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕНИЯПЛОТНОСТИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ РАСПЛАВОВ,содержащее двухкапиллярный вакуумныйпикнометр, о т л и ч а ю щ е е с ятем, что, с целью повышения оперативности определения плотности металлических расплавов раэличных концентраций, оно снабжено вторьи вакуумнымдвухкапиллярным пикнометром, приэтом соседние капилляры пикиеметроврасположены в одной вертикальнойплоскости и соединены между собойтрубкой, расположенной вы(пе их, градуированной части;1158897 Изобретение относится к измерению плотности жидкостей и может бытьиспользовано для определения концентрационной зависимости плотности металлических распланов, 5Известно устройство определенияФконцентрационной зависимости плотности металлических расплавов, приготавливаемых без нарушения вакуумоиэолирующей оболочки с применениемареометра 13.Недостатками укаэанного устройства являются сравнительно низкая точность измерений, присущая ареометрическим методам, большой расход 5металла и ограниченный интервал концентраций, исследуемых после однойзаправки.Наиболее близким к предлагаемомупо технической сущности является уст ройстно для определения плотностиметаллических распланов, содержащеедвухкапиллярный вакуумный пикнометр 121,Недостатками устройства является 25сложность и трудоемкость определенияплотности металлических расплавовразличной концентрации беэ нарушения накуумоизолирующей Ьболочки,поскольку определение плотностей З 0расплавов различных концентрацийпроизводят с применением многократной заправки пикнометра расплавамиразличных концентраций.Цель изобретения - повышение оперативности определения плотностиметаллических расплавов различныхконцентрацийПоставленная цель достигаетсятем, что устройство для определения плотности металлических расплавов, содержащее двухкапиллярный вакуумный пикнометр, снабжено вторымдвухкапиллярным вакуумным пикнометром, при этом соседние капиллярь 45пикнометрон расположены в одной вертикальной плоскости и соединены между собой трубкой, расположенной выше их градуированной части.Яа чертеже. изображена схема предлагаемого устройствДва двухкапиллярных вакуумныхпикнометра, состоящие иэ нижних резервуаров 1 и 2, капиллярных трубок 3 - б с нанесенными на них метками 7 и 8, верхних резервуаров 9и 16 и трубок 11 и 12, служащих длязаправки прибора, соединены труб 2кой 13. Трубка 13 и соединяемые ею непосредственно капиллярные трубки 5 и 6 лежат в плоскости, расположенной ближе к наблюдателю, чем плоскость, н которой лежат капиллярные трубки 3 и 4. Капилляр 4 расположен пранее капилляра б, а капилляр 3 расположен левее капилляра 5 с точки зрения наблюдателя. Каждый из двух пикнометров, составляющих устройство, предварительно градуирован по объему относительно меток 7 и 8; Соединительная трубка 13 расположена выше градуированной части капилляров 5 и б.Устройства работает следующим образом.После предварительной термовакуумной обработки леный пикнометр заполняют одним расплавом, а правый - другим расплавом, и устройство отпаивают от вакуумной установки. Здесь расплавы - компоненты исследуемой жидкометаллической системы, Массы каждого из компонентов расплавов, находящихся в устройстве, известны, Устройство помещают в термастат со смотроными окнами. Устройство в термостате крепят на. раме не показана, которая обеспечивает возможность поворотов прибора вокруг осей Х-Х и У-М; Ось У- У перпендикулярна плоскости чертежа.Замерив с помощью катетометра уровни жидкостей распланон относительно меток 7 и 8, определяют объемы, занимаемые расплавами. Зная их массы, эпределяют плотности. Затем наклоняя устройство, например, по часовой стрелке вокруг оси -У, переливают по трубке 13 часть расплава из левого пикнометра в правый,Для ускорения гомогенизации расплавов устройство наклоняют вокруг оси Х-Х и, возвращая его обратно, переводят расплав по капиллярным трубкам 3 и 4 из нижних резервуа-. ров 1 и 2 в верхние 9 и 10 и обратно. Расположение капилляров 5 и 6 итруб ки 13 в плоскости, которая на чертеже лежит ближе к наблюдателю, чем параллельная ей плоскость, в которой лежат капилляры 3 и 4, обеспечивает возможность производить процедуру гомогениэации с помощью перемешивания так, чтобы капилляры 5 и 6 не заполнялись при наклонах вокруг оси Х-Х металлом и, следовательно, не1158897 Составитель Л,СвешниковаТехред Т.Маточка Корректс ор М, Самборская Редактор Ю.Ковач Заказ 357843 Тираж 897 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРФ по делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж; Раушская наб.д. 4/5 филиал ППП Патент ф г Ужгород, ул Проектная4 происходило неконтролируемого смещения расплавов. находящихся в разныхпикнометрах, через трубку 13,По окончании гомогенизации замеряют уровни поверхностей расплавовв капиллярах пикнометров относитеьно меток 7 и 8. По этим даннымрассчитывают убыль объема расплавав левом пикнометре и объем расплавав правом пикнометре. Зная плотностирасплавов в пикнометрах до перелива, определяют убыль массы в левомпикнометре и массу расплава в правом пикнометре. Затем рассчитывают:нравом пикнометре. Зная предыдущиесоставы расплавов в пикнометрах имаСсу расплава, переведенного из левого рнКнометра в правый, вычисляютсостав раствора, образованного вправомпйкнометре,Наклонив. устройство против часовой стрелки вокруг оси (-У, переводят часть расплава иэ правого,пикнометра в левый. Далее следуют те же операции, что и при предыдущем переливании, толькг правый и левый пикнометры меняются ролями.Таким образом изменяют концентрационный ход плотности во всем концентрационном интервале расплава дотех пор, пока составы в обоих пикнометрах не сблизятся между собой. Привсех переливах необходимо, чтобы 10 уровни расплавов при измерениях находились в градуированной части капилляров . Использование предлагаемого устройства позволяет исследовать плот ности металлических расплавов в вакууме во всем концентрированном интервале после одной заправки пикнометров исходными компонентов метал лов, что повышает оперативность конт" роля,при этом точность измерений за ви ит только от класса точности эрименяемых пикнометров. Кроме того, сокращается расход исследуемых ме таллов.